专利名称：抗打击高强度硅钢片的制作方法
一种抗打击高强度硅钢片，本发明涉及合金领域。
现有的电工用硅钢片都是以电磁性能(磁感应强度和单位铁损)为主要性能指标。长期以来对硅钢片化学成份的确定都是以保证电磁性能为目标，下面为现有各类硅钢的成份规定(重量百分数)类别CMnPSSiFe热轧≤0.080.10～0.30≤0.05≤0.032.00～2.45余量冷轧无取向≤0.0150.15～0.35 ≤0.02 ≤0.02 1.50～3.15 余量冷轧取向 0.048～0.06 0.07～0.12 ≤0.015 0.023～0.029 2.80～3.05余量在硅钢的标准中对机械性能仅规定最少的弯曲次数，以保证硅钢的冲片性能。但是目前新型交流接触器开关的问世，要求电磁铁的铁芯材料不仅要求具有较好的电磁性能，而且要具有良好的抗打击性，对0.5毫米厚的热轧硅钢片制作的铁芯要求耐打击次数在1000万次以上。而现有0.5毫米热轧硅钢片制作的铁芯耐打击次数为300万次水平。
本发明目的就是要发明一种既能满足电磁性能要求，又能满足抗打击要求(打击次数在1000万次以上)的高强度硅钢片。
本发明通过调整原硅钢的化学成份来提高抗打击性。
硅钢是单一的铁素体组织。任何促使弥散析出的第二相的元素以及使晶粒细化的元素均导致电磁性能恶化。为保证较好的电磁性能，只能采用固溶强化来提高强度和抗打击性。硅本身有较明显的固溶强化效果，它对提高电磁性能是有利的。但硅含量过高，会导致脆性增加，故应控制在3.3%以下。碳的固溶强化效果很大，但碳是硅钢中主要的有害元素，在硅钢中成品碳含量应控制在0.01%以下。
锰在硅钢中除形成MnS以外，还以置换固溶体形式存在。它对铁素体的固溶强化有较明显的效果。一般加入1%锰，钢的σs能提高32N/mm2，而且对硅钢的电磁性能影响较小，也不会导致脆性增加，因此锰是较理想的固溶强化元素。特别当热轧硅钢片采用轧后急冷新工艺时，由于锰能扩大奥氏体相区，因此可在相同终轧温度条件下，减少急冷前的碳化物析出量，增加急冷后钢中过饱和固溶碳的比例，从而有利于随后退火时的脱碳和再结晶过程。这就相应地降低了由于锰的增加而造成的对硅钢电磁性能的不利影响。
磷对硅钢片的电磁性能影响与硅类似，它是一种固溶强化元素。但磷易引起钢的冷脆，一般在硅含量较高时都要求磷含量控制在较低水平。但经试验研究发现，硅和磷对钢脆性的影响不是简单的叠加。当硅含量小于3.3%时，加入少量的磷，钢的脆性不会因此而有较大的增加，但对硅钢的固溶强化和电磁性能却有较有利的影响。所以在本发明中除了增加锰的含量外，还适量地提高了磷的含量。根据本厂反复实施研究调整，本发明的成份应为(重量百分数)SiCMnPSFe1.50～3.30≤0.100.80～2.500.05～0.15≤0.03余量下面为本发明的实施例。
采用常规硅钢冶炼工艺冶炼，然后采用常规热轧开坯工艺开坯，按常规热轧硅钢片工艺轧制成0.5毫米厚的成品，并采用轧后急冷工艺，然后将成品规格的硅钢板经常规退火处理。下面本发明的化学成份(重量百分数)(其中0-1和0-2号为作为比较的现有的热轧硅钢片)，机械性能和电磁性能。
从上表可以看出，本发明实施例的电磁性能均能满足新型交流接触器开关的要求B25>1.46TP10/50<2.5w/kg，而机械性能则在δ%水平相当情况下，σb和σs值均明显高于原热轧矽钢片，因而本发明实施例的抗打击性能均在1000万次以上，也满足了新型交交流接触器开关的要求。
本发明的实施例既能保证了优良的电磁性能，又具有优良的抗打击性，在相当的δ%水平下，本发明的强度明显高于现有硅钢片。因而采用本发明生产的0.5mm热轧硅钢片制作的铁芯，其电磁性能和抗打击次数均能满足新型交流接触器开关的要求。
权利要求
1.一种抗打击高强度硅钢片。其特征在于，它的化学成份(重量百分数)为硅1.50～3.30， 碳≤0.10， 锰0.80～2.50磷0.05～0.15， 硫≤0.03， 余铁。
全文摘要
一种抗打击高强度硅钢片，它的化学成分(重量百分数)为硅1.50～3.30，碳≤0.10，锰0.80～2.50，磷0.05～0.15，硫≤0.03，余铁。本发明硅钢片既保证了优良的电磁性能又具有优良的抗打击性，是制造新型交流接触器磁铁开关铁芯的理想材料。
文档编号C22C38/04GK1077500SQ9311239
公开日1993年10月20日 申请日期1993年4月8日 优先权日1993年4月8日
发明者马崇光, 丁其生 申请人:上海矽钢片厂