1.一种可释放负离子的矿物晶体花釉，其特征在于，以质量份数计算，包括如下组分：
矿物晶体干粒100份，透明釉0-50份，电气石粉1-3份，轻稀土氧化物0.01-0.05份，印膏60-80份，羧甲基纤维素0.2份，水25-40份；
所述矿物晶体干粒的化学组分以氧化物重量份数计算，包括如下组分：
SiO2:8份,Al2O3:3份,B2O3:20份,Fe2O3：9份，MnO:46份,TiO2:8份。
2.一种使用如权利要求1所述可释放负离子的矿物晶体花釉生产的陶瓷砖，其特征在于，所述可释放负离子的矿物晶体花釉位于砖坯表面。
3.一种可释放负离子的陶瓷砖的生产工艺，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1)选用公知的陶瓷坯体粉料冲压制成砖坯；
步骤2)在坯体表面布施公知的面釉，形成面釉层；
步骤3)在面釉层上进行印花，形成印花层；
步骤4)在印花层表面布施保护釉；
步骤5)布施矿物晶体花釉，矿物晶体花釉以质量份数计算，包括如下组分：矿物晶体干粒100份，透明釉0-50份，电气石粉1-3份，轻稀土氧化物0.01-0.05份，印膏60-80份，羧甲基纤维素0.2份，水25-40份，所述矿物晶体干粒的化学组分以氧化物重量份数计算，包括如下组分：SiO2:8份,Al2O3:3份,B2O3:20份,Fe2O3：9份，MnO:46份,TiO2:8份；
步骤6)入窑炉烧制；
步骤7)对烧成后的坯体进行抛光和磨边处理，获得陶瓷砖产品。
4.如权利要求3所述的一种陶瓷砖的生产工艺，其特征在于，步骤2)和步骤3)之间还包括通过丝网印制增白釉料的步骤，所述增白釉料以质量份数计算，包括如下组分：透明熔块：50份，硅酸锆：50份，印膏：65份，三聚磷酸钠：0.3份，水：35份；
所述透明熔块的化学组分以氧化物重量份数计算，包括如下组分：
Na2O:5份，CaO:9份，ZnO:8份，Al2O3:8份，B2O3:2份，SiO2:60份。
5.如权利要求4所述的一种陶瓷砖的生产工艺，其特征在于，所述增白釉料至少通过丝网印制两次。
6.如权利要求3所述的一种陶瓷砖的生产工艺，其特征在于，所述步骤3)和步骤4)之间还包括布施增粉花釉的步骤，在印花层上通过丝网印花方式印制用于补色的增粉花釉，所述增粉花釉以质量份数计算，包括如下组分：高硼钙质透明熔块：12份，补色色料0.1-10份，羧甲基纤维素：1.3份，乙二醇：45份，水：40份；所述高硼钙质透明熔块的化学组分以氧化物重量份数计算，包括如下组分：Na2O:6份，CaO:12份，ZnO:7份，B2O3:8份，Al2O3:3份，SiO2:54份；所述补色色料为公知的陶瓷釉用色料的一种或多种组合。
7.如权利要求3所述的一种陶瓷砖的生产工艺，其特征在于，所述步骤3)和步骤4)之间还包括布施助色花釉的步骤，所述助色花釉以质量份数计算，包括如下组分：高锌质熔块100份，印膏130份，三聚磷酸钠0.3份，水40份；所述高锌质熔块的化学组分以氧化物重量份数计算，包括如下组分：SiO2:53份，ZnO:21份，K2O:4份,Al2O3:7份，MgO:3份,CaO:3.5份。
8.如权利要求7所述的一种陶瓷砖的生产工艺，其特征在于，所述布施助色花釉的方式为使用全透丝网印制两道。