专利名称：清洗修整盘的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种用于抛光机的抛光台面上，对抛光台面进行清洗、修整的清洗修整盘。
技术背景在我们现有的技术中，用来对光学低通滤波器晶片进行抛光处理的抛光机，采用的是将需要抛光的晶片摆放在抛光下模上，通过内部电机带动传动轴转动，从而带动抛光下模呈行星运行模式转动，通过抛光上模对晶片进行抛光处理，在完成抛光工序后，由于抛光机的长时间工作，很容易导致抛光上模和抛光下模的接触面产生磨损，且由于长期抛光液的浸注也使抛光模具内产生很多的杂质，急需清洗，原有的清洗只是单纯的用清水冲刷，在很大程度上容易导致抛光模具内的死角有很多杂质的残留，从而影响后期抛光晶片的质 量。
发明内容本实用新型解决的技术问题是提供一种一次性完成抛光台面的清洗，以及抛光上模和抛光下模接触面处的修整的清洗修整盘。本实用新型解决其技术问题所采取的技术方案是一种用于对抛光机上的抛光台面进行修整、清洗的清洗修整盘，该清洗修整盘包括正面和反面，其中，所述正面为修整面，反面为清洗面，该清洗修整盘的外周边上开设有外齿，所述外齿与抛光下模上的内外传动齿啮合；所述修整面的中心开设有中心孔，在修整面的表面镀有金刚石层，且在所述修整面上开设有凹槽；所述清洗面的中心部位开设有滤液孔，在清洗面的表面通过线绳固定连接有刷毛，所述刷毛呈密集型的设置在清洗面的表面。进一步的，为了方便清洗液的流动，所述凹槽的个数至少为三个，且所述凹槽以修整面中心点位置为中心呈阵列状分布。更进一步的，所述凹槽的个数为六个。进一步的，在所述清洗面上为了保证清洗液能停留一段时间后再流走，所述滤液孔的个数为四个，且该四个滤液孔在清洗面的中心部位呈阵列状分布。本实用新型的有益效果是本结构具体采用的是使用偶数个清洗修整盘置于抛光下模内，且相邻两个清洗修整盘是正反面间隔摆放的，可以一次性完成抛光模具内的清洗以及抛光上模和抛光下模接触面的修整恢复工序，大大提高了抛光机的后期维护工作，保证后期晶片的抛光质量。
以下结合附图对本实用新型进一步说明。图I是本结构的正面示意图；图2是本结构的反面示意图；[0012]图3是本结构用于去清洗修整的抛光机结构示意图。图中1、修整面11、凹槽12、中心孔2、清洗面21、滤液孔22、刷毛3、外齿4、抛光机5、抛光上模6、抛光下模。
具体实施方式
如图I和图2所示一种用于对抛光机上的抛光台面进行修整、清洗的清洗修整盘，该清洗修整盘包括正面和反面，其中，所述正面为修整面1，反面为清洗面2，该清洗修整盘的外周边上开设有外齿3,所述外齿3与抛光下模5上的内外传动齿哨合；所述修整面I的中心开设有中心孔12，在修整面I的表面镀有金刚石层，且在所述修整面I上开设有凹槽
11;所述清洗面2的中心部位开设有滤液孔21，在清洗面2的表面通过线绳固定连接有刷毛22，所述刷毛22呈密集型的设置在清洗面2的表面。 进一步的，为了方便清洗液的流动，所述凹槽11的个数至少为三个，且所述凹槽11以修整面中心点位置为中心呈阵列状分布。更进一步的，所述凹槽11的个数为六个。进一步的，在所述清洗面2上为了保证清洗液能停留一段时间后再流走，所述滤液孔21的个数为四个，且该四个滤液孔21在清洗面2的中心部位呈阵列状分布。本结构具体采用的是使用偶数个清洗修整盘置于抛光下模内，对于滤波器晶片进行抛光处理是需要抛光机4的,在抛光机4上包括抛光上模5和抛光下模6, —般对于长期抛光的台面和抛光上、下模接触处会产生杂质以及抛光面不平整，需要定期的进行修整和清洗，本清洗修整盘采用的个数为四个，将该四个清洗修整盘放置在抛光下模内，外齿3与抛光下模6内的内外传动齿啮合，具体的摆放位置为相邻两个清洗修整盘是正反面间隔摆放的，可以一次性完成抛光模具内的清洗以及抛光上模5和抛光下模6接触面的修整恢复工序，大大提高了抛光机4的后期维护工作，保证后期滤波器晶片的抛光质量。需要强调的是，以上是本实用新型的较佳实施列而已，并非对此实用新型在外观上作任何形式的限制，凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
权利要求1.一种用于对抛光机上的抛光台面进行修整、清洗的清洗修整盘，其特征在于该清洗修整盘包括正面和反面，其中，所述正面为修整面(1)，反面为清洗面(2)，该清洗修整盘的外周边上开设有外齿(3)，所述外齿(3)与抛光下模上的内外传动齿啮合；所述修整面(I)的中心开设有中心孔(12)，在修整面(I)的表面镀有金刚石层，且在所述修整面(I)上开设有凹槽(11);所述清洗面(2)的中心部位开设有滤液孔(21)，在清洗面(2)的表面通过线绳固定连接有刷毛(22)，所述刷毛(22)呈密集型的设置在清洗面(2)的表面。
2.根据权利要求I所述的清洗修整盘，其特征在于所述凹槽(11)的个数至少为三个，且所述凹槽(11)以修整面中心点位置为中心呈阵列状分布。
3.根据权利要求2所述的清洗修整盘，其特征在于所述凹槽(11)的个数为六个。
4.根据权利要求I所述的清洗修整盘，其特征在于所述滤液孔(21)的个数为四个，且该四个滤液孔在清洗面的中心部位呈阵列状分布。
专利摘要本实用新型涉及一种清洗修整盘，其特征在于该清洗修整盘包括正面和反面，其中，所述正面为修整面，反面为清洗面，该清洗修整盘的外周边上开设有外齿，所述外齿与抛光下模上的内外传动齿啮合；所述修整面的中心开设有中心孔，在修整面的表面镀有金刚石层，且在所述修整面上开设有凹槽；所述清洗面的中心部位开设有滤液孔，在清洗面的表面通过线绳固定连接有刷毛，刷毛呈密集型的设置在清洗面的表面。本结构具体采用的是使用偶数个清洗修整盘置于抛光下模内，且相邻两个清洗修整盘是正反面间隔摆放的，可以一次性完成抛光模具内的清洗以及抛光上模和抛光下模接触面的修整恢复工序，大大提高了抛光机的后期维护工作，保证后期晶片的抛光质量。
文档编号B24B53/00GK202656064SQ20122024890
公开日2013年1月9日 申请日期2012年5月30日 优先权日2012年5月30日
发明者冷志红, 蔡灵玲 申请人:昆山明本光电有限公司