技术总结
本发明公开了一种磁控溅射靶挡板机构，包括挡板，还包括用于驱动挡板旋转的驱动组件、挡板旋转时引导挡板升降的引导组件及用于安装引导组件的支架，所述引导组件包括滚轮、弹性件及用于引导滚轮升降的引导板，所述滚轮和所述弹性件相对布置于所述挡板两侧，所述滚轮安装于所述挡板上，所述引导板固设于所述支架上，所述弹性件抵设于所述挡板和所述支架之间。本发明具有结构简单可靠、能够与溅射靶紧密贴合、对溅射靶形成有效保护、减少靶材之间的交叉污染、提高沉膜质量等优点。
技术研发人员：佘鹏程;彭立波;龚俊;范江华
受保护的技术使用者：中国电子科技集团公司第四十八研究所
文档号码：201610850298
技术研发日：2016.09.26
技术公布日：2017.02.22