一种悬吊式自动补偿砂带抛光两用装置的制作方法

本实用新型涉及一种抛光设备，特别是一种悬吊式自动补偿砂带抛光两用装置。

背景技术：

抛光机是一种可对产品的表面进行打磨，使产品表面光滑的设备。传统的抛光设备主要由机架、设于机架上的抛光轮、以及驱动抛光轮转到的抛光电机组成。传统的抛光设备中的抛光轮固定设置在一固定座上，机械臂将工件与抛光轮直接接触，而在抛光过程中，打磨机构具有磨损，磨损后不能得到及时修正，导致打磨效果不理想，适应性差。

技术实现要素：

针对上述问题，本实用新型提供了一种悬吊式自动补偿砂带抛光两用装置，将抛光机构悬空摆动设置，可快速摇动位移，并快速进行缓冲。

本实用新型采用的技术方案为：

一种悬吊式自动补偿砂带抛光两用装置，包括机架和砂带抛光机构，砂带抛光机构通过伺服补偿滑动平台机构悬空设置在机架内，伺服补偿滑动台机构包括设置在机架上的滑动平台以及用于驱动滑动平台移动的滑动平台驱动组件，砂带抛光机构包括安装架，安装架与滑动平台通过摆臂连接，安装架上设有砂带驱动电机以及与驱动电机连接的砂带抛光组件；所述装置还包括自动缓冲机构，所述自动缓冲机构包括固定设置在滑动平台底部的支撑座以及同时与支撑座和摆臂铰接用于自动缓冲的弹性缓冲器。

优选地，所述滑动平台驱动组件包括设置在机架顶部用于滑动平台滑动的平台滑轨、平台驱动电机以及设置在滑动平台和机架上与平台驱动电机连接用于带动滑动平台沿平台滑轨滑动的丝杠组件。

优选地，所述砂带抛光组件包括与驱动电机连接的主动砂轮，主动砂轮通过砂带带动从动砂轮，主动砂轮同轴连接有抛光轮。

优选地，所述砂带抛光机构还包括用于修整抛光轮的自动修整组件，所述自动修整组件包括固定在安装架上的修整固定座、用于对抛光轮修整的磨砂石、用于安放磨砂石的磨砂石座、用于承载磨砂石座的磨砂滑座、用于驱动磨砂石座在磨砂滑座上横向移动以带动磨砂石横向移动的第一驱动器以及用于推动磨砂滑座纵向移动以带动磨砂石纵向移动的第二驱动器，第一驱动器和第二驱动器都设置在修整固定座上。

优选地，所述砂带抛光机构还包括用于调节砂带张紧的张紧调节组件，所述张紧调节组件包括用于安放从动砂轮的砂轮架、固定在安装架上的张紧固定座以及设置在张紧固定座上用于推动砂轮架远离主动砂轮的推动器，砂轮架上设有供从动砂轮上从动轴插入的插入口。

更优选地，所述砂轮架上还设有用微调距离和防止从动砂轮滑动的微调组件，所述微调组件包括设置在砂轮架一侧的微调座，微调座上设有用于推动从动轴的微调轴。

优选地，所述机架外设有外壳，外壳上设有供抛光轮和主动砂轮伸出的开口。

更优选地，所述外壳上还设有用于容纳摆动状态安装架上从动砂轮的容纳仓。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：本实用新型提供一种悬吊式自动补偿砂带抛光两用装置，将砂带抛光机构悬空摆动设置，根据需要，可利用滑动平台通过摆臂带动砂带抛光机构移动，并且在抛光组件受到1公斤以上推力时，摆臂带动安装架上抛光组件进行类似“荡秋千”摆动，并在自动缓冲机构的作用下弹性按压在工件上，进行抛光打磨，反应灵敏，迅速归位，并且可以对抛光轮进行自动修整，简单方便，提高效率。

附图说明

图1为本实用新型提供的一种悬吊式自动补偿砂带抛光两用装置的立体图；

图2为本实用新型提供的一种悬吊式自动补偿砂带抛光两用装置中机架的内部示意图；

图3为本实用新型提供的一种悬吊式自动补偿砂带抛光两用装置中抛光机构和伺服补偿滑动平台机构的示意图；

图4为本实用新型提供的一种悬吊式自动补偿砂带抛光两用装置中伺服补偿滑动平台机构的示意图；

图5为本实用新型提供的一种悬吊式自动补偿砂带抛光两用装置中抛光机构的示意图；

图6为本实用新型提供的一种悬吊式自动补偿砂带抛光两用装置中自动修整组件的示意图；

图7为本实用新型提供的一种悬吊式自动补偿砂带抛光两用装置中张紧调节组件的示意图；

图8为本实用新型提高的一种悬吊式自动补偿砂带抛光两用装置与机械臂配合对工件进行抛光的示意图。

具体实施方式

根据附图对本实用新型提供的优选实施方式做具体说明。

图1至图8，为本实用新型提供的一种悬吊式自动补偿砂带抛光两用装置的优选实施方式。如图1至图8所示，该悬吊式自动补偿砂带抛光两用装置包括机架10和砂带抛光机构20，砂带抛光机构通过伺服补偿滑动平台机构30悬空设置在机架10内，伺服补偿滑动台机构30包括设置在机架10上的滑动平台31以及用于驱动滑动平台31移动的滑动平台驱动组件32，砂带抛光机构20包括安装架21，安装架21与滑动平台31通过摆臂33连接，安装架21上设有砂带驱动电机22以及与驱动电机22连接的砂带抛光组件23，这样在抛光时，根据需要，滑动平台驱动组件32驱动滑动平台31移动，通过摆臂33带动安装架21移动，使得砂带抛光组件23进行移动；然后在砂带抛光组件23受到1公斤以上推力时，通过摆臂33，安装架21就可以进行类似“荡秋千”摆动，反应灵敏，并可及时回复至之前位置。值得注意的是，如图8所示，整个装置可配合机械臂使用，机械臂将工件夹持到固定位置，利用砂带抛光组件23进行抛光打磨。

如图2至图4所示，滑动平台驱动组件32包括设置在机架10顶部用于滑动平台滑动的平台滑轨321、平台驱动电机322以及设置在滑动平台31和机架10上与平台驱动电机322连接用于带动滑动平台31沿平台滑轨321滑动的丝杠组件323，这样平台驱动电机322通过丝杠组件323带动滑动平台31沿平台滑轨321滑动。所述滑动平台31的底部和安装架21上设有轴承座，摆臂33的两端分别与轴承座铰接，这样摆臂33可灵活摆动。

所述装置还包括自动缓冲机构40，所述自动缓冲机构40包括固定设置在滑动平台31底部的支撑座41以及同时与支撑座41和摆臂33铰接用于自动缓冲的弹性缓冲器42，在工件贴合砂带抛光组件23时，工件给抛光组件23的作用力，使得安装架21发生摆动，通过弹性缓冲器42的作用，减小该作用力，也减小摆臂的摆动幅度，防止砂带抛光组件23受力过大，同时在砂带抛光组件23贴合工件进行抛光时，给抛光组件23弹性作用力，使抛光组件23按压在工件上进行抛光。

如图3所示，所述砂带抛光组件23包括与砂带驱动电机22连接的主动砂轮231，主动砂轮231通过砂带232带动从动砂轮233，主动砂轮231同轴连接有抛光轮234，砂带驱动电机22通过皮带带动主动砂轮23。

如图6所示，所述砂带抛光机构20还包括用于修整抛光轮234的自动修整组件24，所述自动修整组件24包括固定在安装架21上的修整固定座241、用于对抛光轮234修整的磨砂石242、用于安放磨砂石242的磨砂石座243、用于承载磨砂石座243的磨砂滑座244、用于驱动磨砂石座243在磨砂滑座244上横向移动以带动磨砂石242横向移动的第一驱动器245以及用于推动磨砂滑座244纵向移动以带动磨砂石242纵向移动的第二驱动器246，第一驱动器245和第二驱动器246都设置在修整固定座241上，这样在抛光轮234对工件进行抛光后，抛光轮234产生磨损，通过第一驱动器245和第二驱动器246对磨砂石242的横向和纵向移动，磨砂石242对抛光轮234进行修整，保持抛光轮234表面平整光滑。

如图7所示，所述砂带抛光机构20还包括用于调节砂带232张紧的张紧调节组件25，所述张紧调节组件25包括用于安放从动砂轮233的砂轮架251、固定在安装架21上的张紧固定座252、设置在张紧固定座252上用于推动砂轮架251远离主动砂轮231的推动器253，砂轮架251上设有用于供从动砂轮233上从动轴插入的插入口2511，这样从动砂轮233的从动轴插入砂轮架251的插入口2511，为保持砂带232的张紧状态，推动器253推动砂轮架251远离主动砂轮231，主动砂轮231与从动砂轮233之间的距离增大，砂带232保持张紧。

所述砂轮架251上还设有用于微调距离和防止从动砂轮滑动的微调组件26，所述微调组件26包括设置在砂轮架251一侧的微调座261，微调座261上设有用于推动从动轴的微调轴262，这样通过转动微调轴262，可推动从动砂轮233的从动轴，小幅度调节主动砂轮231与从动砂轮233之间的距离，确保砂带232张紧。

机架10外设有外壳50，外壳50上设有供抛光轮234和主动砂轮231伸出的开口51，外壳50上还设有用于容纳摆动状态安装架21上从动砂轮233的容纳仓52，这样在摆动状态时，安装架21上抛光轮234和主动砂轮231可从开口51伸出，安装架21上从动砂轮233也可伸入容纳仓52。

该悬吊式自动补偿砂带抛光两用装置的具体工作过程为：根据待抛光工件的位置，平台驱动电机322通过丝杠组件323带动滑动平台31沿平台滑轨321滑动，通过摆臂33带动安装架21上砂带抛光组件22移动，使得抛光轮234和主动砂轮231伸出的开口51；在工件贴合砂带抛光组件23时，工件给抛光组件23的作用力，使得安装架21发生摆动，通过弹性缓冲器42的作用，减小该作用力，也减小摆臂33的摆动幅度，防止砂带抛光组件23受力过大，同时在砂带抛光组件23贴合工件进行抛光时，给抛光组件23弹性作用力，使抛光组件23按压在工件上进行抛光；在进行抛光后，可利用通过第一驱动器246和第二驱动器247对磨砂石245的横向和纵向移动，磨砂石243对抛光轮234进行修整，保持抛光轮234表面平整光滑。

综上所述，本实用新型的技术方案可以充分有效的实现上述实用新型目的，且本实用新型的结构及功能原理都已经在实施例中得到充分的验证，能达到预期的功效及目的，在不背离本实用新型的原理和实质的前提下，可以对实用新型的实施例做出多种变更或修改。因此，本实用新型包括一切在专利申请范围中所提到范围内的所有替换内容，任何在本实用新型申请专利范围内所作的等效变化，皆属本案申请的专利范围之内。