专利名称：高纯超细二氧化硅的生产方法
技术领域：
本发明涉及一种生产方法，特别涉及一种高纯超细二氧化硅的生 产方法。(二) 背景技术高纯度二氧化硅是生产半导体材料、集成电路、光导纤维、玻璃 纤维等高技术领域不可缺少的材料，其具有稳定和独特的物理化学性 能。目前，制备高纯二氧化硅分为天然法和合成法两大类，都存在分 离不彻底、无法有效提高二氧化硅纯度的难题，也有的工艺过于复杂、 生产费用高。(三) 发明内容本发明为了弥补现有技术的不足，提供了一种工艺简单、分离彻 底的高纯超细二氧化硅的生产方法。本发明是通过如下技术方案实现的一种高纯超细二氧化硅的生产方法，其特殊之处在于处理后的高压气体以0.6MPa—1.2MPa压力经不锈钢管道到达气流粉碎机喷 嘴，经气流粉碎机喷嘴处理后，形成超音速1-3倍高速气体；同时， 自喷嘴喷出的气体体积瞬间膨胀，压力降至常压，温度瞬间降低至20 摄氏度以下，带动由加料口进入的原材料高速运动并相互碰撞，达到 粉碎目的；原材料为结晶型纯度99.90% _99.99%的二氧化硅粉体， 最终产品纯度99.990%—99.999% 、粒度5000—10000目。本发明的高纯超细二氧化硅的生产方法，其进一步改进在于所 述高压气体的处理过程如下干净新鲜空气经空气压縮机压縮，形成 0.6—1.2MPa高压气体；经不锈钢管道进入储气罐进行油水分离；进 入过滤器进行精密过滤，形成较纯净的高压气体；接着进入露点负40 摄氏度的冷冻干燥机进行冷冻干燥；再进入过滤器进行高精密过滤， 最终形成低温高纯高压气体。本发明的高纯超细二氧化硅的生产方法，在气流粉碎过程中首先 对气流粉碎机粉碎室内壁和管道内壁采用耐磨材料进行涂层处理，内 壁涂层处理主要成分聚氨酯高分子材料和高纯二氧化硅。本发明具有以下优点l提纯技术配置提纯溶液，排放无污染； 2粉碎过程无粉尘排放；3粉碎过程无杂质进入；4产品收集采用全 自动真空包装；5产品粒度细，分布均匀，形貌规则。(四)
下面结合附图对本发明作进一步的说明。 附图为本发明的工艺流程图。
具体实施方式
附图为本发明的一种具体实施例。该实施例包括如下特点一、 压縮空气的净化l压缩空气的净化处理空气经压縮机压縮，压力为0. 6—L2MPa 经油水分离，精密过滤，冷冻干燥(露点达到一40摄氏度)，高精密过滤，形成高纯压縮气体。保证了不含任何杂质。二、 生产工艺流程1、 选矿—粗碎一清洗一干燥这四道工序通过原料采购得以实现。保证了原材料为结晶型纯度99.90% _99.99%的二氧化硅粉体。2、 气流粉碎首先对气流粉碎机粉碎室内壁和管道内壁采用不 含任何金属杂质的特殊耐磨材料进行涂层处理，其次粉碎过程全封闭。 保证了粉碎过程无杂质进入。3、 精密分级 通过精密分级机对加工后的物料进行全封闭全自 动的精密分级包装。保证了分级包装过程无杂质进入。通过以上两点，最终使产成品高纯超细纯度高(含硅量99.900 %—99.999%)、粒度细(5000—10000目)，并且分布均匀、形貌规三、 粉碎、分级工艺流程及原理1、干净新鲜空气经空气压縮机压縮，形成高压气体(0.6 — 1.2MPa);经不锈钢管道进入储气罐进行油水分离；进入过滤器进行精 密过滤，形成较纯净的高压气体；接着进入冷冻干燥机进行冷冻干燥(露点负40摄氏度)；再进入过滤器进行高精密过滤，最终形成低温 高纯高压气体。2、高压气体进入气流粉碎机粉碎室，经特殊喷嘴喷射形成超高 速气流，带动经加料仓进入的物料高速运动，高速运动的物料互相碰 撞，达到粉碎的目的。粉碎后的颗粒随上升气流到达分级室，分级机 高速运转，不合格的大颗粒甩到外壁下降到粉碎室再次粉碎，合格的 颗粒进入旋风分离机进行不同细度的分离分级包装，最终形成不同规 格的产成品。尾气经布袋过滤器过滤，残余尘粒被布袋捕获搜集包装 形成产成品，干净尾气经引风机排出。原料进量根据产品要求每小时5KG—100KG，出量与进量保持平衡。
权利要求
1.一种高纯超细二氧化硅的生产方法，其特征在于处理后的高压气体以0.6MPa-1.2MPa压力经不锈钢管道到达气流粉碎机喷嘴，经气流粉碎机喷嘴处理后，形成超音速1-3倍高速气体；同时，自喷嘴喷出的气体体积瞬间膨胀，压力降至常压，温度瞬间降低至20摄氏度以下，带动由加料口进入的原材料高速运动并相互碰撞，达到粉碎目的；原材料为结晶型纯度99.90％-99.99％的二氧化硅粉体，最终产品纯度99.990％-99.999％、粒度5000-10000目。
2. 根据权利要求1所述的高纯超细二氧化硅的生产方法，其特征在于所述高压气体的处理过程如下干净新鲜空气经空气压縮机 压縮，形成0.6—1.2MPa高压气体；经不锈钢管道进入储气罐进 行油水分离；进入过滤器进行精密过滤，形成较纯净的高压气体； 接着进入露点负40摄氏度的冷冻干燥机进行冷冻干燥；再进入 过滤器进行高精密过滤，最终形成低温高纯高压气体。
3. 根据权利要求1或2所述的高纯超细二氧化硅的生产方法，其特征在于在气流粉碎过程中首先对气流粉碎机粉碎室内壁和管道 内壁采用耐磨材料进行涂层处理，内壁涂层处理主要成分聚氨 酯高分子材料和高纯二氧化硅。
全文摘要
本发明公开了一种生产方法，特别公开了一种高纯超细二氧化硅的生产方法。该高纯超细二氧化硅的生产方法，其特殊之处在于处理后的高压气体经不锈钢管道到达气流粉碎机喷嘴，经气流粉碎机喷嘴处理后，形成超音速高速气体；同时，自喷嘴喷出的气体体积瞬间膨胀，带动由加料口进入的原材料高速运动并相互碰撞，达到粉碎目的。本发明具有以下优点1提纯技术配置提纯溶液，排放无污染；2粉碎过程无粉尘排放；3粉碎过程无杂质进入；4产品收集采用全自动真空包装；5产品粒度细，分布均匀，形貌规则。
文档编号C01B33/12GK101219791SQ20081001397
公开日2008年7月16日 申请日期2008年1月29日 优先权日2008年1月29日
发明者李钦稿, 范中峰, 赵丕善, 邱向明 申请人:鄄城金威粉体科技有限公司