玻璃研磨机及其使用方法

文档序号:10673629阅读:1143来源:国知局
玻璃研磨机及其使用方法
【专利摘要】本发明是关于一种玻璃研磨机及其使用方法,涉及玻璃加工技术领域,主要目的在于降低液晶玻璃基板在研磨中的碎屏率。主要采用的技术方案为:玻璃研磨机,包括玻璃吸附平台以及研磨轮,所述玻璃吸附平台包括:工作台台条,其支撑平面上开有吸附凹槽,所述吸附凹槽的槽壁和/或槽底连通有分散布置的M个第一通气通道,M为大于等于3的正整数;真空吸气管路,与所述M个第一通气通道连通。相对于现有技术,吸附凹槽会对玻璃基板产生一个更加均等的作用力,使得玻璃基板更加稳固的被吸附在工作台台条上,降低液晶玻璃基板在研磨中的碎屏率。
【专利说明】
玻璃研磨机及其使用方法
技术领域
[0001]本发明涉及玻璃加工技术领域,特别是涉及一种玻璃研磨机及其使用方法。
【背景技术】
[0002]液晶玻璃基板是液晶显示屏的一个重要零部件,在对液晶玻璃基板的加工中,研磨是一道重要工序;研磨工序中,需要将液晶玻璃基板吸附在研磨机的吸附装置上,然后通过研磨机的研磨轮对玻璃基板的是四个边角进行研磨处理。
[0003]其中,研磨机的工作台台条的台面上共具有4个独立的真空吸口,分别在液晶玻璃基板的四个边角上;在开启吸真空设备后,液晶玻璃基板可被真空吸口吸附在工作台台条的台面上。
[0004]在实现本发明过程中,发明人发现现有技术中至少存在如下问题:
[0005]独立存在的4个真空吸口的压力值不完全相等,4个真空吸口的真空吸附力不均匀,在使用研磨机的研磨轮对液晶玻璃基板的边角进行研磨过程中,液晶玻璃基板容易产生较大的震动,真空吸附力值较低的真空吸口容易与玻璃基板脱离,存在液晶玻璃基板易碎的问题。

【发明内容】

[0006]有鉴于此,本发明提供一种玻璃研磨机及其使用方法,主要目的在于降低液晶玻璃基板在研磨中的碎屏率。
[0007]为达到上述目的,本发明主要提供如下技术方案:
[0008]—方面,本发明的实施例提供一种玻璃研磨机,包括玻璃吸附平台以及研磨轮,所述玻璃吸附平台包括:
[0009]工作台台条,其支撑平面上开有吸附凹槽,所述吸附凹槽的槽壁和/或槽底连通有分散布置的M个第一通气通道,M为大于等于3的正整数;
[0010]真空吸气管路,与所述M个第一通气通道连通。
[0011]本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
[0012]可选的,前述的玻璃研磨机,其中所述工作台台条包括相对的两个横向支撑台以及从两个横向支撑台向中心延伸的多个纵向支撑杆;
[0013]所述吸附凹槽位于所述横向支撑台的支撑平面上;
[0014]所述纵向支撑杆的端部具有吸盘,所述吸盘的底部连通有第二通气通道;
[0015]所述真空吸气管路与所述第二通气通道连通。
[0016]可选的,前述的玻璃研磨机,其中所述纵向支撑杆的杆臂上间隔的设置有N个支撑座,N为大于等于2的正整数;
[0017]其中,N个支撑座的支撑平面与所述横向支撑台的支撑平面处于同一平面。
[0018]可选的,前述的玻璃研磨机,其中还包括:
[0019]吹气管路,与至少一个第一通气通道、所述第二通气通道连通;或,
[0020]放空管路,与至少一个第一通气通道、所述第二通气通道连通。
[0021]可选的,前述的玻璃研磨机,其中所述吸附凹槽包括横行布置的多条横向管路以及连通多条横向管路的纵向管路。
[0022]可选的,前述的玻璃研磨机,其中所述吸附凹槽包括回字形凹槽,M个第一通气通道并排设置在回字形凹槽的中心;
[0023]所述吸附凹槽还包括依次连通M个第一通气通道和回字形凹槽的连接槽。
[0024]可选的,前述的玻璃研磨机,其中M个第一通气通道相互连通;或,
[0025]M个第一通气通道中的至少2个第一通气通道相互独立,真空吸气管路包括至少2个独立通路,每个独立通路分别连接相互独立的第一通气通道。
[0026]另一方面,本发明的实施例提供一种使用玻璃研磨机的方法,包括:
[0027]在玻璃研磨机工作台台条的支撑面上粘贴防静电台布,其中,所述支撑平面上开有吸附凹槽,所述吸附凹槽的槽壁和/或槽底连通有分散布置的M个第一通气通道,M为大于等于3的正整数;
[0028]在所述防静电台布上开设与所述吸附凹槽槽口对应的通气口;
[0029 ]将玻璃基板放置在工作台台条支撑面的防静电台布上;
[0030]开启与所述M个第一通气通道连通的真空吸气管路,使所述吸附凹槽产生负压,将所述玻璃基板吸附在所述工作台台条的支撑面上。
[0031]本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
[0032]可选的,前述的方法,其中
[0033]所述工作台台条包括相对的两个横向支撑台以及从两个横向支撑台向中心延伸的多个纵向支撑杆;所述吸附凹槽位于所述横向支撑台的支撑平面上;所述纵向支撑杆的端部具有吸盘,所述吸盘的底部连通有第二通气通道;所述真空吸气管路与所述第二通气通道连通;所述吹气管路与所述第二通气通道连通;所述纵向支撑杆的杆臂上间隔的设置有N个支撑座,N为大于等于2的正整数;其中,N个支撑座的支撑平面与所述横向支撑台的支撑平面处于同一平面;所述将玻璃基板放置在工作台台条支撑面的防静电台布上,之前还包括:
[0034]在N个支撑座的支撑平面上铺设防静电台布。
[0035]可选的,前述的方法,其中还包括:
[0036]通过吹气管路对负压的吸附凹槽泄压,其中,吹气管路与至少一个第一通气通道、所述第二通气通道连通;或,
[0037]通过放空管路对负压的吸附凹槽泄压,其中,放空管路与至少一个第一通气通道、所述第二通气通道连通。
[0038]借由上述技术方案,本发明技术方案实施例提供的玻璃研磨机及其使用方法至少具有下列优点:
[0039]本发明实施例提供的技术方案中,吸附凹槽连通有分散布置的M个第一通气通道,在真空吸气管路的负压吸力下,玻璃基板可被吸附在玻璃研磨机的工作台台条的吸附凹槽上,由于M个第一通气通道被同一个吸附凹槽连通,相对于现有技术,吸附凹槽会对玻璃基板产生一个更加均等的作用力,使得玻璃基板更加稳固的被吸附在工作台台条上,降低液晶玻璃基板在研磨中的碎屏率。
[0040]上述说明仅是本发明技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,并可依照说明书的内容予以实施,以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
【附图说明】
[0041]通过阅读下文优选实施方式的详细描述,各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的,而并不认为是对本发明的限制。而且在整个附图中,用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中:
[0042]图1是本发明的实施例一提供的一种玻璃研磨机的玻璃吸附平台的结构示意图;
[0043]图2是本发明的实施例一提供的一种玻璃研磨机的纵向支撑杆的结构示意图;
[0044]图3是本发明的实施例一提供的一种玻璃研磨机的玻璃吸附平台的局部结构示意图;
[0045]图4是本发明的实施例一提供的一种玻璃研磨机的管路连接示意图;
[0046]图5是本发明的实施例一提供的另一种玻璃研磨机的管路连接示意图;
[0047]图6是本发明的实施例提供的一种玻璃研磨机的玻璃吸附平台吸附玻璃基板后的第一视角结构示意图;
[0048]图7是本发明的实施例提供的一种玻璃研磨机的玻璃吸附平台吸附玻璃基板后的第二视角结构示意图;
[0049]图8是本发明的实施例二提供的一种使用玻璃研磨机的方法的流程示意图。
【具体实施方式】
[0050]为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例,对依据本发明提出的玻璃研磨机及其使用方法其【具体实施方式】、结构、特征及其功效,详细说明如后。在下述说明中,不同的“一实施例”或“实施例”指的不一定是同一实施例。此外,一或多个实施例中的特定特征、结构、或特点可由任何合适形式组合。
[0051]本文中术语“和/或”,仅仅是一种描述关联对象的关联关系,表示可以存在三种关系,例如,A和/SB,具体的理解为:可以同时包含有A与B,可以单独存在A,也可以单独存在B,能够具备上述三种任一种情况。
[0052]实施例一
[0053 ]如图1、图2、图3和图4所不,本发明的实施例一提出的一种玻璃研磨机,其包括:玻璃吸附平台以及研磨轮,所述玻璃吸附平台包括:
[0054]工作台台条10,工作台台条10的支撑平面上开有吸附凹槽11,所述吸附凹槽11的槽底连通有分散布置的M个第一通气通道12,M为大于等于3的正整数;吸附凹槽11可为长条形的凹槽,如,一字型长条、环形条、多个条形凹槽拼接一起的多条线形凹槽等;吸附凹槽整体长度根据玻璃基板的尺寸而定,整体长度尺寸越长,对玻璃基板的吸附面越大;其中,第一通气通道的个数根据需要而定,数量越多,吸附凹槽的吸附力越均匀。
[0055]真空吸气管路20,真空吸气管路20与所述M个第一通气通道12连通;真空吸气管路20可与真空栗连接。
[0056]在对玻璃基板研磨中,可通过下述工艺过程:
[0057]在工作台台条的支撑面上粘贴防静电台布;
[0058]在所述防静电台布上开设与所述吸附凹槽槽口对应的通气口 ;
[0059 ]将玻璃基板放置在工作台台条支撑面的防静电台布上;
[0060]开启与所述M个第一通气通道连通的真空吸气管路(开启真空栗),使所述吸附凹槽产生负压,将所述玻璃基板吸附在所述工作台台条的支撑面上;
[0061 ]控制研磨轮对玻璃基板进行研磨。
[0062]本发明实施例提供的技术方案中,吸附凹槽连通有分散布置的M个第一通气通道,在真空吸气管路的负压吸力下,玻璃基板可被吸附在玻璃研磨机的工作台台条的吸附凹槽上,由于M个第一通气通道被同一个吸附凹槽连通,相对于现有技术,吸附凹槽会对玻璃基板产生一个更加均等的作用力(由于M个第一通气通道被吸附凹槽连通,使得M个第一通气通道所给予的压力被均匀化),使得玻璃基板更加稳固的被吸附在工作台台条上,降低液晶玻璃基板在研磨中的碎屏率。
[0063]图1中所示的工作台台条,宽度尺寸可为1500_,第一通气通道12的个数为5个,位于吸附凹槽11两端的两个第一通气通道距离支撑平面两侧边缘50-250mm,如150mm;位于同一直线上的5个第一通气通道12,每相邻的2个第一通气通道12之间的间隔在200-400mm之间,具体可为300mm。其中工作台台条为矩形,回字形吸附凹槽11的边缘距离矩形工作台台条的边缘1mm,吸附凹槽11槽宽5mm,5个第一通气通道12通过吸附凹槽11连通。
[0064]如图1和图3所示,在具体的实施当中,上述的玻璃研磨机,其中所述工作台台条包括相对的两个横向支撑台1a以及从两个横向支撑台1a向中心延伸的多个纵向支撑杆1b;所述吸附凹槽11位于所述横向支撑台1a的支撑平面上;所述纵向支撑杆1b的端部具有吸盘13,所述吸盘13的底部连通有第二通气通道;所述真空吸气管路与所述第二通气通道连通。即,在玻璃基板的两侧使用吸附凹槽进行吸附,在玻璃基板的中心使用吸盘进行吸附。第一通气通道和第二通气通道可连接同一真空栗,也可分别连接不同的真空栗,可使吸附凹槽的吸力大于吸盘的吸力。同时,在对玻璃研磨机的生产中,由于公差的存在,很难将横向支撑台与纵向支撑台处于同一平面上,在玻璃基板的两侧使用吸附凹槽吸附,中间采用柔性的吸盘吸附,柔性的吸盘可具有高度上的伸缩适配性,吸附效果较好。
[0065]具体的,如图3和图4所示,上述实施例中所述的玻璃研磨机中,还包括:吹气管路30。吹气管路30与至少一个第一通气通道12、第二通气通道连通。研磨轮对玻璃基板研磨完成之后,可开启吹气管路(开启与吹气管路的空气压缩机),向吸附凹槽内充气,使内部负压转换为正压,将研磨好的玻璃基板从吸附凹槽上分离,操作便捷。
[0066]同样的,上述实施例中,不仅仅仅局限于使用吹气管路,也可使用放空管路来实现便于分离的效果。具体的,上述实施例中所述的玻璃研磨机中,还包括:放空管路,放空管路与至少一个第一通气通道、所述第二通气通道连通。具体的,放空管路上具有放空阀门,研磨轮对玻璃基板研磨完成之后,可开启放空阀门,使吸附凹槽内与外部大气连通,将内部负压转换为正压,将研磨好的玻璃基板从吸附凹槽上分离,操作便捷。其中,放空管路即包括有与至少一个第一通气通道、第二通气通道相互连通管道,在管道上具有一个放空阀门,放空阀门用于控制管道的通、闭。
[0067]如图1和图3所示,为了进一步提高对玻璃基板的吸附效果,上述的玻璃研磨机,其中所述纵向支撑杆1b的杆臂上间隔的设置有N个支撑座14,N为大于等于2的正整数;其中,N个支撑座14的支撑平面与所述横向支撑台1a的支撑平面处于同一平面。其中,同一水平面并非绝对的同一平面,应当理解为包含有制造工艺上公差。由于显示屏的尺寸越来越大,玻璃基板尺寸也随之变大,在横向工作台台条与吸盘之间,玻璃基板会受到重力而向下弯曲,为了支撑玻璃基板,防止玻璃基板弯曲变形或破碎,N个支撑座可将玻璃基板进行支撑,提高玻璃基板在玻璃吸附平台上的吸附效果。使用中,在将玻璃基板放置在吸附平台之前,可在N个支撑座上分别贴上防静电台布,再放置玻璃基板。同时,支撑座的支撑平面与玻璃基板支撑面积越小,能够降低玻璃基板下表面出现划伤及污渍的几率。间隔设置的N个支撑座相对于整体支撑座而言,可降低玻璃基板下表面出现划伤及污渍的几率。
[0068]在具体地实施中,为了更加牢固的吸附玻璃基板,上述的玻璃研磨机,其中所述吸附凹槽包括横行布置的多条横向管路以及连通多条横向管路的纵向管路。吸附凹槽可形成M字形、N字形、井字形、X形等等。
[0069]具体的,其中所述吸附凹槽包括回字形凹槽,M个第一通气通道并排设置在回字形凹槽的中心;所述吸附凹槽还包括依次连通M个第一通气通道和回字形凹槽的连接槽。其中,连接槽可连接第一通气通道和回字形凹槽的一侧,或者,连接槽可连接第一通气通道和回字形凹槽的两侧,可使回字形凹槽内的气压更加平稳。
[0070]如图4所示,M个第一通气通道12相互连通,相互连通的M个第一通气通道12通过真空吸气管路20与一真空栗连接。
[0071]在具体的实施中,在对玻璃基板进行研磨时,可以是4个边角同时进行研磨,那么会对玻璃基板产生一个均衡的作用力;但也有每个角单独进行研磨的情况,那么,在对每个角的研磨中,研磨轮会对玻璃基板产生一个倾向于磨削角的方向一个作用力,会给玻璃基板一个力矩,使吸附凹槽受力不均;为了提高吸附凹槽对玻璃基板的吸附稳定性,本发明提供的实施例中,M个第一通气通道中的至少2个第一通气通道相互独立,真空吸气管路包括至少2个独立通路,每个独立通路分别连接相互独立的第一通气通道。如图5所示,相互独立的至少2个第一通气通道包括第一通道12a和第二通道12b,第一通道12a连接第一真空栗20a,第二通道12b连接第二真空栗20b;第一通道12a与第二通道12b可位于吸附凹槽11的相对两侧,当玻璃基板的一个边角被研磨,受到力矩时,位于第一通道处和位于第二通道处受到的力不同,可通过调节第一真空栗或第二真空栗的吸力,来稳固玻璃基板;如,第一通道比第二通道处受到的分离力大,可增大第一真空栗的吸力,使第一真空栗的吸力大于第二真空栗的吸力。
[0072]实施例二
[0073]如图6、图7和图8所示,本发明的实施例二提供一种使用玻璃研磨机的方法,可使用上述实施例一中所述的玻璃研磨机,所述方法包括:
[0074]S100、在玻璃研磨机100工作台台条的支撑面上粘贴防静电台布,其中,所述支撑平面上开有吸附凹槽,所述吸附凹槽的槽壁和/或槽底连通有分散布置的M个第一通气通道,M为大于等于3的正整数;
[0075]S200、在所述防静电台布上开设与所述吸附凹槽槽口对应的通气口 ;
[0076]S300、将玻璃基板200放置在工作台台条支撑面的防静电台布上;
[0077]S400、开启与所述M个第一通气通道连通的真空吸气管路,使所述吸附凹槽产生负压,将所述玻璃基板吸附在所述工作台台条的支撑面上。
[0078]本发明实施例提供的技术方案中,吸附凹槽连通有分散布置的M个第一通气通道,在真空吸气管路的负压吸力下,玻璃基板可被吸附在玻璃研磨机的工作台台条的吸附凹槽上,由于M个第一通气通道被同一个吸附凹槽连通,相对于现有技术,吸附凹槽会对玻璃基板产生一个更加均等的作用力,使得玻璃基板更加稳固的被吸附在工作台台条上,降低液晶玻璃基板在研磨中的碎屏率。
[0079]进一步的,为了提高对玻璃基板的吸附效果,上述的方法,其中所述工作台台条包括相对的两个横向支撑台以及从两个横向支撑台向中心延伸的多个纵向支撑杆;所述吸附凹槽位于所述横向支撑台的支撑平面上;所述纵向支撑杆的端部具有吸盘,所述吸盘的底部连通有第二通气通道;所述真空吸气管路与所述第二通气通道连通;所述吹气管路与所述第二通气通道连通;所述纵向支撑杆的杆臂上间隔的设置有N个支撑座,N为大于等于2的正整数;其中,N个支撑座的支撑平面与所述横向支撑台的支撑平面处于同一平面;所述将玻璃基板放置在工作台台条支撑面的防静电台布上,之前还包括:
[0080]如图6所示,在N个支撑座的支撑平面上铺设防静电台布300。
[0081 ]具体可通过下述方法将研磨后的玻璃基板从吸附凹槽上分离:
[0082]—、研磨轮对玻璃基板进行研磨之后,为了便于将玻璃基板分离,上述的方法,其中还包括:通过吹气管路对负压的吸附凹槽泄压,其中,吹气管路与至少一个第一通气通道、所述第二通气通道连通。
[0083]二、研磨轮对玻璃基板进行研磨之后,为了便于将玻璃基板分离,上述的方法,其中还包括:通过放空管路对负压的吸附凹槽泄压,其中,放空管路与至少一个第一通气通道、所述第二通气通道连通。
[0084]具体的,上述方法的步骤中,在所述防静电台布上开设与所述吸附凹槽槽口对应的通气口,具体可为使用刀具对防静电台布开设通气口;或是,具体为使用模具下压所述支撑平面,使所述模具上的刀口在防静电布上开设通气口,其中,所述模具具有与工作台台条支撑平面尺寸配合的凹槽,所述刀口位于所述凹槽的底部,所述刀口的线条形状与所述吸附凹槽的槽口线条形状匹配。
[0085]在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。
[0086]可以理解的是,上述装置中的相关特征可以相互参考。另外,上述实施例中的“第一”、“第二”等是用于区分各实施例,而并不代表各实施例的优劣。
[0087]在此处所提供的说明书中,说明了大量具体细节。然而,能够理解,本发明的实施例可以在没有这些具体细节的情况下实践。在一些实例中,并未详细示出公知的结构和技术,以便不模糊对本说明书的理解。
[0088]类似地,应当理解,为了精简本公开并帮助理解各个发明方面中的一个或多个,在上面对本发明的示例性实施例的描述中,本发明的各个特征有时被一起分组到单个实施例、图、或者对其的描述中。然而,并不应将该公开的装置解释成反映如下意图:即所要求保护的本发明要求比在每个权利要求中所明确记载的特征更多的特征。更确切地说,如下面的权利要求书所反映的那样,发明方面在于少于前面公开的单个实施例的所有特征。因此,遵循【具体实施方式】的权利要求书由此明确地并入该【具体实施方式】,其中每个权利要求本身都作为本发明的单独实施例。
[0089]本领域那些技术人员可以理解,可以对实施例中的装置中的部件进行自适应性地改变并且把它们设置在与该实施例不同的一个或多个装置中。可以把实施例中的部件组合成一个部件,以及此外可以把它们分成多个子部件。除了这样的特征中的至少一些是相互排斥之外,可以采用任何组合对本说明书(包括伴随的权利要求、摘要和附图)中公开的所有特征以及如此公开的任何装置的所有部件进行组合。除非另外明确陈述,本说明书(包括伴随的权利要求、摘要和附图)中公开的每个特征可以由提供相同、等同或相似目的的替代特征来代替。
[0090]此外,本领域的技术人员能够理解,尽管在此所述的一些实施例包括其它实施例中所包括的某些特征而不是其它特征,但是不同实施例的特征的组合意味着处于本发明的范围之内并且形成不同的实施例。例如,在下面的权利要求书中,所要求保护的实施例的任意之一都可以以任意的组合方式来使用。本发明的各个部件实施例可以以硬件实现,或者以它们的组合实现。
[0091]应该注意的是上述实施例对本发明进行说明而不是对本发明进行限制,并且本领域技术人员在不脱离所附权利要求的范围的情况下可设计出替换实施例。在权利要求中,不应将位于括号之间的任何参考符号构造成对权利要求的限制。单词“包含”不排除存在未列在权利要求中的部件或组件。位于部件或组件之前的单词“一”或“一个”不排除存在多个这样的部件或组件。本发明可以借助于包括有若干不同部件的装置来实现。在列举了若干部件的权利要求中,这些部件中的若干个可以是通过同一个部件项来具体体现。单词第一、第二等的使用不表示任何顺序。可将这些单词解释为名称。
[0092]以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。
【主权项】
1.一种玻璃研磨机,包括玻璃吸附平台以及研磨轮,其特征在于,所述玻璃吸附平台包括: 工作台台条,其支撑平面上开有吸附凹槽,所述吸附凹槽的槽壁和/或槽底连通有分散布置的M个第一通气通道,M为大于等于3的正整数; 真空吸气管路,与所述M个第一通气通道连通。2.根据权利要求1所述的玻璃研磨机,其特征在于, 所述工作台台条包括相对的两个横向支撑台以及从两个横向支撑台向中心延伸的多个纵向支撑杆; 所述吸附凹槽位于所述横向支撑台的支撑平面上; 所述纵向支撑杆的端部具有吸盘,所述吸盘的底部连通有第二通气通道; 所述真空吸气管路与所述第二通气通道连通。3.根据权利要求2所述的玻璃研磨机,其特征在于, 所述纵向支撑杆的杆臂上间隔的设置有N个支撑座,N为大于等于2的正整数; 其中,N个支撑座的支撑平面与所述横向支撑台的支撑平面处于同一平面。4.根据权利要求2所述的玻璃研磨机,其特征在于,还包括: 吹气管路,与至少一个第一通气通道、所述第二通气通道连通;或, 放空管路,与至少一个第一通气通道、所述第二通气通道连通。5.根据权利要求1所述的玻璃研磨机,其特征在于, 所述吸附凹槽包括横行布置的多条横向管路以及连通多条横向管路的纵向管路。6.根据权利要求5所述的玻璃研磨机,其特征在于, 所述吸附凹槽包括回字形凹槽,M个第一通气通道并排设置在回字形凹槽的中心; 所述吸附凹槽还包括依次连通M个第一通气通道和回字形凹槽的连接槽。7.根据权利要求1所述的玻璃研磨机,其特征在于, M个第一通气通道相互连通;或, M个第一通气通道中的至少2个第一通气通道相互独立,真空吸气管路包括至少2个独立通路,每个独立通路分别连接相互独立的第一通气通道。8.一种使用权利要求1-7任一项所述玻璃研磨机的方法,其特征在于,包括: 在玻璃研磨机工作台台条的支撑面上粘贴防静电台布,其中,所述支撑平面上开有吸附凹槽,所述吸附凹槽的槽壁和/或槽底连通有分散布置的M个第一通气通道,M为大于等于3的正整数; 在所述防静电台布上开设与所述吸附凹槽槽口对应的通气口; 将玻璃基板放置在工作台台条支撑面的防静电台布上; 开启与所述M个第一通气通道连通的真空吸气管路,使所述吸附凹槽产生负压,将所述玻璃基板吸附在所述工作台台条的支撑面上。9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于, 所述工作台台条包括相对的两个横向支撑台以及从两个横向支撑台向中心延伸的多个纵向支撑杆;所述吸附凹槽位于所述横向支撑台的支撑平面上;所述纵向支撑杆的端部具有吸盘,所述吸盘的底部连通有第二通气通道;所述真空吸气管路与所述第二通气通道连通;所述吹气管路与所述第二通气通道连通; 所述纵向支撑杆的杆臂上间隔的设置有N个支撑座,N为大于等于2的正整数;其中,N个支撑座的支撑平面与所述横向支撑台的支撑平面处于同一平面;所述将玻璃基板放置在工作台台条支撑面的防静电台布上,之前还包括: 在N个支撑座的支撑平面上铺设防静电台布。10.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,还包括: 通过吹气管路对负压的吸附凹槽泄压,其中,吹气管路与至少一个第一通气通道、所述第二通气通道连通;或, 通过放空管路对负压的吸附凹槽泄压,其中,放空管路与至少一个第一通气通道、所述第二通气通道连通。
【文档编号】B24B37/34GK106041718SQ201610517055
【公开日】2016年10月26日
【申请日】2016年7月4日
【发明人】付继龙, 李青, 董光明, 姬文强, 岳粹好, 石志强, 李震, 李俊生
【申请人】芜湖东旭光电科技有限公司, 东旭光电科技股份有限公司
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