一种用于真空镀膜的遮挡装置的制作方法

1.本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种用于真空镀膜的遮挡装置。


背景技术：

2.真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种用于真空镀膜的遮挡装置新工艺。
3.现如今的物品在进行真空镀膜时，若不便于对不需要进行真空镀膜的部位进行遮挡，则不便于获得所需的真空镀膜产品，在真空镀膜后，若不便于对多余的镀膜材料进行收集，则容易造成资源的浪费。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的是为了解决现有技术中物品在进行真空镀膜时，若不便于对不需要进行真空镀膜的部位进行遮挡，则不便于获得所需的真空镀膜产品，在真空镀膜后，若不便于对多余的镀膜材料进行收集，则容易造成资源的浪费的问题，而提出的一种用于真空镀膜的遮挡装置。
5.为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
6.一种用于真空镀膜的遮挡装置，包括主箱桶，主箱桶的外表面上设置有镀膜收集机构，主箱桶的内部设置有遮挡机构，所述镀膜收集机构包括设置在主箱桶内壁上的镀膜喷口装置，设置在主箱桶下端的底座和开设在底座上端的第一环槽，第一环槽的内部设置有滤网。
7.优选的，所述底座的上端还开设有第二环槽，底座的上端设置有圆杆，圆杆的上端设置有圆块，底座的下端设置有圆盘。
8.优选的，所述圆盘的上端开设有存料槽，存料槽设置在第一环槽的下方，主箱桶的上端设置有桶盖，桶盖的一端开设有槽口。
9.优选的，所述圆块活动设置在槽口的内部，圆杆的外表面上设置有镀膜环。
10.优选的，所述遮挡机构包括设置在镀膜环外表面上的第一半圆环，设置在第一半圆环一端的第一进气管和设置在第一半圆环内壁上的第一摩擦气垫块，第一进气管与第一摩擦气垫块相连通。
11.优选的，所述第一半圆环的一侧设置有第一放置块，第一放置块的一端设置有第一磁吸板，镀膜环的外表面上还设置有第二半圆环，第二半圆环的一端设置有第二进气管。
12.优选的，所述第二半圆环的内壁上设置有第二摩擦气垫块，第二进气管与第二摩擦气垫块相连通，第二半圆环的一侧开设有放置槽，放置槽与第一放置块相对应，放置槽的内壁上设置有第二磁吸板，第二磁吸板与第一磁吸板相对应。
13.相比现有技术，本实用新型的有益效果为：
14.1、在需要对镀膜环中不需要镀膜的地方进行遮挡时，将第一半圆环放置于镀膜环
的外表面上不需要镀膜部位，接着通过第一进气管控制第一摩擦气垫块的大小，直至第一摩擦气垫块与镀膜环之间形成固定卡合，接着将第一放置块放置于放置槽的内部，在第二磁吸板与第一磁吸板磁性作用下，第一半圆环与第二半圆环相互卡合连接，接着通过第二进气管控制第二摩擦气垫块的大小，使得第二摩擦气垫块与第一摩擦气垫块对镀膜环形成双重固定夹持，此时即可对镀膜环的不需要镀膜部分进行遮挡。
15.2、在需要对多余的镀膜材料进行收集时，可将第一半圆环与第二半圆环外表面上的镀膜材料剐蹭下来，接着通过滤网进入存料槽的内部进行存储，同时在镀膜喷口装置对镀膜环进行镀膜时，其途中散发出去的镀膜材料同样通过滤网进入存料槽的内部进行存储。
附图说明
16.图1为本实用新型提出的一种用于真空镀膜的遮挡装置的立体结构示意图；
17.图2为本实用新型提出的一种用于真空镀膜的遮挡装置的主箱桶结构示意图；
18.图3为本实用新型提出的一种用于真空镀膜的遮挡装置的底座结构示意图；
19.图4为本实用新型提出的一种用于真空镀膜的遮挡装置的圆盘结构示意图；
20.图5为本实用新型提出的一种用于真空镀膜的遮挡装置的桶盖结构示意图；
21.图6为本实用新型提出的一种用于真空镀膜的遮挡装置的镀膜环结构示意图；
22.图7为本实用新型提出的一种用于真空镀膜的遮挡装置的第一半圆环结构示意图；
23.图8为本实用新型提出的一种用于真空镀膜的遮挡装置的第二半圆环结构示意图。
24.图中：1、主箱桶；2、镀膜收集机构；21、镀膜喷口装置；22、底座；221、第一环槽；2211、滤网；222、第二环槽；223、圆杆；2231、圆块；23、圆盘；231、存料槽；24、桶盖；241、槽口；25、镀膜环；3、遮挡机构；31、第一半圆环；311、第一进气管；312、第一摩擦气垫块；313、第一放置块；3131、第一磁吸板；32、第二半圆环；321、第二进气管；322、第二摩擦气垫块；323、放置槽；3231、第二磁吸板。
具体实施方式
25.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
26.参照图1-8，一种用于真空镀膜的遮挡装置，包括主箱桶1，主箱桶1的外表面上设置有镀膜收集机构2，主箱桶1的内部设置有遮挡机构3，所述镀膜收集机构2包括设置在主箱桶1内壁上的镀膜喷口装置21，设置在主箱桶1下端的底座22和开设在底座22上端的第一环槽221，第一环槽221的内部设置有滤网2211，滤网2211用于对多余的镀膜材料进行过滤收集。
27.底座22的上端还开设有第二环槽222，底座22的上端设置有圆杆223，圆杆223的上端设置有圆块2231，底座22的下端设置有圆盘23，圆盘23的上端开设有存料槽231，存料槽
231设置在第一环槽221的下方，主箱桶1的上端设置有桶盖24，桶盖24的一端开设有槽口241，存料槽231用于存储多余的镀膜材料，槽口241用于防止圆杆223晃动。
28.圆块2231活动设置在槽口241的内部，圆杆223的外表面上设置有镀膜环25，镀膜环25即需要进行镀膜的材料物品。
29.遮挡机构3包括设置在镀膜环25外表面上的第一半圆环31，设置在第一半圆环31一端的第一进气管311和设置在第一半圆环31内壁上的第一摩擦气垫块312，第一进气管311与第一摩擦气垫块312相连通，第一进气管311可控制第一摩擦气垫块312的大小。
30.第一半圆环31的一侧设置有第一放置块313，第一放置块313的一端设置有第一磁吸板3131，镀膜环25的外表面上还设置有第二半圆环32，第二半圆环32的一端设置有第二进气管321，第二半圆环32的内壁上设置有第二摩擦气垫块322，第二进气管321与第二摩擦气垫块322相连通，第二半圆环32的一侧开设有放置槽323，放置槽323与第一放置块313相对应，放置槽323的内壁上设置有第二磁吸板3231，第二磁吸板3231与第一磁吸板3131相对应，第二进气管321可控制第二摩擦气垫块322的大小，第二磁吸板3231与第一磁吸板3131的磁性连接，可保证第一半圆环31与第二半圆环32的磁性连接，用于防止第一半圆环31与第二半圆环32在不受外力拉动的情况下意外脱落，第一半圆环31与第二半圆环32可防止对镀膜环25的遮挡部分不受到镀膜。
31.本实用新型在进行使用时，在需要对镀膜环25中不需要镀膜的地方进行遮挡时，将第一半圆环31放置于镀膜环25的外表面上不需要镀膜部位，接着通过第一进气管311控制第一摩擦气垫块312的大小，直至第一摩擦气垫块312与镀膜环25之间形成固定卡合，接着将第一放置块313放置于放置槽323的内部，在第二磁吸板3231与第一磁吸板3131磁性作用下，第一半圆环31与第二半圆环32相互卡合连接，接着通过第二进气管321控制第二摩擦气垫块322的大小，使得第二摩擦气垫块322与第一摩擦气垫块312对镀膜环25形成双重固定夹持，此时即可对镀膜环25的不需要镀膜部分进行遮挡，在需要对多余的镀膜材料进行收集时，可将第一半圆环31与第二半圆环32外表面上的镀膜材料剐蹭下来，接着通过滤网2211进入存料槽231的内部进行存储，同时在镀膜喷口装置21对镀膜环25进行镀膜时，其途中散发出去的镀膜材料同样通过滤网2211进入存料槽231的内部进行存储。
32.以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。