蒸镀设备的制作方法

本实用新型涉及薄膜蒸镀技术领域，特别是涉及一种蒸镀设备。

背景技术：

CIGS是太阳能薄膜电池CuInGa(1-x)Se2的简写。铜铟镓硒薄膜太阳能电池由于具有高转换效率、高光吸收系数、高稳定性和良好的抗辐射能力等优点，被认为是第三代太阳能电池的主要材料，其最高转换效率已达到19％以上。CIGS 薄膜太阳能电池是多层结构组件，主要结构包括：基底、背电极、吸收层、缓冲层、透明导电层和减反射层。目前的研究重点主要集中在吸收层的制备工艺开发上。制备CIGS吸收层的主要方法有共蒸发法和溅射法。

一般CIGS薄膜的制备采用共蒸发法，是在真空室内由蒸发源向基底蒸发金属材料，反应沉积CIGS薄膜。对蒸发材料的蒸发速率的控制是制备薄膜的关键，传统的蒸镀装置通过控制蒸发源温度来控制蒸发速率。从而实现对薄膜蒸镀的整体控制。蒸发源温度的控制比较简单，但在薄膜沉积的过程中，沉积速率调整慢，导致薄膜蒸镀的均匀性差。

技术实现要素：

基于此，有必要针对薄膜的沉积速率调整慢的问题，提供一种蒸镀设备。

一种蒸镀设备，包括：

蒸发源壳体，具有中空的腔室；

蒸发源，设置于所述腔室内；

第一调整装置，其连接于所述蒸发源壳体，以带动所述蒸发源壳体相对于基材移动；以及，

第二调整装置，设置于所述腔室内，其连接于所述蒸发源，以带动所述蒸发源相对于所述基材移动。

在其中一个实施例中，所述第一调整装置的数量为多个，设置于所述腔体的底部的周缘，所述第一调整装置相对于所述腔体的底部的中心点对称布置。

在其中一个实施例中，所述蒸镀设备还包括修正板组件，与所述蒸发源相对并且间隔设置，且设置于所述蒸发源远离所述腔体的底部一侧，所述修正板组件开设有多个气孔。

在其中一个实施例中，所述修正板组件包括：

第一修正板，开设有多个第一通孔；以及，

与所述第一修正板层叠设置的第二修正板，所述第二修正板开设有多个第二通孔，当所述第一修正板和第二修正板相对移动时，所述第一通孔与所述第二通孔重叠的部分形成为所述气孔。

在其中一个实施例中，所述蒸镀设备还包括：

膜厚检测装置，具有至少一个检测探头，用于检测所述基材经过蒸镀后的膜层厚度；

控制系统，与所述膜厚检测装置、所述第一调整装置以及所述第二调整装置均通信连接；

所述控制系统根据所述膜层厚度发送位移信息至所述第一调整装置和/或所述第二调整装置，以使所述第一调整装置和/或所述第二调整装置执行所述位移信息。

在其中一个实施例中，所述蒸发源包括多个蒸发单元，与所述基材基本等间距设置，对应每一个所述蒸发单元设置至少一个检测探头。

在其中一个实施例中，每个所述蒸发单元由多个所述第二调整装置支撑。

在其中一个实施例中，所述蒸镀设备还包括电极对，设置于所述蒸发源壳体的外部，所述电极对通过柔性连接线，与所述蒸发源连接。

在其中一个实施例中，所述蒸镀设备还包括一个真空腔体，所述蒸发源壳体、所述第一调整装置、所述蒸发源以及所述第二调整装置都容纳于所述真空腔体内。

上述蒸镀设备，包括蒸发源壳体、第一调整装置、蒸发源以及第二调整装置，使所述第一调整装置支撑所述蒸发源壳体，同时用所述第二调整装置支撑所述蒸发源。所述第一调整装置和所述第二调整装置可以同步或异步进行伸出或回缩动作来调整所述蒸发源的高度和倾斜角度，进而实现更快的调节蒸发速率的目的，使薄膜均匀性更好。

附图说明

图1为本申请一实施例提供的蒸镀设备的剖面示意图；

图2为本申请一实施例提供的蒸镀设备立体结构示意图；

图3为本申请一实施例提供的蒸镀设备的控制系统的结构连接示意图。

附图标号说明：

10 蒸镀设备

100 真空腔体

200 蒸发源壳体

210 支撑板

300 第一调整装置

400 蒸发源

410 电极对

412 正电极

414 负电极

420 柔性连接线

500 第二调整装置

600 修正板组件

610 气孔

620 第一修正板

622 第一通孔

630 第二修正板

632 第二通孔

700 基材

800 膜厚检测装置

900 控制系统

具体实施方式

为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请。但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进，因此本申请不受下面公开的具体实施的限制。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请参见图1。本申请提供一种蒸镀设备10包括蒸发源壳体200、第一调整装置300、蒸发源400以及第二调整装置500。所述蒸发源壳体200具有中空的腔室。所述蒸发源400设置于所述腔室内。所述第一调整装置300连接于所述蒸发源壳体200，以带动所述蒸发源壳体200相对于基材700移动。所述第二调整装置500设置于所述腔室内，其连接于所述蒸发源400，以带动所述蒸发源 400相对于所述基材700移动。

在一个实施例中，所述蒸镀设备10还包括一个真空腔体100，所述蒸发源壳体200、所述第一调整装置300、所述蒸发源400以及所述第二调整装置500 都容纳于所述真空腔体100内。所述真空腔体100用于制造一个真空环境，以进行镀膜。所述真空腔体100的材质不限，只要能够保持形状且保持内部真空环境稳定即可。可以理解，所述蒸发源壳体200可以避免所述蒸发源400产生的蒸汽扩散，以使蒸汽具备一定浓度，满足蒸镀的要求。所述蒸发源壳体200 的材质不限，只要能保持形状即可。所述蒸发源壳体200上方具有开口，用于使蒸汽冒出。在一个实施例中，所述蒸发源壳体200还包括设置于底部的支撑板210。所述支撑板210为所述蒸发源壳体200的底板，用于支撑所述第二调整装置500。可以理解，所述基材700可以为待蒸镀的薄膜。所述基材700与所述蒸发源400相对的表面为蒸镀面。在一个实施例中，所述基材700通过卷绕机构在所述蒸发源400上方运动。

在一个实施例中，所述蒸发源400包括加热装置，用于对放置在所述蒸发源400内的蒸发材料加热。所述第二调整装置500可以设置于所述加热装置的底部。所述加热装置内可以间隔放置不同的蒸镀材料，即可产生不同的沉积材料蒸汽进行蒸镀。在一个实施例中，所述加热装置可以为坩埚。

所述第二调整装置500与所述第一调整装置300可以相同。在一个实施例中，所述第一调整装置300和所述第二调整装置500可以为气缸或液压缸或螺杆机构。可以理解，所述第一调整装置300可以通过伸缩运动使所述蒸发源壳体200上下移动，进而使设置于所述蒸发源壳体200内的所述蒸发源400的高度发生变化。所述第二调整装置500可以通过伸缩运动使所述蒸发源400的高度发生变化。

当只设置一个所述第二调整装置500时，所述第二调整装置500设置于所述蒸发源400的中心处。当设置多个所述第二调整装置500时，多个所述第二调整装置500相对于所述蒸发源400的底部的中心点对称设置。当设置多个所述第二调整装置500时，可以通过调节其中一部分所述第二调整装置500使所述蒸发源400处于倾斜状态，以便根据实际蒸镀效果调节所述蒸发源400的倾斜角度，加强蒸镀的均匀性。所述第一调整装置300和所述第二调整装置500 可以通过手动调节，也可以自动调节。

在本实施例中，所述蒸镀设备10通过设置所述第一调整装置300和所述第二调整装置500，可以使所述第一调整装置300和所述第二调整装置500协同进行伸出或回缩动作来调整所述蒸发源400的高度，进而实现更快的调节蒸发速率的目的。使薄膜均匀性更好。

在一个实施例中，所述第一调整装置300的数量可以为多个，其设置于所述腔体的底部的周缘。所述第一调整装置300相对于所述腔体的底部的中心点对称设置。

多个所述第一调整装置300可以同时进行伸出或回缩动作，也可以分别进行伸出或回缩动作，从而调整所述蒸发源壳体200的高度和倾斜角度，进而调整所述蒸发源400的高度和倾斜角度。在一个实施例中，可以根据蒸镀的情况使一部分所述第一调整装置300进行伸出或回缩动作，余下的所述第一调整装置300保持静止，可以使所述蒸发源400产生倾斜，使沉积材料蒸汽密度产生变化，以弥补镀膜过程中产生的厚度不均匀的缺陷。在一个实施例中，所述多个第一调整装置300与所述多个第二调整装置500可以共同调节所述蒸发源400 的高度和倾斜角度，使所述蒸发源400可以调节为更多的倾斜角度，以适应镀膜过程中产生的各种复杂的厚度不均匀的情况。

请一并参见图2。在一个实施例中，所述蒸镀设备10还包括修正板组件600。所述修正板组件600与所述蒸发源400相对并且间隔设置，且设置于所述蒸发源400远离所述腔体的底部的一侧。所述修正板组件600开设有多个气孔610。

可以理解，所述蒸发源400中的蒸汽可以通过所述气孔610冒出来，再进行蒸镀。在一个实施例中，所述气孔610以相同间隔在所述修正板组件600表面分布，使蒸汽均匀的分布于所述修正板组件600表面。所述修正板组件600 与所述蒸发源400固定连接，当所述蒸发源400运动时，所述修正板组件600 随所述蒸发源400一起运动。所述基材700与修正板组件600相对间隔设置，且设置于所述修正板组件600远离所述蒸发源400的一侧。

在本实施例中，所述修正板组件600中的所述气孔610可以使所述蒸汽的密度更加均匀，以更大概率的避免镀膜异常的情况产生。

在一个实施例中，所述气孔610为圆孔。在本实施例中，所述气孔610为圆孔时，可以使沉积材料蒸汽分布更为均匀，从而达到更好的镀膜效果。在其他实施例中，所述气孔610的形状不限，可以为各种规则或不规则形状，比如三角形、五边形、六边形等，可以根据实际需要进行任意改变。

在一个实施例中，所述修正板组件600包括第一修正板620以及与所述第一修正板620层叠设置的第二修正板630。所述第一修正板620开设有多个第一通孔622。所述第二修正板630开设有多个第二通孔632。当所述第一修正板620 和第二修正板630相对移动时，所述第一通孔622与所述第二通孔632重叠的部分形成所述气孔610。

可以理解，所述第一修正板620在与第二修正板630平行的平面相对移动时，所述第一通孔622与所述第二通孔632可以互相遮挡，从而改变所述气孔 610的形状和大小。进而改变通过所述气孔610的蒸汽的量，使所述修正板组件 600远离所述蒸发源400的一侧的蒸汽密度变化，达到调整蒸镀速率的目的。在一个实施例中，在镀膜之前，可以根据上一批次的镀膜的情况，对所述第一修正板620和所述第二修正板630做出调整，改变所述气孔610的形状和大小，以使镀膜效果更好。

在本实施例中，通过采用所述第一修正板620和所述第二修正板630层叠设置并相对位移，使所述气孔610通过的蒸汽量变化，可以灵活地改变蒸汽密度进而改变蒸镀速率。

在一个实施例中，所述修正板组件600与所述基材700相对间隔设置，所述基材700设置于所述修正板组件600远离所述蒸发源400的一侧，所述修正板组件600与所述基材700间的距离为10mm-150mm。

可以理解，所述基材700可以为待蒸镀的薄膜。所述基材700与所述修正板组件600相对的表面为蒸镀面。在一个实施例中，所述基材700平行于所述修正板组件600。在一个实施例中，所述基材700通过卷绕机构在所述修正板组件600上方运动。

在本实施例中，所述基材700与所述修正板组件600间的距离限定于 10mm-150mm，可以防止所述第一调整装置300和所述第二调整装置500进行伸缩时使所述蒸发源400距离所述基材700过近或过远，影响蒸镀效果。

请一并参见图3。在一个实施例中，所述蒸镀设备10还包括膜厚检测装置 800以及控制系统900。所述膜厚检测装置800具有至少一个检测探头，用于检测基材700经过蒸镀后的膜层厚度。所述控制系统900与所述膜厚检测装置800 和所述第一调整装置300以及所述第二调整装置500均通信连接。所述控制系统900根据所述膜层厚度发送位移信息至所述第一调整装置300和/或所述第二调整装置500，以使所述第一调整装置300和/或所述第二调整装置500执行所述位移信息。

可以理解，所述膜厚检测装置800可以通过所述检测探头检测基材700蒸镀后的检测探头周围的膜层厚度。所述检测探头可以设置于所述基材700前进方向上离开所述蒸发源400时对应的所述蒸发单元的边缘位置，以便及时检测蒸镀效果。当多个所述蒸发单元在所述基材700前进方向上并排时，所述检测探头还可以设置于两个相邻的所述蒸发源400的间隙。

在本实施例中，通过所述控制系统900与所述膜厚检测装置800可以实时掌握镀膜的情况，配合所述第一调整装置300和所述第二调整装置500可以及时调整所述蒸发源400的高度或倾斜角度。

在一个实施例中，所述膜厚检测装置800还可以通过多个检测探头得到所述基材700多个区域的膜厚数据，所述膜厚数据包括多个检测探头发来的膜层厚度以及多个膜层厚度的厚度比较信息。并将所述膜厚数据传输给所述控制系统900。所述控制系统900可以通过所述膜厚数据判断所述基材700的膜层厚度是否异常以及是哪种异常。所述控制系统900可以根据所述基材700的膜层厚度控制所述第一调整装置300和/或所述第二调整装置500进行相应的伸出或收缩动作。

在一个实施例中，所述控制系统900与所述第一修正板620和所述第二修正板630连接。可以理解，所述控制系统900可以根据所述膜厚检测装置800 得到的膜厚数据控制所述第一修正板620和所述第二修正板630进行合适的相对位移，从而达到实时调整蒸镀速率的目的。

在本实施例中，通过所述控制系统900对所述第一修正板620和所述第二修正板630进行自动调整，避免了手动调整的无法实时调整的缺陷，减少了所述基材700的浪费，增大镀膜成功率。

在一个实施例中，所述蒸发源400包括多个蒸发单元，与所述基材700基本等间距设置。对应每一个所述蒸发单元设置至少一个检测探头。可以理解，多个所述蒸发单元可以对更大面积的所述基材700进行蒸镀，蒸镀效率更高。所述多个检测探头可以检测每个所述蒸发源400所对应区域的镀膜情况，获得膜层厚度。

在一个实施例中，每个所述蒸发单元由至少一个所述第二调整装置500支撑。每个所述蒸发单元都可以通过与之连接的所述第二调整装置500进行高度的调整。还可以通过对多个所述第二调整装置500进行不同的伸出或收缩动作，使所述蒸发单元的倾斜角度进行变化。

在本实施例中，通过对所述蒸发单元设置至少一个所述检测探头，当检测到某个所述蒸发单元所对应区域的蒸镀出现异常，可以调节对应于异常区域的所述第二调整装置500进行伸出或收缩动作，使对应的所述蒸发单元的高度或倾斜角度发生变化，直至蒸镀情况正常。针对蒸镀异常情况调整更加灵活。

在一个实施例中，所述蒸镀设备10还包括电极对410。所述电极对410设置于所述蒸发源壳体200的外部。所述电极对410通过柔性连接线420与所述蒸发源400连接。

在一个实施例中，所述电极对410包括正电极412和负电极414。所述正电极412和负电极414分别通过所述柔性连接线420与所述蒸发源400连接。可以理解，所述电极对410用于对所述蒸发源400进行电加热，使蒸发材料形成蒸汽。在一个实施例中，所述蒸发源400中包括坩埚，所述电极对410连接于所述坩埚，对坩埚进行加热。在一个实施例中，所述柔性连接线420的长度可以大于或等于所述第一调整装置300和所述第二调整装置500都处于伸长极限时所述蒸发源400与所述第一调整装置300的底部的距离。在一个实施例中，所述电极对410设置于真空腔体100的外部。在本实施例中，通过设置所述柔性连接线420可以方便所述第一调整装置300和所述第二调整装置500进行伸缩，并对所述蒸发源400加热。

本申请还提供一种蒸镀方法，采用上述实施例所述的蒸镀设备10，执行以下步骤：

S10，通过第一调整装置300和/或第二调整装置500带动所述蒸发源400 相对于基材700移动。

可以理解，可以分别调整所述第一调整装置300或第二调整装置500来调整所述蒸发源400的位置，也可以同时调整所述第一调整装置300和第二调整装置500，以加快调整速率。所述蒸发源400相对于基材700移动时，可以是高度发生变化，也可以是倾斜角度发生变化。在一个实施例中，在通过第一调整装置300和/或第二调整装置500带动所述蒸发源400相对于基材700移动之前，还包括获取膜层厚度，并判断膜层厚度与设定厚度相比有何异常。

在本实施例中，通过第一调整装置300和/或第二调整装置500可以调整所述蒸发源400的高度或倾斜角度，实现提高调整速率和多样化调整的目的。

在一个实施例中，通过所述第一调整装置300和所述第二调整装置500带动所述蒸发源400相对于基材700移动，具体包括所述第二调整装置500的移动距离大于所述第一调整装置300的移动距离。

在一个实施例中，所述第一调整装置300与所述第二调整装置500的移动距离的比例可以为1:5-1:1。可以理解，所述第一调整装置300的承重大于所述第二调整装置500的承重，所述第二调整装置500的调整比所述第一调整装置 300的调整更加方便快捷，且耗能更少。因此，可以使第二调整装置500的调整比例更大些可以更快的调整，进一步加快调整速率，同时可以降低成本。

在一个实施例中，所述通过第一调整装置300和/或第二调整装置500带动所述蒸发源400相对于基材700移动，具体包括：

S100，获取膜层厚度，将所述膜层厚度与设定厚度对比，判断出膜层厚度比所述设定厚度薄时，控制所述第一调整装置300和/或所述第二调整装置500 进行伸出动作；

当获取到的膜层厚度基本等于所述设定厚度时，控制所述第一调整装置300 和/或所述第二调整装置500停止伸出动作。

可以理解，可以通过所述膜厚检测装置800获取所述膜层厚度。通过所述控制系统900可以对所述膜层厚度与设定厚度对比，得到蒸镀后的膜层厚度。所述控制系统900通过膜层厚度来判断是否异常，以控制所述第一调整装置300 和/或所述第二调整装置500进行伸出或收缩动作，来调整所述蒸发源400与所述基材700之间的距离，从而使所述蒸发源400产生的蒸汽的密度发生变化，达到调整镀膜厚度的目的。所述设定厚度是根据具体工艺要求而设定的，可以根据不同的需求进行改变。

在本实施例中，可以通过控制所述第一调整装置300或所述第二调整装置 500进行伸出动作来调整所述蒸发源400的高度，也可以同时调整所述第一调整装置300和所述第二调整装置500进行伸出动作，以便进一步加快调整速度，减少镀膜异常的膜层面积，提高产品质量。

在一个实施例中，所述第一调整装置300有四个，分别设置于所述蒸发源壳体200的底部的四角。所述第二调整装置500的数量与蒸发单元的数量相关，每个蒸发单元底部设置有1-2个所述第二调整装置500。

在一个实施例中，所述通过第一调整装置300和/或第二调整装置500带动所述蒸发源400相对于基材700移动，具体包括：

S200，获取膜层厚度，将所述膜层厚度与设定厚度对比，判断膜层厚度比所述设定厚度厚时，控制所述第一调整装置300和/或所述第二调整装置500进行收缩动作；

当获取到的膜层厚度基本等于所述设定厚度时，控制所述第一调整装置300 和/或所述第二调整装置500停止收缩动作。

在本实施例中，可以通过控制所述第一调整装置300或所述第二调整装置 500进行收缩动作来调整所述蒸发源400的高度，也可以同时调整所述第一调整装置300和所述第二调整装置500进行收缩动作，以便进一步加快调整速度，减少镀膜异常的膜层面积，避免资源浪费。

在一个实施例中，所述蒸发源400包括多个蒸发单元。所述多个蒸发单元与所述基材700基本等间距设置。对应每一个所述蒸发单元设置至少一个检测探头。所述通过第一调整装置300和/或第二调整装置500带动所述蒸发源400 相对于基材700移动，具体包括：

S300，获取膜层厚度；

S301，若所述至少一个检测探头获取到的膜层厚度不一致时，将获取到薄于设定厚度的检测探头对应的所述第二调整装置500进行伸出动作，将获取到厚于设定厚度的检测探头对应的所述第二调整装置500进行收缩动作；

当所述至少一个检测探头获取到的膜层厚度基本等于所述设定厚度时，所述第二调整装置500停止所述伸出动作和收缩动作。

可以理解，在本实施例中，所述蒸发源400包括多个蒸发单元。每个所述蒸发单元底部对应设置有至少一个所述第二调整装置500，且每个所述蒸发单元对应设置有至少一个检测探头用以检测基材700经该蒸发单元的蒸镀后的膜厚数据。在一个实施例中，所述多个蒸发单元可以点阵排列。所述至少一个检测探头获取到的膜层厚度不一致表明在同一批次蒸镀的薄膜中出现了厚度不均的情况。

本实施例通过使膜厚较薄的区域对应的所述第二调整装置500做伸出动作，膜厚较厚的区域对应的所述第二调整装置500做收缩动作，以快速调整所述蒸发源400，可以使膜厚异常状态更快恢复正常。在另一实施例中，通过所述控制系统900还可以根据膜厚数据计算得到所述第二调整装置500需要伸出或收缩的距离，达到精准控制的目的。

在一个实施例中，所述通过第一调整装置300和/或第二调整装置500带动所述蒸发源400相对于基材700移动，具体包括多个所述第一调整装置300和/ 或多个所述第二调整装置500相对移动，以使所述蒸发源400相对于所述基材 700形成设定倾斜角度。

可以理解，所述控制系统900可以通过所述膜厚检测装置800获得膜层厚度，并根据所述膜层厚度计算得到并设定所述蒸发源400需要倾斜的角度，以使膜厚恢复正常。多个所述第一调整装置300和/或多个所述第二调整装置500 相对移动是指多个所述第一调整装置300和/或多个所述第二调整装置500移动的距离不同。可以理解，多个所述第一调整装置300和/或多个所述第二调整装置500分别进行不同长度的伸缩，可以使所述蒸发源400相对于基材700移动不同的距离。所述控制系统900可以控制多个所述第一调整装置300或多个所述第二调整装置500相对移动形成所述设定倾斜角度。在另一实施例中，还可以同时调整控制多个所述第一调整装置300和多个所述第二调整装置500形成所述设定倾斜角度。在另一实施例中，当由于所述设定倾斜角度无法由多个所述第一调整装置300或多个所述第二调整装置500形成时，可以同时控制多个所述第一调整装置300和多个所述第二调整装置500分别进行伸出或收缩动作，以形成所述倾斜角度。

在本实施例中，通过使多个所述第一调整装置300和/或多个所述第二调整装置500相对移动，以使所述蒸发源400相对于所述基材700形成设定倾斜角度，可以应对实际工艺中复杂的膜厚异常状态，以减少资源浪费，减少成本。

在一个实施例中，通过分别使多个所述蒸发单元对应的多个第二调整装置 500进行不同长度的伸缩调整所述蒸发源400的倾斜角度，可以对应调整基材 700不同区域的膜厚。

在一个实施例中，通过使多个所述第二调整装置500分别进行不同长度的伸缩，可以调整所述蒸发源壳体200的倾斜角度，以使所述蒸发源400的倾斜角度发生变化。

在一个实施例中，多个所述第二调整装置500分别进行不同长度的伸缩时，可以使多个所述第一调整装置300同时进行不同长度的伸缩，以进一步调整所述蒸发源400的倾斜角度，以实现更多种的倾斜角度，同时加快调整速率。

在一个实施例中，所述蒸发源400可以向任意方向倾斜，且所述设定倾斜角度小于或等于30°。可以理解，所述蒸发源400可以相对于基材700在任意方向倾斜，以满足工艺要求。所述设定倾斜角度小于或等于30°可以防止所述蒸发源400过于倾斜，影响所述蒸发源400内蒸发材料，还可防止调整过头造成新的蒸镀异常情况。

在一个实施例中，通过第一调整装置300和/或第二调整装置500带动所述蒸发源400相对于基材700移动包括获取到膜厚数据为基材700的某个方向上膜厚较厚时，控制靠近所述膜厚较厚方向的至少三个所述第一调整装置300做收缩动作，其他所述第一调整装置300保持静止，直至获取到膜厚满足工艺要求，停止所述第一调整装置300的收缩动作。在另一实施例中，还可以同时控制所述膜厚较厚方向的所述第二调整装置500做收缩动作，以加快调整速度。

反之，若获取到所述膜厚数据为基材700上某个方向上膜厚较薄时，控制靠近所述膜厚较薄区域的至少三个所述第一调整装置300做伸出动作，其他所述第一调整装置300保持静止，直至获取到膜厚满足工艺要求，停止所述第一调整装置300的伸出动作。

在一个实施例中，所述第一调整装置300和所述第二调整装置500做伸出动作时，处于上升状态的所述蒸发源400的上升速度为所述基材700运动速度的1/10-1/30。所述第一调整装置300和所述第二调整装置500做收缩动作时，处于下降状态的所述蒸发源400的下降速度为所述基材700运动速度的 1/20-1/30。在本实施例中，可以避免调整蒸镀速率过快使得镀膜异常的问题。

在一个实施例中，所述通过第一调整装置300和/或第二调整装置500带动所述蒸发源400相对于基材700移动，具体包括调整第一调整装置300和/或第二调整装置500带动所述蒸发源400移动，以使所述蒸发源400固定连接的修正板组件600和所述基材700之间的距离在10mm-150mm之间。

在本实施例中，所述基材700与所述修正板组件600间的距离限定于 10mm-150mm，可以防止所述第一调整装置300和所述第二调整装置500进行伸缩时使所述蒸发源400距离所述基材700过近或过远，影响蒸镀效果。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。