专利名称：抛光机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种抛光机，尤其涉及一种防止晶片被吸附在抛光上模表面的抛光机。
技术背景在我们现有的技术中，用来对光学低通滤波器晶片进行抛光处理的抛光机，采用的是将需要抛光的晶片摆放在抛光下模上，通过内部电机带动传动轴转动，从而带动抛光下模呈行星运行模式转动，通过抛光上模对晶片进行抛光处理，且，在抛光的过程中需要不断的由弯管处注入抛光液，这样，在完成抛光工序时，抛光后的晶片很容易由于抛光液的粘性导致晶片被粘接吸附在抛光上模的表面，从而影响抛光质量。
发明内容 本实用新型解决的技术问题是提供一种有利于抛光液流动，并防止晶片被吸附在抛光上模表面的抛光机。本实用新型解决其技术问题所采取的技术方案是一种抛光机，包括电机、支架、弯管、抛光上模、抛光下模和工作台，所述电机设置在支架的顶部，所述电机的伸出杆连接抛光上模，在抛光上模的上方设有抛光液进液机构，该抛光液进液机构主要包括沿伸出杆为轴心阵列分布的弯管，所述抛光下模设置在工作台上，该抛光下模的中心套接有传动轴，该传动轴底部连接到工作台内的电机，所述抛光上模的表面覆有一层抛光面板，在抛光面板上开设有凹槽，在所述抛光面板上还开设有通孔。进一步的，为了方便抛光液的流动，所述凹槽是由横向槽和竖向槽交错组成的，且横向槽和竖向槽的宽度相等。更进一步的，为了有利于抛光液能全面进入到抛光上模和抛光下模之间，所述通孔的个数至少为五个，且所述通孔在抛光面板上的分布是无规律的。本实用新型的有益效果是本抛光机用于光学低通滤波器晶片的抛光处理，开设的凹槽防止完成抛光后的晶片吸附在抛光上模表面，且有利于抛光液的流动，很大程度上提闻了晶片的抛光效果。
以下结合附图对本实用新型进一步说明。图I是本实用新型结构的示意图；图2是本实用新型中抛光上、下模的示意图；图3是本实用新型中抛光上模的表面示意图。图中1、电机2、支架3、弯管4、抛光上模41、抛光面板42、凹槽43、通孔5、抛光下模6、工作台7、传动轴。
具体实施方式
如图I 3所不一种抛光机,包括电机I、支架2、弯管3、抛光上模4、抛光下模5和工作台6，所述电机I设置在支架2的顶部，所述电机I的伸出杆连接抛光上模4，在抛光上模4的上方设有抛光液进液机构，该抛光液进液机构主要包括沿伸出杆为轴心阵列分布的弯管3，抛光液经由弯管3流入到抛光上模和抛光下模内，所述抛光下模5设置在工作台6上，该抛光下模5的中心套接有传动轴7，该传动轴7底部连接到工作台6内的电机，所述抛光上模4的表面覆有一层抛光面板41,在抛光面板41上开设有凹槽42,在所述抛光面板41上还开设有通孔43，该通孔43的主要作用是将抛光液更流畅的引到抛光上模和抛光下模之间。进一步的，为了方便抛光液的流动，所述凹槽42是由横向槽和竖向槽交错组成的，且横向槽和竖向槽的宽度相等。更进一步的，为了有利于抛光液能全面进入到抛光上模和抛光下模之间，所述通 孔43的个数至少为五个，且所述通孔43在抛光面板41上的分布是无规律的。本抛光机用于光学低通滤波器晶片的抛光处理，开设的凹槽42防止完成抛光后的晶片被吸附在抛光上模表面，且有利于抛光液的流动，很大程度上提高了晶片的抛光效
果O需要强调的是，以上是本实用新型的较佳实施列而已，并非对此实用新型在外观上作任何形式的限制，凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
权利要求1.一种抛光机，包括电机(I)、支架(2)、弯管(3)、抛光上模(4)、抛光下模(5)和工作台(7)，所述电机⑴设置在支架(2)的顶部，所述电机的伸出杆连接抛光上模(4)，在抛光上模(4)的上方设有抛光液进液机构，该抛光液进液机构主要包括沿伸出杆为轴心阵列分布的弯管(3)，所述抛光下模(5)设置在工作台(6)上，该抛光下模的中心套接有传动轴(7)，该传动轴(7)底部连接到工作台内的电机，其特征在于所述抛光上模(4)的表面覆有一层抛光面板(41)，在抛光面板(41)上开设有凹槽(42)，在所述抛光面板(41)上还开设有通孔(43)。
2.根据权利要求I所述的抛光机，其特征在于所述凹槽(42)是由横向槽和竖向槽交错组成的，且横向槽和竖向槽的宽度相等。
3.根据权利要求I所述的抛光机，其特征在于所述通孔(43)的个数至少为五个，且所述通孔(43)在抛光面板上的分布是无规律的。
专利摘要本实用新型涉及一种抛光机，包括电机、支架、弯管、抛光上模、抛光下模和工作台，所述电机设置在支架的顶部，所述电机的伸出杆连接抛光上模，在抛光上模的上方设有抛光液进液机构，该抛光液进液机构主要包括沿伸出杆为轴心阵列分布的弯管，所述抛光下模设置在工作台上，该抛光下模的中心套接有传动轴，该传动轴底部连接到工作台内的电机，其特征在于所述抛光上模的表面覆有一层抛光面板，在抛光面板上开设有凹槽，在所述抛光面板上还开设有通孔。本抛光机用于光学低通滤波器晶片的抛光处理，开设的凹槽防止完成抛光后的晶片吸附在抛光上模表面，且有利于抛光液的流动，很大程度上提高了晶片的抛光效果。
文档编号B24B57/02GK202668308SQ201220248840
公开日2013年1月16日 申请日期2012年5月30日 优先权日2012年5月30日
发明者冷志红, 蔡灵玲 申请人:昆山明本光电有限公司