一种四轴射流抛光机的制作方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及抛光机技术领域，更具体的说，特别涉及一种四轴射流抛光机。
【背景技术】
[0002] 随着现代光学、电子学、薄膜科学及航空航天等科学的飞速发展，光学元件及功能 元件的形状越来越复杂，表面质量的要求也越来越苛刻，超光滑表面的应用也越来越高。超 光滑表面除了面形精度和表面粗糙度要求极高以外，还要求表面有完好的晶格结构、无缺 陷，能消除加工损伤层。1998年，荷兰Delft大学的FMin I e首先利用了 FJP技术，并将其 用在了光学元件的表面抛光上并获得了 I. 6nm的表面粗糙度，显示出FJP的超光滑表面加 工能力。此后，越来越多的科学家投入到FJP技术的研宄中。FShnIe和Booij通过研宄发 现FJP技术的去除原理主要依靠粒子对元件的冲击实现材料的去除，冲击粒子通过碰撞磨 削作用以塑性方式去除工件表面材料。射流抛光机的应用也越来越广泛，但现有的射流抛 光机一般成本较高、加工精度差且控制复杂。
【发明内容】
[0003] 本实用新型的目的在于针对现有技术存在的技术问题，提供一种四轴射流抛光 机，整体结构简单、成本低、喷射流稳定且去除效果好。
[0004] 为了解决以上提出的问题，本实用新型采用的技术方案为：
[0005] 一种四轴射流抛光机，包括溶液存储罐、隔膜泵、管路、喷嘴缓冲管、喷嘴和收集 箱；
[0006] 所述溶液存储罐内盛放射流溶液，收集箱设置在溶液存储罐上方；工件设置在收 集箱内，并与收集箱的入口位置相对应，所述收集箱的出口与溶液存储罐连通；所述隔膜泵 也与溶液存储罐连通，并连接管路的一端；所述管路的另一端连接喷嘴缓冲管，喷嘴缓冲管 的端部设置有喷嘴，喷嘴位于收集箱的入口上方；
[0007] 所述收集箱能够实现X轴方向运动，喷嘴缓冲管能够实现Y轴和Z轴方向以及旋 转运动。
[0008] 所述收集箱安装在X轴平台上，Z轴平台和Y轴平台垂直设置，T轴旋转平台安装 在Z轴平台上，喷嘴缓冲管安装在T轴旋转平台上。
[0009] 所述溶液存储罐与管路之间设置有安全阀，用于对管路进行泄压。
[0010] 所述管路上还设置有缓冲罐和压力表，所述缓冲罐用于减小管路的脉冲，所述压 力表用于显示管路的压力。
[0011] 所述X轴平台、Z轴平台和Y轴平台通过控制器进行控制，所述控制器与计算机连 接，通过计算机能够同时控制X、Y、Z三个方向的运动。
[0012] 所述溶液存储罐内还设置有搅拌器，用于对溶液存储罐内的溶液进行搅拌。
[0013] 所述收集箱为矩形透明盒PVC，其包括箱体和顶盖，顶盖安装在箱体顶部；箱体内 侧底部设置有安装工件的固定台，箱体侧面底端对称加工有通孔作为出口，顶盖中部加工 有通孔作为入口。
[0014] 所述喷嘴缓冲管为直管，并通过夹持块安装在T轴旋转平台上；所述夹持块通过 底板安装在T轴旋转平台上，底板上形成用于安装喷嘴缓冲管的套筒，套筒的圆周面上形 成开口，开口的外缘向外延伸形成两个定位块，两个定位块之间通过螺钉固定。
[0015] 采用机架作为安装载体，其内侧采用三层分布即上层、中层和下层，上层设置有X 轴平台、Z轴平台和Y轴平台以及收集箱，中层设置有控制器，下层设置有搅拌器和溶液存 储罐；所述隔膜泵和计算机置于机架外侧。
[0016] 所述工件通过工件夹固定在收集箱内的固定台上。
[0017] 与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：
[0018] 本实用新型中通过隔膜泵将射流溶液吸入管路内，并通过喷嘴缓冲管缓冲后经过 喷嘴作用在工件上，工件设置在收集箱内，方便安装，收集箱将加工后的溶液重新输入到溶 液存储罐内，可以循环利用，整个抛光机能够实现四个方向的运动，方便调节喷嘴与工件之 间的位置关系，整体结构简单、成本低、喷射流稳定且去除效果好。
【附图说明】
[0019] 图1为本实用新型四轴射流抛光机的结构示意图。
[0020] 图2为本实用新型收集箱的整体结构示意图。
[0021] 图3为本实用新型收集箱的局部结构示意图。
[0022] 图4为本实用新型夹持块的结构示意图。
[0023] 附图标记说明：1-溶液存储罐、2-搅拌器、3-隔膜泵、4-安全阀、5-缓冲罐、6-压 力表、7-管路、8-Z轴平台、9-Y轴平台、IO-T轴旋转平台、11-喷嘴缓冲管、12-喷嘴、13-工 件夹、14-工件、15-收集箱、15a-入口、15b-出口、15c-固定台、16-X轴平台、17-控制器、 18-机架、19-计算机、21-底板、22-套筒、23-定位块
【具体实施方式】
[0024] 为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描 述。附图中给出了本实用新型的较佳实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来 实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的 公开内容的理解更加透彻全面。
[0025] 除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领 域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为 了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。
[0026] 参阅图1所示，本实用新型提供的一种四轴射流抛光机，包括溶液存储罐1、隔膜 泵3、管路7、喷嘴缓冲管11、喷嘴12和收集箱15,本实施例中以机架18为安装载体。
[0027] 所述溶液存储罐1内盛放射流溶液，并设置在机架18内侧。收集箱15也设置在 机架18内侧并位于溶液存储罐1上方，收集箱15上加工有入口和出口。工件14设置在收 集箱15内，并与收集箱15的入口位置相对应，收集箱15的出口与溶液存储罐1连通。
[0028] 所述隔膜泵3置于机架18外侧，并与溶液存储罐1连通。隔膜泵3还连接管路7 的一端，管路7的另一端连接喷嘴缓冲管11，喷嘴缓冲管11的端部设置有喷嘴12,喷嘴12 位于收集箱15上方。
[0029] 所述收集箱15能够实现X轴方向运动，喷嘴缓冲管11能够实现Y轴和Z轴方向 以及旋转运动，这样可以方便调节喷嘴12与工件14之间的距离及对应的位置关系，即使得 喷嘴12与工件14的位置相对应，保证喷射溶液能够可靠地作用在工件14上。
[0030] 上述中，收集箱15安装在X轴平台16上，通过X轴平台16可靠地实现X轴方向 运动。Z轴平台8和Y轴平台9垂直设置，T轴旋转平台10安装在Z轴平台8上，喷嘴缓冲 管11安装在T轴旋转平台10上，这样可以可靠地实现Y轴和Z轴方向以及旋转运动。
[0031] 上述中，溶液存储罐1与管路7之间设置有安全阀4,用于保证喷射压力不会突然 增大，可以起到对管路7进行泄压的作用。
[0032] 上述中，管路7上还设置有缓冲罐5和压力表6,所述缓冲罐5用于减小管路7的 脉冲，可减小脉冲达95% ;所述压力表6用于显示管路7的压力，保证管路7的安全性和可 靠性。
[0033] 上述中，X轴平台16、Z轴平台8和Y轴平台9通过控制器17进行控制，可以实现 三维运动。控制