一种外加变化磁场辅助激光冲击强化的方法与流程

文档序号:11854946阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种外加变化磁场辅助激光冲击强化的方法,其特征在于:通过改变电流大小,获得不同的磁场强度,并在相应磁场强度的辅助作用下,利用激光器对试样需要强化的区域进行激光冲击强化处理,提高冲击强化的作用效果。

2.如权利要求1所述的一种外加变化磁场辅助激光冲击强化的方法,其特征在于:对试样进行激光冲击强化处理并对比得出外加变化磁场辅助激光冲击强化处理的最佳磁场强度范围。

3.如权利要求1所述的一种外加变化磁场辅助激光冲击强化的方法,其特征在于,具体步骤如下:

(1)选取N个需要冲击强化的试样,置于磁场发生装置下方;

(2)通过控制电路调节电流大小,使磁场发生装置的磁场强度为A1,其中磁场强度A1为初始值,在此磁场强度下,对需要强化的部位进行激光冲击强化处理;

(3)改变电流大小,使磁场强度为A2,其中A2=A1+5mT,并对需要强化的部位进行激光冲击强化处理,激光冲击参数与步骤(2)相同;

(4)依照步骤(3),改变电流大小,使磁场强度为Ai,其中Ai=Ai-1+5mT,i的初始值为3,且3≤i≤N,进行激光冲击强化处理,激光冲击参数与步骤(2)相同;

(5)每次使i增加1,循环进行步骤(4);

(6)对冲击后的N个试样进行残余压应力测试。

4.如权利要求3所述的一种外加变化磁场辅助激光冲击强化的方法,其特征在于:激光光斑为圆形,激光冲击强化参数如下:光斑直径为3mm,脉宽为8-30ns,脉冲能量3-15J,横向和纵向搭接率均为50%。

5.如权利要求3所述的一种外加变化磁场辅助激光冲击强化的方法,其特征在于:步骤(1)中,N≥10。

6.如权利要求3所述的一种外加变化磁场辅助激光冲击强化的方法,其特征在于:步骤(2)中,A1为0mT。

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