靶材供料设备与真空镀膜设备的制作方法

文档序号:27438120发布日期:2021-11-17 23:11阅读:来源:国知局

技术特征:
1.靶材供料设备,其特征在于,包括:第一存储模组,包括第一容器、第一转盘与第一固定装置,所述第一容器具有第一入口与第一出口,所述第一转盘位于所述第一容器内,多个第一固定装置沿所述第一转盘的周向分布;第二存储模组,包括第二容器、第二转盘与第二固定装置,所述第二容器具有第二入口,所述第二容器与所述第一容器之间通过所述第二入口与所述第一出口连通,所述第二转盘位于所述第二容器内,多个第二固定装置沿所述第二转盘的周向分布;第一密封模组,用于打开或者切断所述第一容器与外界的连通;第二密封模组,用于打开或者切断所述第一容器与所述第二容器的连通;第一上料模组,与所述第一存储模组连接,用于在所述第二密封模组处于切断状态时将靶材通过所述第一入口移送至各所述第一固定装置;第二上料模组,与所述第一存储模组连接,用于在所述第一密封模组处于切断状态,且所述第二密封模组处于打开状态时,将所述第一固定装置上的所述靶材通过所述第一出口与所述第一入口移送至各所述第二固定装置;第三上料模组,与所述第二存储模组连接,用于将所述第二固定装置上的所述靶材移送至设定位置。2.根据权利要求1所述的靶材供料设备,其特征在于,所述第一容器位于所述第二容器的下方,所述第一上料模组与所述第二上料模组位于所述第一容器的下方,所述第三上料模组位于所述第二容器的下方,所述第一上料模组、所述第二上料模组与所述第三上料模组均能够沿竖直方向移送所述靶材。3.根据权利要求2所述的靶材供料设备,其特征在于,所述第一固定装置与所述第二固定装置均包括定位套与弹片,所述弹片位于所述定位套的内腔中,能够发生向上的单向变形。4.根据权利要求1所述的靶材供料设备,其特征在于,所述第一上料模组包括基座与第一推动装置,其中,基座具有第一腔体与第二腔体,所述第一腔体在所述基座上形成第一开口,所述第一开口与所述第一入口连通,所述第二腔体在所述基座上形成第二开口,所述第二开口用于所述靶材进入所述第二腔体;所述第一密封模组连接于所述基座,并能够相对所述基座移动,以打开或者封闭所述第一腔体与所述第二腔体的连接处;所述第一推动装置连接于所述基座,并能够相对所述基座移动,以在所述第一腔体与所述第二腔体的连接处处于打开状态时,推动所述第二腔体内的所述靶材进入所述第一容器。5.根据权利要求4所述的靶材供料设备,其特征在于,所述基座包括:第一连接件,具有所述第一腔体与所述第一开口;第二连接件,具有所述第二腔体与所述第二开口;其中,所述第一密封模组位于所述第一连接件与所述第二连接件之间,所述第二连接件能够相对所述第一连接件沿所述靶材的上料方向移动,且能够在移动至设定位置时将所述第一密封模组压紧在所述第一连接件上。
6.根据权利要求5所述的靶材供料设备,其特征在于,还包括锁止装置,所述锁止装置包括:导向件,与所述第一连接件连接,所述第二连接件具有导向孔,所述导向件插接在所述导向孔内,且从所述第二连接件上远离所述第一连接件的端部伸出;锁止件,可分离地连接于所述导向件的伸出部分,以将所述第二连接件保持在所述设定位置。7.根据权利要求4所述的靶材供料设备,其特征在于,所述第二腔体在所述基座上形成第三开口,沿所述靶材的进样方向,所述第二开口、所述第三开口与所述第一开口依次设置,所述第一密封模组能够通过所述第三开口脱离所述基座,所述第三开口与所述第二开口连通。8.根据权利要求1所述的靶材供料设备,其特征在于,所述第二上料模组包括第二推动装置与第三动力装置,所述第二推动装置能够由所述第三动力装置驱动,以推动所述第一固定装置上的所述靶材移动至所述第二固定装置。9.根据权利要求8所述的靶材供料设备,其特征在于,所述第二密封模组放置于所述第一转盘,能够被所述第二推动装置推动而与所述第一转盘分离,并与所述第二容器接触以封闭所述第二入口。10.根据权利要求8所述的靶材供料设备,其特征在于,所述第二推动装置的端部具有用于吸附所述第二密封模组的电磁铁。11.根据权利要求9所述的靶材供料设备,其特征在于,所述第二上料模组还包括柔性密封套,所述第二推动装置位于所述柔性密封套内,所述柔性密封套的一端与第一容器密封连接,另一端与所述第三动力装置的输出端固定连接,所述柔性密封套能够随所述输出端的移动而压缩或者伸展。12.根据权利要求1所述的靶材供料设备,其特征在于,所述第一存储模组还包括第一清扫装置与第一收集装置,所述第一清扫装置与所述第一转盘连接,且位于所述第一转盘与所述第一容器的第一底壁之间,所述第一收集装置与所述第一底壁连接,用于收集由所述第一清扫装置驱动的杂物;和/或,所述第二存储模组还包括第二清扫装置与第二收集装置,所述第二清扫装置与所述第二转盘连接,且位于所述第二转盘与所述第二容器的第二底壁之间,所述第二收集装置与所述第二底壁连接,用于收集由所述第二清扫装置驱动的杂物。13.根据权利要求1所述的靶材供料设备,其特征在于,所述第一转盘具有多个减轻孔,多个减轻孔沿所述第一转盘的周向均匀分布。14.真空镀膜设备,其特征在于,包括权利要求1至13中任一项所述的靶材供料设备。

技术总结
本实用新型公开了一种靶材供料设备与真空镀膜设备,靶材供料设备中,第一密封模组用于打开或者切断第一存储模与外界的连通;第二密封模组用于于打开或者切断第一存储模组与第二存储模组的连通;第一上料模组用于在第二密封模组处于切断状态时将靶材送入第一存储模组;第二上料模组用于在第一密封模组处于切断状态,且第二密封模组处于打开状态时,将所述第一存储模组中的靶材移送至第二存储模组;第三上料模组用于将第二存储模组上的靶材移送至设定位置。本实用新型实施例的靶材供料设备可以实现对不间断供料,保证工艺的持续进行。同时,第二容器可以始终保持与外界的隔离,避免破坏反应位置的真空状态。避免破坏反应位置的真空状态。避免破坏反应位置的真空状态。


技术研发人员:余仲 李时俊 王志民 谢进学
受保护的技术使用者:深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司
技术研发日:2020.12.02
技术公布日:2021/11/16
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