微波脉冲等离子体真空镀膜装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体涉及微波脉冲等离子体真空镀膜装置。
【背景技术】
[0002]微波脉冲等离子体真空镀膜装置是一种对工件表面进行镀膜的装置，一般包括机座、真空管道及密封微波罩，所述机座内设置有一真空腔，所述真空腔的底部通过一抽气口与真空管道连通，顶部设置多个开口，并通过开口与密封玻璃罩连通，所述开口与密封微波罩一一对应，所述密封微波罩内设置有工件固定夹，用于将待镀膜工件固定在密封微波罩内，所述真空管道为一直通管道，所述真空管道还与真空泵连通。镀膜前，需通过工件固定夹将待镀膜工件固定在密封微波罩内，然后通过真空泵将机座的真空腔内空气抽走，进而抽走密封微波罩内的空气，使密封微波罩内也形成真空环境，最后通过微波脉冲对工件进行镀膜。
[0003]目前，微波脉冲等离子体真空镀膜装置的真空腔为长方体装，长度一般在450mm-900mm之间，密封微波罩沿真空腔的长度方向均匀设置在机座顶部。但是由于真空腔的底部只设有一抽气口，该抽气口与各密封微波罩之间的距离不同，导致各密封微波罩之间的真空度不一致，甚至同一密封微波罩内的真空度也存在差异，影响工件成膜的厚度的均匀性和一致性，进而影响工件镀膜的质量。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的是克服现有技术的不足和缺陷，提供一种微波脉冲等离子体真空镀膜装置，提高工件镀膜的均匀性。
[0005]本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的:微波脉冲等离子体真空镀膜装置，包括:一设置有第一真空腔和第二真空腔的机座、一“Y”形真空管道及两个以上的密封微波罩，所述第一真空腔和第二真空腔的底部分别设置第一抽气口和第二抽气口，真空管道的第一上端接口和第二上端接口分别与第一抽气口和第二抽气口连接，真空管道的下端接口接真空泵，所述密封微波罩设置在机座顶面，并分别与第一真空腔或第二真空腔连通。
[0006]作为优选，各密封微波罩与其对应连通的真空腔的抽气口的距离均相等。
[0007]作为优选，所述第一真空腔和第二真空腔相互独立。
[0008]作为优选，所述第一抽气口和第二抽气口均为倒梯形状，一方面使各真空腔的抽气速度一致，另一方面平滑空气排出的路径，避免真空腔内和密封微波罩内空气产生紊流，提高真空腔内和密封微波罩内空气排出的速度和效率。
[0009]作为优选，所述真空管道包括第一上端管道、第二上端管道和下端管道，第一上端管道的上接口与第一抽气口连接，下接口与下端管道的上接口连接；第二上端管道的上接口与第二抽气口连接，下接口与下端管道的上接口连接；下端管道的下接口与真空泵连接；所述第一上端管道与第二上端管道均为凹弧状，进一步平滑空气流出的路径，进一步避免真空腔内和密封微波罩内空气产生紊流，从而提高真空腔内和密封微波罩内空气排出的速度和效率。
[0010]作为优选，所述第一上端管道和第二上端管道是一体结构，简化真空管道的结构。
[0011]作为优选，所述第一上端管道和第二上端管道直径相等、长度相等，进一步确保各真空腔内和各密封微波罩内的真空度的一致性。
[0012]作为优选，所述密封微波罩的个数为8个，且以两排四列方式等间距设置在机座顶面，所述第一真空腔和第二真空腔分别与4个密封微波罩连通。
[0013]本实用新型相比现有技术包括以下优点及有益效果:
[0014]本实用新型通过在机座内设置第一真空腔和第二真空腔并分别在第一真空腔和第二真空腔的底部分别设置第一抽气口和第二抽气口，提高各密封微波罩之间真空度的一致性和单一密封微波罩内真空度的均匀性，从而确保工件的膜层的均匀性，此外，通过设置“Y”形真空管道，真空管道的第一上端接口和第二上端接口分别与第一抽气口和第二抽气口连接，简化该镀膜装置的结构，节约成本，且节约空间。
【附图说明】
[0015]图1为实施例中微波脉冲等离子体真空镀膜装置的剖视图；
[0016]图2为实施例中微波脉冲等离子体真空镀膜装置的俯视图。
【具体实施方式】
[0017]下面结合实施例及附图对本实用新型作进一步详细的描述，但本实用新型的实施方式不限于此。
[0018]实施例
[0019]如图1、图2所示，微波脉冲等离子体真空镀膜装置，包括:一设置有相互独立的第一真空腔101和第二真空腔102的机座1、一 “Y”形真空管道2及两个以上密封微波罩3。所述第一真空腔和第二真空腔的底部分别设置第一抽气口 1011和第二抽气口 1021，真空管道的第一上端接口 2011和第二上端接口 2021分别与第一抽气口和第二抽气口连接，真空管道的下端接口 2031接真空泵(图中未示出)，所述密封微波罩设置在机座顶面，并分别与第一真空腔或第二真空腔连通。所述第一抽气口和第二抽气口分别设置在第一真空腔底部中心位置和第二真空腔底部中心位置。在本实施例中，所述密封微波罩的个数为8个，且以两排四列方式等间距设置在机座顶面，所述第一真空腔和第二真空腔分别与4个密封微波罩连通。各密封微波罩与其对应连通的真空腔的抽气口的距离均相等。该镀膜装置的密封微波罩、真空腔、真空管道及真空泵依次连通，形成一真空抽气通道。
[0020]所述密封微波脉冲罩内设置有用于固定待镀膜工件4的工件固定夹5。镀膜前，需通过工件固定夹将待镀膜工件固定在密封微波罩内，然后通过真空泵将机座的真空腔内空气抽走，进而抽走密封微波罩内的空气，使密封微波罩内也形成真空环境，最后通过微波脉冲对工件进行镀膜。在本实施例中通过设置有第一真空腔和第二真空腔，第一真空腔和第二真空腔的底部分别设置第一抽气口和第二抽气口，提高各密封微波罩之间真空度的一致性和单一密封微波罩内真空度的均匀性，从而确保工件的膜层的均匀性。此外，本实施例中通过设置“Y”形真空管道，真空管道的第一上端接口和第二上端接口分别与第一抽气口和第二抽气口连接，简化该镀膜装置的结构，节约成本，且节约空间。[0021 ] 本实施例中，所述第一抽气口和第二抽气口均为倒梯形状，平滑空气排出的路径，避免真空腔内和密封微波罩内空气产生紊流，提高真空腔内和密封微波罩内空气排出的速度和效率。
[0022]具体地，所述真空管道包括第一上端管道201、第二上端管道202和下端管道203，第一上端管道的上接口与第一抽气口连接，下接口与下端管道的上接口连接；第二上端管道的上接口与第二抽气口连接，下接口与下端管道的上接口连接；下端管道的下接口与真空泵连接。所述第一上端管道的上接口为真空管道的第一上端接口，第二上端管道的上接口为真空管道的第二上端接口，下端管道的下接口为真空管道的下端接口。所述第一上端管道与第二上端管道均为凹弧状。进一步平滑空气流出的路径，进一步避免真空腔内和密封微波罩内空气产生紊流，从而提高真空腔内和密封微波罩内空气排出的速度和效率。
[0023]在本实施例中，所述第一上端管道和第二上端管道是一体结构，具体为一半圆形管道，管道中部开设一开口作为第一上端管道和第二上端管道的公共下接口，半圆形管道的两端开口分别为第一上端管道的上接口和第二上端管道的上接口，使第一上端管道和第二上端管道直径相等、长度相等。采用一体化设计，简化真空管道的结构，节约成本和空间，同时进一步确保各真空腔内和各密封微波罩内的真空度的一致性。
[0024]以上所述实施例仅表达了本实用新型的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
【主权项】
1.微波脉冲等离子体真空镀膜装置，其特征在于，包括:一设置有第一真空腔(101)和第二真空腔(102)的机座(I)、一“Y”形真空管道(2)及两个以上的密封微波罩(3)，所述第一真空腔和第二真空腔的底部分别设置第一抽气口(1011)和第二抽气口(1021)，真空管道的第一上端接口(2011)和第二上端接口(2021)分别与第一抽气口和第二抽气口连接，真空管道的下端接口(2031)接真空泵，所述密封微波罩设置在机座顶面，并分别与第一真空腔或第二真空腔连通。
2.根据权利要求1所述的微波脉冲等离子体真空镀膜装置，其特征在于:各密封微波罩与其对应连通的真空腔的抽气口的距离均相等。
3.根据权利要求1所述的微波脉冲等离子体真空镀膜装置，其特征在于:所述第一真空腔和第二真空腔相互独立。
4.根据权利要求1所述的微波脉冲等离子体真空镀膜装置，其特征在于:所述第一抽气口和第二抽气口均为倒梯形状。
5.根据权利要求1所述的微波脉冲等离子体真空镀膜装置，其特征在于:所述真空管道包括第一上端管道(201)、第二上端管道(202)和下端管道(203)，第一上端管道的上接口与第一抽气口连接，下接口与下端管道的上接口连接；第二上端管道的上接口与第二抽气口连接，下接口与下端管道的上接口连接；下端管道的下接口与真空泵连接；所述第一上端管道与第二上端管道均为凹弧状。
6.根据权利要求5所述的微波脉冲等离子体真空镀膜装置，其特征在于:所述第一上端管道和第二上端管道是一体结构。
7.根据权利要求5所述的微波脉冲等离子体真空镀膜装置，其特征在于:所述第一上端管道和第二上端管道直径相等、长度相等。
8.根据权利要求1至7任一项所述的微波脉冲等离子体真空镀膜装置，其特征在于:所述密封微波罩的个数为8个，且以两排四列方式等间距设置在机座顶面，所述第一真空腔和第二真空腔分别与4个密封微波罩连通。
【专利摘要】本实用新型涉及微波脉冲等离子体真空镀膜装置，包括：一设置有第一真空腔和第二真空腔的机座、一“Y”形真空管道及两个以上的密封微波罩，所述第一真空腔和第二真空腔的底部分别设置第一抽气口和第二抽气口，真空管道的第一上端接口和第二上端接口分别与第一抽气口和第二抽气口连接，真空管道的下端接口接真空泵，所述密封微波罩设置在机座顶面，并分别与第一真空腔或第二真空腔连通。提高各密封微波罩之间真空度的一致性和单一密封微波罩内真空度的均匀性，从而确保工件的膜层的均匀性，简化该镀膜装置的结构，节约成本，且节约空间。
【IPC分类】C23C14-28
【公开号】CN204298452
【申请号】CN201420640302
【发明人】高忠义
【申请人】惠州欧博莱光电技术有限公司
【公开日】2015年4月29日
【申请日】2014年10月29日