一种新型光触媒板的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及废气处理工程应用领域，具体指一种新型光触媒板的制造方法。
【背景技术】
[0002]大气是人类赖以生存和发展的必要条件，随着工业生产的发展，人口数量的增长等因素，废气的排放量也在逐年增加。世界各国在工业发达程度以及环保产业投入上的不同使得大气问题呈现区域差异，但随着地球资源的不断消耗，大气污染已经成为了世界性的难题。现阶段我国大气污染比较严重，同时，由于生产、生活废气的肆意排放使得我国的大气环境恶化越加严重，大气污染危机正笼罩着我国。
[0003]在工业日益发达的今天，废气的排放种类和排放量日益增多，成分也更加复杂，废气中往往含有大量难以生物降解的有机物。大气污染现象成为一个亟待解决的难题，成为了我国社会和经济发展的瓶颈。有关“三废”的排放标准和法律法规也更加严格，国家已经把大气污染治理列入了 “十二五”规划当中，因此开发可靠性好、处理效率高的废气处理方法已经成为了环保行业的研究热点。
[0004]在废气构成中，恶臭气体和有机挥发性气体(VOC)占据了很大的比重，其中恶臭气体主要包括硫化氢、氨气、硫醇以及二甲基硫等，有机挥发性气体主要包括苯、甲苯、二甲苯、甲醛、己烷、庚烷、甲基乙基酮、丙酮、四氯化碳、醋酸乙酯等。这些气体如不进行有效的处理，将会对大气环境、人类的生活质量和身体健康造成很大的危害。
[0005]传统的废气处理工艺主要包括物理法、化学法、生物法以及这三种方法的组合工艺。常见的物理方法有静电捕集、洗涤、吸收、吸附、冷凝等，这些方法已经在废气处理领域得到了广泛的应用，每种方法均有其特点及适用范围。常见的化学方法有燃烧、催化燃烧等，这些方法通常适合处理大风量、挥发性有机物含量高的有机废气。近年来国内外也发展出一些废气生物处理技术:如生物法、膜分离法等，该法目前在国内污水站废气治理中有少量运用，对于工业废气中治理的运用很少。对于性质复杂、处理要求高的废气，往往要采取以上三种方法的组合工艺，才能对废气进行经济有效的处理。
[0006]但工业上许多废气含有一种以上污染物，且污染物性质复杂、浓度高、处理要求严，此时采用传统的废气处理工艺就难以经济有效地达到处理目的。因此，需要开发新型的废气处理技术，而UV光解催化氧化法是近些年被开发出来的一种新型的废气处理技术，其原理是在光触媒净化器内，高能紫外线光束与空气、Ti02反应产生的臭氧、.0H(羟基自由基)对恶臭有机气体进行协同分解氧化反应，同时大分子有机气体在紫外线作用下使其链结构断裂，使恶臭有机气体物质转化为无臭味的低分子化合物或者完全氧化，生成水和C02，整个分解氧化过程在I秒内完成;光催化法只消耗电能，塔内的高能紫外线光束与空气、Ti02反应产生的臭氧、.0H(羟基自由基)对恶臭有机气体进行协同降解反应，可有效将其分解为C02和H20后排放到空气中，既达标排放，也消除了气体的恶臭。
[0007]UV光催化法对恶臭气体及VOC废气的处理具有如下几大优势:
[0008](I)尚效除恶臭:能尚效去除挥发性有机物(VOC)、无机物、硫化氣、氣气、硫醇类等主要污染物，以及各种恶臭味，脱臭效率可达95%以上，脱臭效果达到国家颁布的恶臭污染物排放一级标准(GB14554-93)。
[0009](2)无需添加任何物质:只需要设置相应的排风管道和排风动力，使待处理气体通过本设备进行氧化分解净化，无需添加任何物质参与化学反应。
[0010](3)适应性强:可适应高浓度，大气量，不同恶臭气体物质的脱臭净化处理，可每天24小时连续工作，运行稳定可靠。
[0011](4)运行成本低:本设备无任何机械动作，无噪音，无需专人管理和日常维护，只需作定期检查，本设备能耗低，设备风阻极低<700pa，可节约大量排风动力能耗。
[0012](5)适用范围广:光催化适用于炼油厂、橡胶厂、皮革厂、印刷厂、化工厂、制药厂、金属铸造厂、塑料再生厂、喷涂溶剂等有机和无机物恶臭气体的脱臭净化处理;喷漆(涂)车间、化工、医药、橡胶、食品、印染、造纸、酿造等生产过程中产生的有毒有害废气也可使用光催化处理。
[0013]UV光催化的核心技术是UV及光触媒等部件的研发与应用，运行时，设备内部的UV发光器需要与内置光触媒板进行协同作用，对经过设备主体的废气进行催化氧化处理，所以需要一种能与UV发光器进行良好协同作用的新型光触媒板。
【发明内容】
[0014]针对现有技术的不足，本发明旨在提供一种新型光触媒板的制造方法，本方法所制得的新型光触媒板上Ti02颗粒的粒径可达纳米级，保证了 Ti02颗粒在铝板基底上的厚度及稳定性，避免在使用过程中因催化剂Ti02颗粒的脱落而导致废气净化效率降低的问题。
[0015]为解决上述问题，本发明提供以下技术方案:
[0016]—种新型光触媒板的制造方法，所述新型光触媒板应用于光催化设备上，具体步骤如下:
[0017]步骤一:首先选取1mm厚的铝板，并将其加工成表面由边长为3mm的正六边形孔组成的呈蜂窝状的通透铝板基体；
[0018]步骤二:将呈蜂窝状的通透铝板基体进行裁切，并使其置于粉末熔射镀膜机内，在粉末熔射镀膜机的Ti02粉末喷出量为20?30g/min、喷射面积为10?18m2/h、喷涂效率为75%的工艺条件下，通过粉末熔射镀膜机在呈蜂窝状的通透铝板基体外镀一层Ti02薄膜；
[0019]步骤三:当步骤二中的铝板基体镀膜完成后，将镀膜完成的铝板基体进行冷却，再根据所述光催化设备的大小及设计参数，对冷却后的镀膜铝板基体进行尺寸调整，最后在调整后镀膜铝板基体四周安装铝合金框架，得到新型光触媒板；
[0020]最后将步骤三中制作完成的新型光触媒板安放入光催化设备内的预留插槽内，SP可完成安装。
[0021 ]进一步的，所述的Ti02薄膜的涂层厚35μηι。
[0022]进一步的，所述步骤一中的铝板基体表面的正六边形孔的密度约5.95万个/平方米。
[0023]有益效果:本发明所制得的新型光触媒板上的Ti02颗粒的粒径可达纳米级，保证了 Ti02颗粒在铝板基底上的厚度及稳定性，避免在使用过程中因催化剂Ti02颗粒的脱落而导致废气净化效率降低的问题。
【具体实施方式】
[0024]本发明提供的一种新型光触媒板的制造方法，所述新型光触媒板应用于光催化设备上，具体步骤如下:
[0025]步骤一:首先选取1mm厚的铝板，并将其加工成表面由边长为3mm的正六边形孔组成的呈蜂窝状的通透铝板基体，其铝板基体表面正六边形孔的密度约5.95万个/平方米；
[0026]步骤二:将呈蜂窝状的通透铝板基体进行裁切，并使其置于粉末熔射镀膜机内，在粉末熔射镀膜机的Ti02粉末喷出量为20?30g/min、喷射面积为10?18m2/h、喷涂效率为75%的工艺条件下，通过粉末熔射镀膜机在呈蜂窝状的通透铝板基体外镀一层厚度为35μπι的Ti02薄膜；
[0027]步骤三:当步骤二中的铝板基体镀膜完成后，将镀膜完成的铝板基体进行冷却，再根据所述光催化设备的大小及设计参数，对冷却后的镀膜铝板基体进行尺寸调整，最后在调整后镀膜铝板基体四周安装铝合金框架，得到新型光触媒板。
[0028]最后将步骤三中制作完成的新型光触媒板安放入光催化设备内的预留插槽内，SP可完成安装。
[0029]本发明所制得的新型光触媒板上的Ti02颗粒的粒径可达纳米级，保证了 Ti02颗粒在铝板基底上的厚度及稳定性，避免在使用过程中因催化剂Ti02颗粒的脱落而导致废气净化效率降低的问题。
[0030]以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明的技术范围作出任何限制，故凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明的技术方案的范围内。
【主权项】
1.一种新型光触媒板的制造方法，所述新型光触媒板应用于光催化设备上，其特征在于:具体步骤如下: 步骤一:首先选取1mm厚的铝板，并将其加工成表面由边长为3mm的正六边形孔组成的呈蜂窝状的通透铝板基体； 步骤二:将呈蜂窝状的通透铝板基体进行裁切，并使其置于粉末熔射镀膜机内，在粉末熔射镀膜机的Ti02粉末喷出量为20?30g/min、喷射面积为10?18m2/h、喷涂效率为75%的工艺条件下，通过粉末熔射镀膜机在呈蜂窝状的通透铝板基体外镀一层Ti02薄膜； 步骤三:当步骤二中的铝板基体镀膜完成后，将镀膜完成的铝板基体进行冷却，再根据所述光催化设备的大小及设计参数，对冷却后的镀膜铝板基体进行尺寸调整，最后在调整后镀膜铝板基体四周安装铝合金框架，得到新型光触媒板。2.根据权利要求1所述的一种新型光触媒板的制造方法，其特征在于:所述的Ti02薄膜的涂层厚35μπι。3.根据权利要求1所述的一种新型光触媒板的制造方法，其特征在于:所述步骤一中的铝板基体表面的正六边形孔的密度约5.95万个/平方米。
【专利摘要】本发明涉及废气处理工程应用领域，具体指一种新型光触媒板的制造方法，具体包括以下步骤：步骤一，加工制作呈蜂窝状的通透铝板基体；步骤二，将呈蜂窝状的通透铝板基体进行裁切，并使其置于粉末熔射镀膜机内，通过粉末熔射镀膜机在呈蜂窝状的通透铝板基体外镀一层TiO2薄膜；步骤三，当铝板基体镀膜完成后，将镀膜完成的铝板基体进行冷却，根据光催化设备的大小及设计参数，对镀膜铝板基体进行尺寸调整，最后在调整后镀膜铝板基体四周安装铝合金框架，得到新型光触媒板；本发明所制得的新型光触媒板上的TiO2颗粒的粒径可达纳米级，保证了TiO2颗粒在铝板基底上的厚度及稳定性，避免在使用过程中因催化剂TiO2颗粒的脱落而导致废气净化效率降低的问题。
【IPC分类】B01D53/88, C23C4/11
【公开号】CN105671472
【申请号】CN201610045619
【发明人】江悌坤
【申请人】苏州月辉环保科技有限公司
【公开日】2016年6月15日
【申请日】2016年1月23日