专利名称：一种新型传动旋转端头的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及到一种传动旋转端头，尤其涉及到一种采用多层水密封装置和真空密封装置的传动旋转端头。
背景技术：
真空磁控溅射镀膜是当今镀膜工艺中镀膜质量最好，且应用最为广泛的一种镀膜工艺，目前普遍使用的是平面溅射阴极，由于平面溅射阴极只溅射固定的靶材区域，一定时间后会形成跑道状溅射区域，会影响后期镀膜的均勻性和稳定性。虽然目前也发明了一种溅射靶材能够旋转的溅射阴极，但由于该旋转溅射阴极结构复杂、靶材更换难、容易漏水漏气，造成生产周期长，维护次数频繁，获得的产品质量不稳定，产能效率低，使用成本高，不能满足目前高质量镀膜工艺生产的要求。
实用新型内容为了克服旋转溅射阴极结构复杂、靶材更换难、容易漏水漏气的技术缺陷，本实用新型发明了一种新型传动旋转端头。为了达到上述的技术目的，本实用新型的技术方案为提供了一种新型传动旋转端头，包括机座装置、驱动轴装置、中间水流输送装置、壳体，靶材，其特征在于，所述中间水流输送装置与驱动装置之间设置水密封装置，所述驱动装置与机座装置之间设置有真空密封
直ο根据上述的传动旋转端头，其中，所述中间水流输送装置末端的外缘上设置有开合螺母，通过开合螺母使靶材固定在驱动装置的末端。根据上述的传动旋转端头，其中，所述驱动装置与壳体之间设置有轴套支撑装置。根据上述的传动旋转端头，其中，所述机座装置的侧端还设有一条同步带，所述同步带的末端连接有水电连接装置。一种新型传动旋转端头，包括机座装置、驱动轴装置、中间水流输送装置、、壳体， 靶材，其特征在于，所述中间水流输送装置与驱动装置之间设置双排水密封装置，所述驱动装置与机座装置之间设置有双排真空密封装置。本实用新型的技术效果是设有可旋转的驱动轴装置，这样就可防止镀膜不均勻的现象，采用多道水密封装置和真空密封装置，可以防止漏水漏气现象，采用开合螺母，可以很方便的更换靶材，这就使得提高了靶材的更换灵活性，提高了旋转端头的密封性，还有更重要的是提高了旋转阴极的溅射功率，提高了旋转阴极的整体稳定性。为了更清楚的表述本发明，
以下结合附图对本实用新型做更进一步的说明。
图1为本实用新型的第一剖示图；图2为本实用新型的第二剖示图；[0013]1-机座装置；2-水密封装置；3-真空密封装置；4-驱动装置；5-水流输送装置；6-水电连接装置，7-壳体；8-开合螺母；9-双排水密封装置；10-双排真空密封装置；11-轴套支撑；12-靶材；13-同步带。
具体实施方式
本发明保护的是一种新型传动旋转端头，只要是本领域技术人员了解本发明实施例，不经过创造性的劳动，仅是同等技术的替换，都属于本发明的保护范围。如图1所示，在壳体7内设有机座装置1，机座装置1，所述机座装置1通过螺栓固定在壳体7上，在机座装置1内设置有驱动装置4，所述驱动装置4与机座装置1之间还设置有轴套支撑11，所述驱动装置4设置在轴套支撑11上，其中驱动装置4可以在轴套支撑11内旋转，在驱动装置4内轴向中心位置处还设有水流输送装置5，所述水流输送装置5 的一头末端与驱动装置4的一头末端通过螺栓固定在机座装置1上，所述驱动装置4的另一头末端通过开合螺母8连接靶材12，所述靶材12，所述水流输送装置5的另一头末端也设置在靶材12的内部。如图1和2所示，在驱动装置4与机座装置1的连接处还设有真空密封装置3和双排真空密封装置10，所述真空密封装置3和双排真空密封装置10的作用为防止漏气，保持镀膜阴极内的真空度，在驱动装置4与水流输送装置5的连接处还设有水密封装置2和双排水密封装置9，所述水密封装置2和双排水密封装置9的作用为防止漏水，影响镀膜效
果 ο如图1所示，在驱动装置4的侧端还连接有同步带13，同步带13的另一端连接有水电连接装置6，所述水电连接装置6通过同步带13向溅射阴极里的驱动装置4和水流输送装置5，用于带动溅射阴极的工作。
权利要求1.一种新型传动旋转端头，包括机座装置、驱动轴装置、中间水流输送装置、水连接装置、壳体，靶材，其特征在于，所述中间水流输送装置与驱动装置之间设置水密封装置，所述驱动装置与机座装置之间设置有真空密封装置。
2.根据权利要求1所述的传动旋转端头，其特征在于，所述中间水流输送装置末端的外缘上设置有开合螺母，所述开合螺母把靶材固定在驱动装置的末端。
3.根据权利要求1所述的传动旋转端头，其特征在于，所述驱动装置与壳体之间设置有轴套支撑装置。
4.根据权利要求1所述的传动旋转端头，其特征在于，所述机座装置的侧端还设置有一条同步带，所述同步带的末端连接有水电连接装置。
5.一种新型传动旋转端头，包括机座装置、驱动轴装置、中间水流输送装置、水连接装置、壳体，靶材，其特征在于，所述中间水流输送装置与驱动装置之间设置双排水密封装置， 所述驱动装置与机座装置之间设置有双排真空密封装置。
专利摘要本实用新型涉及到一种传动旋转端头，尤其涉及到一种采用多层水密封装置和真空密封装置的传动旋转端头，包括机座装置、驱动轴装置、中间水流输送装置、壳体，靶材，其特征在于，所述中间水流输送装置与驱动装置之间设置水密封装置，所述驱动装置与机座装置之间设置有真空密封装置。技术效果是防止镀膜不均匀的现象，防止漏水漏气现象，方便更换靶材，提高了靶材的更换灵活性和旋转端头的密封性，以及溅射功率和旋转阴极的整体稳定性。
文档编号C23C14/34GK201981252SQ20112002355
公开日2011年9月21日 申请日期2011年1月25日 优先权日2011年1月25日
发明者张俊峰, 魏庆瑄 申请人:上海子创镀膜技术有限公司