一种铝合金表面处理剂的制作方法

文档序号:9519692阅读:381来源:国知局
一种铝合金表面处理剂的制作方法
【专利说明】
【背景技术】
[0001]本发明属于金属表面处理领域,特别是指一种铝合金表面处理剂。
【背景技术】
[0002]
[0003]在铝合金加工或使用过程中,会有油污或涂料、底漆等物质的存留,因此在进行加工过程中均要进行清洗等程序,在清洗过程中,为了清除油污一般会加入表面活性剂以达到彻底清洗的目的。但对于金属工件表面的涂料或底漆等物质,仅靠表面活性剂就无法彻底清除,因此现通常是使用一些有机溶剂进行清洗,比如说三氯甲烷、丙酮等单一有机溶剂,但因有时所选用的涂料或底漆等的组成不同,具有不同的键,单一的有机溶剂的处理效果也不好,因此现有技术也在使用几种有机溶剂的组合来实现彻底清除的目的,但现有的溶剂组合配方存在以下问题:有的溶剂组合仅能清除某一特定类的涂料或底漆类物质,或有的溶剂组合能够去除多种物质,但通用性不强,实际也仅能清除一类特定的物质只不过是对其它类物质有一定的效果。
[0004]如何寻找到一种溶剂组合,使之能够实现对两类或以上的特定物质的清除作用是必要的。

【发明内容】

[0005]本发明的目的是通过本申请的技术方案,以实现能够对至少两类或上特定物质的清除有作用的溶剂型铝合金表面处理剂。
[0006]本发明是通过以下技术方案实现的:
[0007]一种铝合金表面处理剂,其组成按重量百分比包括:1,1,1_三氯乙烷20% -25%,三氯甲烷6% -9%,二氯乙烷15% -25%,丙酮22% -30%,环氧氯丙烷6% _8%,环氧乙醚2-5%,余量为乙醇。
[0008]本发明的有益效果是:
[0009]同现有技术相比,本技术方案的表面处理剂处理效果更彻底,对多数的物质均有很好的清除效果。
【具体实施方式】
[0010]以下通过实施例来详细描述本申请的技术方案。
[0011]实施例1
[0012]按重量百分比配制处理剂,其中1,1,1_三氯乙烷25%,三氯甲烷9%,二氯乙烷15 %,丙酮22 %,环氧氯丙烷6 %,环氧乙醚2 %,余量为乙醇,将以上组成在常温下配制好溶液。为了体现处理剂的效果,通过测验来检验本发明的功效。
[0013]1)试样的配制,按如上组成配制;
[0014]2)处理试样的选用,首先选择除电镀外加工完成的铝合金板规格为50mmX 100mmX3mm ;选择已经使用底漆的招合金板规格为50_X 100mmX3mm ;选择已经使用涂料的招合金板规格为50mmX 100mmX3mm。
[0015]3)对比处理剂的配方为1,1,1_三氯乙烷30% -40%,三氯甲烷5% _10%,丙酮15% -20%,环氧氯丙烷 3% -5%,乙醇 25% -40%。
[0016]4)处理环境为25°C,在带有搅拌器的容器内均进行10分钟的处理。
[0017]实施例2
[0018]本实施例中除了处理剂的组成有所改变外,其它条件同实施例1相同,包括检测实验也相同,因此就不再重复说明,在以下的实施例中也均是处理剂的组成变化,其它均没有变化。
[0019]重量百分比配制处理剂,其中1,1,1_三氯乙烷20%,三氯甲烷6%,二氯乙烷25 %,丙酮30 %,环氧氯丙烷8 %,环氧乙醚5 %,余量为乙醇,将以上组成在常温下配制好溶液。
[0020]实施例3
[0021]重量百分比配制处理剂,其中1,1,1_三氯乙烷22%,三氯甲烷8%,二氯乙烷20 %,丙酮25 %,环氧氯丙烷8 %,环氧乙醚3 %,余量为乙醇,将以上组成在常温下配制好溶液。
[0022]实施例4
[0023]重量百分比配制处理剂,其中1,1,1_三氯乙烷21%,三氯甲烷7%,二氯乙烷18 %,丙酮22 %,环氧氯丙烷7 %,环氧乙醚4 %,余量为乙醇,将以上组成在常温下配制好溶液。
[0024]通过本技术方案的处理剂在处理铝合金表面油污中同对比例相同均有很好的处理效果;在对带底漆和涂料的铝合金处理时本技术方案明显优于对比例;其中以实施例2和3的效果最佳,其中以实施例3为本申请的优选实施方案。
【主权项】
1.一种铝合金表面处理剂,其特征在于:其组成按重量百分比包括:1,1,1-三氯乙烷20% -25%,三氯甲烷6% -9%,二氯乙烷15% -25%,丙酮22% -30%,环氧氯丙烷6% -8%,环氧乙醚2-5%,余量为乙醇。
【专利摘要】本发明涉及一种铝合金表面处理剂,其组成按重量百分比包括:1,1,1-三氯乙烷20%-25%,三氯甲烷6%-9%,二氯乙烷15%-25%,丙酮22%-30%,环氧氯丙烷6%-8%,环氧乙醚2-5%,余量为乙醇。
【IPC分类】C23G5/032
【公开号】CN105274550
【申请号】CN201510760284
【发明人】黄忠波
【申请人】黄忠波
【公开日】2016年1月27日
【申请日】2015年11月10日
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