等离子体系统的腔室的制作方法

技术特征：

技术总结
一种等离子体系统的腔室包括：腔室壁，其定义等离子体加工区域；衬底支架，其经配置以支撑等离子体加工区域中的衬底；以及内衬，其位在等离子体加工区域中并且将腔室壁与等离子体加工区域分离。还提供一种用于等离子体系统的内衬以及一种用于将内衬安装到等离子体系统的方法。

技术研发人员：廖崇宪;蔡文包
受保护的技术使用者：台湾积体电路制造股份有限公司
技术研发日：2016.12.30
技术公布日：2017.09.12