专利名称：一种雕刻凹版抛光设备的抛光头装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种抛光设备的抛光头装置。
背景技术：
表面光洁度是凹版印刷的一项重要质量指标，凹版在表面镀铬前需要进行 抛光。目前行业中采用手持式电动高速抛光机对凹版进行表面抛光，抛光时需 要使用油性抛光膏，抛光后需要使用溶剂(如汽油)及酒精进行清洗。在整个 过程中，手工抛光存在抛光质量不稳定的缺点，而且抛光轮的高速旋转、汽油 酒精的使用、化学粉尘的产生使目前的抛光工艺和设备存在安全、环保和健康 等方面的隐患。随着企业生产自动化程度的提高，需要提高抛光效率、保证凹 版的表面质量和一致性。 发明内容
本实用新型目的是提供了一种安全、环保、抛光效率高、抛光质量高的雕 刻凹版抛光设备的抛光头装置，其解决了现有技术抛光方法安全性差、存在环 保和健康隐患、抛光效率低、抛光质量低的技术问题。
本实用新型的技术解决方案为
一种雕刻凹版抛光设备的抛光头装置，其特殊之处在于所述抛光头装置 包括与雕刻凹版抛光设备的电动装置输出端连接的抛光头、设置在抛光头下端 面的抛光垫、设置在抛光头内部的抛光液管道系统；所述抛光液管道系统包括 设置在抛光液上端部的抛光液入口、设置在抛光头下端面的环形抛光液外槽、 用于连接抛光液入口和抛光液外槽的多个圆周均布的抛光液导向孔；所述抛光 液入口的上端与抛光液供应系统相连。
上述抛光液管道系统还包括设置在抛光头下端面上并与抛光液外槽同心的 环形抛光液内槽以及用于连接抛光液入口和抛光液内槽的多个圆周均布的抛光 液导向孔。
上述抛光液管道系统还包括设置在缓冲槽，所述缓冲槽的上端与抛光液入 口连接，所述缓冲槽的下端与抛光液导向孔相连。
上述抛光垫包括上层的带微孔聚酯纤维层和下层的帆布层。 本实用新型的优点是1、 抛光头若采用中间开直孔的方式，在抛光装置高速旋转时，由于离心力 的作用，带有一定粘度的抛光液将被滞留在直孔内壁上，流动将非常缓慢，同 时由于中间转速最低且抛光垫紧贴抛光头，抛光液很难从中间向外部的有效抛 光区域扩散，从而影响抛光效果。本实用新型采用泵加压实现抛光液供给，采 用围绕抛光装置的中心开若干倾斜的抛光液导向孔的方式，利用抛光过程中抛 光装置高速旋转的离心力，使抛光液均匀地顺着倾斜的抛光液导向孔流到抛光 垫上，使抛光液流动既稳定可靠又减少了浪费。
2、 本实用新型抛光时抛光液供应系统可实现抛光液自动供给，加上抛光装
置压力恒定以及抛光轮转速可调，可使凹版的表面光洁度从平均粗糙度Ra 60 nm
提高到Ra 20 nm。
图1为雕刻凹版抛光设备的俯视图2为雕刻凹版抛光设备和Z轴伺服机构的结构示意图； 图3为本实用新型抛光头的结构示意图4为雕刻凹版抛光设备的抛光液供应系统与抛光头连接的示意图。 其中控制系统-1，机架-2，调速电机-3，减速箱-4，抛光装置-5,恒压 控制气缸-6，抛光头-7，抛光垫-8，抛光液储存箱-9，缓冲槽-10，抛光液外槽 -11，抛光液管道-12、电控阀-13，流量控制阀-14，导向孔-15，抛光液内槽-16， 电磁吸盘-17，抛光液入口-18， X轴导轨-31、 X轴丝杠-32， X轴伺服电机-33， X轴拖链-34， Y轴左导轨-41、 Y轴右导轨-42、 Y轴丝杠-43， Y轴伺服电机-44, Y轴拖链-45，支撑架-51， Z轴导轨-52， Z轴伺服气缸-53。
具体实施方式
本实用新型抛光头装置安装在雕刻凹版抛光设备上，该雕刻凹版抛光设备 包括控制系统l、气动系统、机架2、 X轴伺服机构、Y轴伺服机构和Z轴伺服 机构、可在Z轴伺服机构的带动下沿着Z轴方向运动的抛光装置5;机架2上设 置有可吸紧凹版的电磁吸盘17;抛光装置包括设置在Z轴伺服机构上的恒压控 制气缸6、设置在恒压控制气缸上的电动装置、设置在电动装置输出端的抛光头 7、设置在抛光头7上的抛光垫8、可向抛光头7提供抛光液的抛光液供应系统； 抛光垫8包括上层的带微孔聚酯纤维层和下层的帆布层；抛光头7下端面还设 置有与抛光液外槽同心的抛光液内槽16，缓冲槽10与抛光液外槽11之间设置 有多个圆周均布的抛光液导向孔15,缓冲槽10与抛光液内槽16之间设置有多个圆周均布的抛光液导向孔15;抛光液管道系统还包括设置在抛光头7下端面 上并与抛光液外槽11同心的环形抛光液内槽16以及用于连接抛光液入口 18和 抛光液内槽16的多个圆周均布的抛光液导向孔15:抛光液供应系统包括抛光液
储存箱9、设置在抛光头内的缓冲槽IO、设置在抛光头7下端面的抛光液外槽 11，抛光液储存箱9和缓冲槽10之间设置有抛光液管道12、电控阀13及流量 控制阀14，电控阀13及流量控制阀14分别与控制系统1电连接，缓冲槽10和 抛光液外槽11之间设置有抛光液导向孔15; X轴伺服机构包括X轴导轨31、 X 轴丝杠32和X轴伺服电机33; X轴导轨的左端通过滚轮浮动支撑在Y轴左导轨 40上，X轴导轨31的右端可在Y轴丝杠43的带动下在Y轴右导轨42上移动， 控制系统1与X轴伺服电机33通过X轴拖链34电连接，X轴伺服电机33可带 动X轴丝杠32转动；Y轴伺服机构包括Y轴左导轨41、 Y轴右导轨42、 Y轴丝 杠43和Y轴伺服电机44; Y轴左导轨41和Y轴右导轨42分别固定在机架2的 左右两侧上方，Y轴丝杠43与Y轴右导轨42平行设置，控制系统1与Y轴伺服 电机44通过Y轴拖链45电连接，Y轴伺服电机44可带动Y轴丝杠43转动；Z 轴伺服机构包括可在X轴丝杠32的带动下在X轴导轨31上移动的支撑架51、 设置在支撑架51上的Z轴导轨52和Z轴伺服气缸53，抛光装置5与Z轴伺服 气缸53的活动端连接；控制系统l与电动装置电连接；电动装置包括调速电机 3和减速箱4;为了防止抛光液的溅入，Y轴右导轨42、 X轴导轨31上设置有保 护罩。
雕刻凹版抛光设备进行雕刻凹版抛光的步骤如下 1]将预处理过的凹版固定在雕刻凹版抛光设备的电磁吸盘上； 2]控制系统通过电控阀和流量控制阀控制抛光液供应系统向抛光头持续提 供抛光液；抛光液为水性抛光液，其包括96 99%水和1 4%磨料；磨料可采用 纳米氧化铝颗粒、纳米氧化硅颗粒或纳米金刚石颗粒。
3]控制系统通过X轴伺服机构和Y轴伺服机构的平面运动以及Z轴伺服机 构和抛光装置的垂直运动以及电动装置带动的抛光头的旋转运动，带动抛光垫 对凹版的全部区域进行恒压旋转式抛光；X轴伺服机构和Y轴伺服机构的平面运 动轨迹可采用横向弓字形、纵向弓字形、回字形运动轨迹中的一种或多种的结 合;抛光头的旋转速度为30 80转/秒；施加在抛光垫与凹版之间的压力为70-90 克/平方厘米；
4]抛光完毕，用软水清洗凹版。X， Y轴运动采用直线导轨导向，伺服电机提供运动动力，滚珠丝杠传递运 动动力的运动方式。Z轴运动导向为精密直线导轨，运动动力由低摩擦气缸提供。 抛光压力由低摩擦气缸提供，压力无级可调。抛光装置旋转由变速电机提供动 力，抛光装置转速可调。抛光装置采用浮动连接，浮动角度可以调节。抛光液 采用电控阀控制自动供给，与抛光装置随动运动。
权利要求1、一种雕刻凹版抛光设备的抛光头装置，其特征在于所述抛光头装置包括与雕刻凹版抛光设备的电动装置输出端连接的抛光头、设置在抛光头下端面的抛光垫、设置在抛光头内部的抛光液管道系统；所述抛光液管道系统包括设置在抛光液上端部的抛光液入口、设置在抛光头下端面的环形抛光液外槽、用于连接抛光液入口和抛光液外槽的多个圆周均布的抛光液导向孔；所述抛光液入口的上端与抛光液供应系统相连。
2、 根据权利要求l所述的雕刻凹版抛光设备的抛光头装置，其特征在于 所述抛光液管道系统还包括设置在抛光头下端面上并与抛光液外槽同心的环形 抛光液内槽以及用于连接抛光液入口和抛光液内槽的多个圆周均布的抛光液导 向孔。
3、 根据权利要求1或2所述的雕刻凹版抛光设备的抛光头装置，其特征在 于所述抛光液管道系统还包括设置在缓冲槽，所述缓冲槽的上端与抛光液入 口连接，所述缓冲槽的下端与抛光液导向孔相连。
4、 根据权利要求3所述的雕刻凹版抛光设备的抛光头装置，其特征在于 所述抛光垫包括上层的带微孔聚酯纤维层和下层的帆布层。
专利摘要本实用新型涉及一种雕刻凹版抛光设备的抛光头装置，它包括与雕刻凹版抛光设备的电动装置输出端连接的抛光头、设置在抛光头下端面的抛光垫、设置在抛光头内部的抛光液管道系统；其中抛光液管道系统包括设置在抛光液上端部的抛光液入口、设置在抛光头下端面的环形抛光液外槽、用于连接抛光液入口和抛光液外槽的多个圆周均布的抛光液导向孔；抛光液入口的上端与抛光液供应系统相连。本实用新型解决了现有技术抛光方法安全性差、存在环保和健康隐患、抛光效率低、抛光质量低的技术问题。具有安全、环保、抛光效率高、抛光质量高的优点。
文档编号B24B29/00GK201353723SQ200920009788
公开日2009年12月2日 申请日期2009年2月20日 优先权日2009年2月20日
发明者吕美蓉, 锋 康, 张克俭, 腾晓宇, 刚 马 申请人:中国印钞造币总公司;西安印钞厂;北京中钞钞券设计制版有限公司