一种棕刚玉研磨装置的制作方法

本实用新型涉及研磨装置技术领域，具体涉及一种棕刚玉研磨装置。

背景技术：

棕刚玉抛光砂磨料以优质金刚砂为原料采用现代新型独特工艺技术精制而成。抛光砂磨料具有研磨时间短，效率高，效益好，价格低的特点。该产品硬度适中，韧性高，自锐性好，砂耗低且能回收循环利用，磨件光洁度好；而且化学成分稳定，耐磨、耐酸碱。

棕刚玉磨料介壳状断口，边角锋利，可在不断粉碎分级中形成新的棱角和边刃，使其研磨能力优于其它磨料。尤其是其具有的硬度高、比重大、化学性质稳定及其特有的自锐性等优点成为，棕刚玉抛光砂工艺用磨料的首选；同时更是抛光除锈清理工件，研磨抛光的理想材料。

但是目前的棕刚玉加工的棕刚玉磨料多是标准件，加工产品时多需要将棕刚玉磨料进行二次加工或经常更换棕刚玉磨料，导致棕刚玉材料的浪费，严重影响到刀片的生产效率，无法满足大批量、高精度、低成本的研磨需求。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种棕刚玉研磨装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种棕刚玉研磨装置，包括机架，所述机架的横向设置有第一研磨臂，所述机架的纵向设置有第二研磨臂，所述机架的上部设置有第三研磨臂，所述第一研磨臂、第二研磨臂、第三研磨臂分别转动连接有砂轮，所述第一研磨臂、第二研磨臂、第三研磨臂分别设置有固定座，所述固定座的下部设置有滑块，所述滑块电性连接有控制装置，所述机架上侧设置有夹具，所述夹具的一侧连接有夹具调节机构。

优选的，所述第一研磨臂、第二研磨臂、第三研磨臂相互呈90°布置，且所述第一研磨臂、第二研磨臂、第三研磨臂分别设置有调节轴，所述调节轴设置有调节固定器。

优选的，所述砂轮由棕刚玉磨料和结合剂组成，且所述棕刚玉磨料尺寸40—1600um。

优选的，所述滑块两侧设置有限位装置，且所述限位装置通过螺栓固定。

优选的，所述夹具设置有三组固定爪，且所述固定爪呈120°均匀布置。

优选的，所述夹具调节机构的转动角度为180°，且夹具调节机构一侧连接有调位装置。

本实用新型的技术效果和优点：本实用新型通过设置三组位置不同的研磨臂，实现对研磨件不同位置的研磨，通过夹具及夹具调节机构，实现对研磨件的固定及翻转，有效解决了经常更换砂轮的情况，大大提高了效率，满足大批量、高精度、低成本的研磨需求。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型研磨臂结构示意图；

图3为本实用新型限位装置结构示意图。

图中：1机架，2第一研磨臂，201调节轴，202调节固定器，3第二研磨臂，4第三研磨臂，5砂轮，6固定座，7滑块，701限位装置，8控制装置，9夹具，10夹具调节机构。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，包括机架1，所述机架的横向设置有第一研磨臂2，所述机架的纵向设置有第二研磨臂3，所述机架的上部设置有第三研磨臂4，所述第一研磨臂2、第二研磨臂3、第三研磨臂4分别转动连接有砂轮5，所述第一研磨臂2、第二研磨臂3、第三研磨臂4分别设置有固定座6，所述固定座6的下部设置有滑块7，所述滑块7电性连接有控制装置8，所述机架1上侧设置有夹具9，所述夹具9的一侧连接有夹具调节机构10。

进一步的，所述第一研磨臂2、第二研磨臂3、第三研磨臂4相互呈90°布置，且所述第一研磨臂2、第二研磨臂3、第三研磨臂4分别设置有调节轴201，所述调节轴201设置有调节固定器202，便于对研磨件各部位的打磨，增加研磨效率。

进一步的，所述砂轮5由棕刚玉磨料和结合剂组成，且所述棕刚玉磨料尺寸40—1600um，保证砂轮品质，减少砂轮更换频率。

进一步的，所述滑块7两侧设置有限位装置701，且所述限位装置701通过螺栓固定，便于滑块移动，方便调节。

进一步的，所述夹具9设置有三组固定爪，且所述固定爪呈120°均匀布置，便于固定研磨件，并实现研磨件受力均匀。

进一步的，所述夹具调节机构10的转动角度为180°，且夹具调节机构10一侧连接有调位装置，便于对研磨件的翻转，利于提高研磨效率。

本实用新型通过设置三组位置不同的研磨臂，实现对研磨件不同位置的研磨，通过夹具9及夹具调节机构10，实现对研磨件的固定及翻转，有效解决了经常更换砂轮的情况，大大提高了效率，满足大批量、高精度、低成本的研磨需求。

最后应说明的是：以上所述仅为优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均包含在本实用新型的保护范围之内。