使用)。衬底处理室500包括上电极504和基座506，基座506包括下电极507。在运行的期间，衬底508布置在上电极504与下电极507之间，在基座506上。
[0098]仅举例来说，上电极504可以包括喷头509，喷头509引入处理气体并分配处理气体。喷头509可以包括杆部分，该杆部分包括连接至处理室的顶面的一端。底座部分为大体上圆柱形，并从与处理室的顶面隔开的位置处的杆部分的另一端向外径向延伸。喷头的底座部分的面向衬底的表面包括多个孔，处理气体或吹扫气体流过这些孔。替代地，上电极504可以包括导电板，并且，可以以另一方式引入处理气体。下电极507可以布置于非导电基座中。替代地，基座506可以包括静电卡盘，该静电卡盘包括充当下电极507的导电板。
[0099]RF生成系统510生成RF电压并将其输出至上电极504和下电极507之一。上电极504和下电极507中的另一个可以DC接地、AC接地或浮置。仅举例来说，RF生成系统510可以包括RF电压生成器511，RF电压生成器511生成RF电压，该RF电压由匹配及分配网络512馈送至上电极504或下电极507。
[0100]气体输送系统530包括一个或更多个气体源532-1、532-2........以及532-N(共同地称为气体源532)，其中4是大于零的整数。气体源供给一个或更多个前体及其混合物。气体源还可以供给吹扫气体。在一些示例中，还可以使用汽化的前体气体。气体源532由阀
534-1,534-2........以及534_N(共同地称为阀534)和质量流量控制器536-1、536_
2........以及536-N(共同地称为质量流量控制器536)连接至歧管540。歧管540的输出馈送至处理室502。仅举例来说，歧管540的输出可以经由前体气体和远程等离子体输送系统100而馈送至喷头509。
[0101 ] 加热器542可以连接至布置于基座506中的加热器线圈(未示出)。加热器542可以用于控制基座506和衬底508的温度。阀550和栗552可以用于从处理室502抽出反应物。控制器560可以用于控制衬底处理室500的构件。
[0102]在运行期间，远程等离子体生成器580可以用于将远程等离子体清洁(RPC)气体供给至前体气体及远程等离子体输送系统100。控制器560还可以用于控制气体输送组件100中的加热器160并控制RPC气体、吹扫气体和汽化的前体的供给。
[0103]现在，参考图9，图示根据本公开的原理的另一气体输送组件700。气体输送组件
700包括一个或更多个阀组件720-1、720-2.......以及720-N(共同地称为阀组件720)、控制器(未示出)、阀歧管728以及管道或圆筒790。在一些配置中，气体输送组件700包括第一阀组件720-1、第二阀组件720-2、第三阀组件720-3以及第四阀组件720-4。应理解，气体输送组件700可以包括多于或少于四个根据本公开的阀组件720。阀组件720可以包括任何市场上可买到的具有气动地或以电子学方法致动的隔膜的2端口或3端口阀组件。
[0104]如将在下文中更详细地解释的，阀组件720配置成选择性地与阀歧管728流体连通。在这点上，如图9中所图示的，控制器(例如，图7中的控制器560)可以根据需要而选择性地打开和关闭阀组件720-N，以控制通过气体输送组件700的一种或更多种流体的流动。具体地，控制器可以选择性地打开和/或关闭第一阀组件720-1、第二阀组件720-2、第三阀组件720-3和/或第四阀组件720-4，以使气体输送组件700以转移、供给以及待命的运行模式运行。
[0105]第一阀组件720-1包括阀主体730和阀致动器732。阀主体730包括入口 734和出口736。阀致动器732配置成控制通过阀主体730的流体的流动。具体地，在阀致动器732处于第一或打开状态时，阀主体730的入口 734与阀主体730的出口 736流体连通。在阀致动器732处于第二或关闭状态时，防止阀主体730的入口 734与阀主体730的出口 736流体连通。例如，第一阀组件720-1可以包括隔膜(未示出)，使得在关闭状态下，隔膜防止入口 734与出口 736流体连通。在一些配置中，第一阀组件720-1配置成使流体(例如，汽化的前体气体)的流动远离处理室(例如，处理室502)而转移。因此，在本文中，第一阀组件720-1可以被称为转移阀组件720-1。
[0106]第二阀组件720-2包括阀主体740和阀致动器742。阀主体740包括第一端口或入口744、第二端口或入口(未示出)以及第三端口或出口(未示出)。阀致动器742配置成控制通过阀主体740的流体的流动。具体地，在阀致动器742处于第一或打开状态时，阀主体740的第一入口 744与阀主体740的出口流体连通。在阀致动器742处于第二或关闭状态时，防止阀主体740的第一入口 744与阀主体740的出口流体连通。例如，第二阀组件720-2可以包括隔膜746，使得在关闭状态下，隔膜746防止第一入口 744和/或第二入口与出口流体连通。在这点上，第一入口 744可以限定阀座748，使得在关闭状态下，隔膜746密封地接合阀座748。在一些配置中，第二阀组件720-2配置成控制流至处理室(例如，处理室502)的流体(例如，汽化的前体气体)的流动。因此，在本文中，第二阀组件720-2可以被称为流动阀组件720-2。
[0107]阀歧管728包括主体774，主体774限定一个或更多个气体通道776-1、776-
2.......以及776-N(共同地称为气体通道776)、第一入口 778、第二入口 780以及第三入口
782、第一出口 784以及第二出口(例如，图8的第二出口685)。阀歧管728的第一出口 784和第二出口经由气体通道776和一个或更多个阀组件720而流体联接至第一入口 778、第二入口780以及第三入口 782ο在这点上，阀组件720配置成选择性地控制从第一入口 778、第二入口780以及第三入口 782通过气体通道776而流至第一出口和第二出口的流体的流动。
[0108]第一气体通道776-1从阀歧管728的第一入口 778和第二阀组件720-2的第一入口744延伸，并且，与这两个入口流体连通。第一气体通道776-1包括端口或孔794。在一些示例中，第一气体通道776-1包括弯头796，使得第一气体通道限定大体上“L”状的构造。
[0109]参考图9-10B，圆筒790包括从第一端802延伸至第二端804的大体上空心的空腔。在一些配置中，第一端802限定流体入口，并且，第二端804限定流体出口，使得圆筒790的大体上空心的空腔限定从第一端802延伸至第二端804的流道或气体通道806。在组装的配置中，圆筒790的第一端802安置在第一气体通道776-1内，并且，配置成与第一气体通道776-1流体连通。圆筒790的第二端804配置成与第二气体通道776-2流体连通。具体地，在一些配置中，圆筒790的第一端802安置在阀主体740内，并且，圆筒790的第二端安置在第二气体通道776-2内，或者说与第二气体通道776-2流体连通。在这点上，圆筒790的第一端802从阀主体740的入口 744和/或阀座748偏移，使得第一端802和阀座748限定轴向延伸的空间或空隙808 ο具体地，圆筒790的第一端802位于阀座748的上游。
[0110]如图1OA和图1OB中所图示的，圆筒790的至少一部分安置在第一气体通道776-1内，使得圆筒790通过孔794而延伸。在这点上，圆筒790可以密封地安置在孔794内。如图1OA中所图示的，圆筒790的外表面809限定横截面尺寸Dl，横截面尺寸Dl小于第一气体通道776-1和/或入口744的至少一部分的横截面尺寸D2。因此，在组装的配置中，圆筒790和第一气体通道776-1和/或入口 744在其间限定环形流通道810。
[0111]在一些配置中，圆筒790和第一气体通道776-1中的至少一个包括圆形的横截面，使得第一横截面尺寸Dl和/或第二横截面尺寸D2分别限定圆筒790和/或第一气体通道776-1的直径。圆筒790可以同中心地安置在第一气体通道776-1和/或入口 744内，使得环形流通道810围绕圆筒790而对称地安置。虽然圆筒790通常在本文中示出并描述为圆形的圆筒，但应理解，在本公开的范围内，圆筒790的横截面可以限定其他形状。例如，在一些配置中，在本公开的范围内，圆筒790可以限定椭圆形、三角形、矩形或其他多边形。
[0112]第二气体通道776-2从圆筒790的第二端804延伸至第一阀组件720-1的入口 734。在一些配置中，第二气体通道776-2从孔794延伸至第一阀组件720-1的入口734。第三气体通道776-3从第一阀组件720-1的出口 736延伸至阀歧管728的第一出口 784。第四气体通道(未示出)从第二阀组件720-2的出口延伸至阀歧管728的第二出口。
[0113]现在，将参考图9-10B和图11而描述使气体输送组件700运行的方法。该方法可以包括至少三个运行模式的连续循环，运行模式包括转移模式、供应模式以及待命模式。在这点上，转移模式可以先于供应模式，供应模式可以先于待命模式，并且，待命模式可以先于转移模式。在转移模式下，汽化的前体可以用于取代气体通道776中的不新鲜的前体。在供应模式下，汽化的前体供给至处理室。在待命模式下，不供给汽化的前体且不使其转移。
[0114]如图11中所示出的，用于使阀运行的方法从820开始。在822，关闭第一阀组件720-1和第二阀组件720-2，使得防止通过第一气体通道676-1的流动。在这点上，822可以对应于待命运行模式。如果阀720-1、720-2在足够多的时间内依然处于待命模式，则汽化的前体气体将停滞在阀歧管728的第一气体通道776-1和/或第一阀组件720-1的第一入口 744内。
[0115]在824，该方法确定是否需要将汽化的前体供给至衬底处理室。如果824是假，则该方法返回至822。如果824是真，则该方法继续进行至826，其中，第一阀组件720-1和第二阀组件720-2在预定的时期内处于转移运行模式。
[0116]具体地，在826，打开第一阀组件720-1，并且，关闭第二阀组件720_2。在这点上，隔膜746抵靠或者说密封地接合阀座748。因此，在转移运行模式期间，环形流通道810将流体从第一气体通道776-1供给至圆筒790的第一端802。例如，流体可以沿第一方向流过环形流通道810。在阀座，由隔膜746使流体改变方向而流过气体通道806。例如，流体可以沿与第一方向相反的第二方向流过气体通道806。气体通道806将流体从环形流通道810供给至第二气体通道776-2。第二气体通道776-2将流体从气体通道806供给至第一阀组件720-1，其中，能够将流体通过第三气体通道776-3而引导至衬底处理系统的内侧或外部的各种位置。因此