玻璃板和显示装置的制作方法

本实用新型涉及玻璃板和显示装置。

背景技术：

专利文献1中记载了利用橡胶套对玻璃板的曲面进行研磨的技术。橡胶套为橡胶制的中空圆筒体，在向内部供给空气并保持内压恒定的同时进行使用。橡胶套在研磨中发生弹性变形以使得与玻璃板的曲面密合。

专利文献2中记载了利用转鼓对玻璃板的曲面进行研磨的技术。通过根据玻璃板的旋转角度来改变相对于玻璃板中心的转鼓中心的位置，能够对玻璃板的曲面进行研磨。

专利文献3中记载了利用研磨垫对玻璃板的曲面进行研磨的技术。研磨垫在内部具有多个弹性构件，在研磨中发生弹性变形以使得与玻璃板的曲面密合。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平8-141898号公报

专利文献2：日本特开平9-57599号公报

专利文献3：日本特公平8-22498号公报

技术实现要素：

实用新型所要解决的课题

在对玻璃板的曲面进行研磨的情况下，对于利用橡胶套、转鼓、研磨垫等进行的研磨而言，研磨速度慢，除去大的缺陷所花费的时间长。

本实用新型是鉴于上述课题而作出的，其主要目的在于提供除去了玻璃板的大的缺陷的玻璃板、以及具备该玻璃板的显示装置。

用于解决课题的手段

为了解决上述课题，在一个方面，本实用新型提供一种玻璃板，其为板厚为0.5mm～3.0mm的玻璃板，其中，

所述玻璃板具有曲面，

所述曲面的至少一部分中，波长25μm～500μm的频率分量的算术平均高度(Sa)为0.5nm～50nm，并且波长25μm～500μm的频率分量的算术平均波度(Wa)的最大值(Wamax)与最小值(Wamin)之比(Wamax/Wamin) 为1.5以上。

在另一个方面，本实用新型提供一种玻璃板，其为板厚为0.5mm～ 3.0mm的玻璃板，其中，

所述玻璃板具有研磨后的曲面，

所述曲面的至少一部分中，波长25μm～500μm的频率分量的算术平均高度(Sa)为0.5nm～50nm，并且波长25μm～500μm的频率分量的算术平均波度(Wa)的最大值(Wamax)与最小值(Wamin)之比(Wamax/Wamin) 为1.5以上。

在又一个方面，本实用新型提供一种玻璃板，其为板厚为0.5mm～ 5.0mm的玻璃板，其中，

所述玻璃板具有曲面，

所述玻璃板的表面压应力(CS)为400MPa以上，

所述曲面的至少一部分中，波长25μm～500μm的频率分量的算术平均高度(Sa)为0.5nm～50nm，并且波长25μm～500μm的频率分量的算术平均波度(Wa)的最大值(Wamax)与最小值(Wamin)之比(Wamax/Wamin) 为1.5以上。

在又一个方面，本实用新型提供一种玻璃板，其为板厚为0.5mm～ 5.0mm且具有第一面和第二面的玻璃板，其中，

所述玻璃板具有曲面，

在所述第一面上具备表面处理层，

所述玻璃板的表面压应力(CS)为400MPa以上，

所述第二面中的所述曲面的至少一部分中，波长25μm～500μm的频率分量的算术平均高度(Sa)为0.5nm～50nm，并且波长25μm～500μm 的频率分量的算术平均波度(Wa)的最大值(Wamax)与最小值(Wamin)之比 (Wamax/Wamin)为1.5以上。

在优选的一个方面，本实用新型提供如前所述的玻璃板，其中，所述曲面的至少一部分中，最大直径为7μm以上且深度或高度为1μm 以上的缺陷为3个以下/10000mm²。

在另一个方面，本实用新型提供一种显示装置，其具备显示面板和如前所述的玻璃板。

实用新型效果

根据本实用新型，提供除去了玻璃板的大的缺陷的玻璃板、以及具备该玻璃板的显示装置。

附图说明

图1是示出一个实施方式的玻璃板的制造方法的图。

图2是沿图1的II-II线的剖视图。

图3是示出一个实施方式的研磨后的玻璃板的图。

图4是示出通过实施例1得到的研磨后的玻璃板的端部的图。

图5是示出比较例2的玻璃板的制造方法的图。

图6是示出通过比较例2得到的研磨后的玻璃板的端部的图。

附图标记

10 玻璃板

11 曲面

12 相反面

20 旋转刷

21 旋转芯

22 刷毛

30 基座

31 曲面

40 旋转台

41 旋转轴

具体实施方式

以下，参照附图对用于实施本实用新型的方式进行说明。各附图中，对于相同或对应的构成，赋予相同或对应的符号并省略说明。本说明书中，表示数值范围的“～”是指包含其前后的数值在内的范围。

图1是示出一个实施方式的玻璃板的制造方法的剖视图。图1中，用双点划线示出旋转刷20的中心线的移动轨迹。图2是沿图1的II-II 线的剖视图。图1和图2中，X方向、Y方向和Z方向为相互垂直的方向。X方向表示旋转刷20的轴向，Z方向表示上下方向，Y方向表示与X方向和Z方向垂直的方向。

如图1和图2所示，玻璃板的制造方法具有利用作为研磨工具的旋转刷20对玻璃板10的曲面11进行研磨的研磨工序。

玻璃板10例如可以为车载用、显示器用等。显示器可以为阴极射线管显示器、液晶显示器、等离子体显示器、有机电致发光(EL)显示器等中的任意一种。显示器包含便携式终端的显示器。

玻璃板10可以整体上是弯曲的，例如，由圆筒体的一部分构成。需要说明的是，玻璃板10也可以部分是弯曲的。即，可以仅玻璃板10 的一部分是弯曲的，玻璃板10的其余部分是平坦的。

玻璃板10具有曲面11。在曲面11的任意一点处，其曲率半径的最小值例如为30mm～10000mm，优选为100mm～10000mm，更优选为300mm～10000mm，进一步优选为500mm～5000mm。

在此，曲面11的曲率半径通过利用包含曲面11的点处的法线的平面将曲面11切断来测量。使切断面围绕法线旋转时，曲率半径可以在最小值与最大值之间变化。需要说明的是，使切断面围绕法线旋转时，曲率半径也可以不发生变化，其最小值与最大值可以相同。

玻璃板10的曲面1可以如图1所示在垂直于X方向的剖视图中是弯曲的、如图2所示在垂直于Y方向的剖视图中是平坦的。在这种情况下，曲面11的曲率半径在垂直于X方向的截面中达到最小，在垂直于Y方向的截面中达到最大。在这种情况下，曲率半径的最大值为无穷大。

需要说明的是，本实施方式的玻璃板10的曲面11在垂直于Y方向的剖视图中是平坦的，但是也可以是弯曲的。

如图1所示，玻璃板10的曲面11在垂直于X方向的剖视图中是上凹的曲面。需要说明的是，曲面11也可以是上凸的曲面。

旋转刷20具有旋转芯21和设置在旋转芯21的外周部的刷毛22。刷毛22设置有多个。在图1和图2中，将多个刷毛22以束的形式来表示。

旋转芯21例如形成为圆柱状。在这种情况下，旋转芯21的外周面与玻璃板10的曲面11同样地，如图2所示在垂直于Y方向的剖视图中是平坦的。沿X方向从旋转芯21的一端至旋转芯21的另一端可以使多个刷毛22的长度一致，从而能够抑制研磨不均。

需要说明的是，在垂直于Y方向的剖视图中玻璃板10的曲面11 是弯曲的情况下，旋转芯21的外周面也可以是弯曲的。旋转芯21可以形成为中央部比两端部粗的形状、或中央部比两端部细的形状。沿X 方向从旋转芯21的一端至旋转芯21的另一端使多个刷毛22的长度一致，从而能够抑制研磨不均。

刷毛22可以埋入旋转芯21的外周面，也可以由卷绕在旋转芯21 的外周面上的夹子保持。刷毛22由树脂等形成。刷毛22的长度可以为大致恒定。

旋转芯21的最小半径小于研磨面的最小曲率半径时，能够实施均匀的研磨，能够得到具有良好的研磨面的玻璃板。

刷毛22的平均直径例如为300μm以下。刷毛22的平均直径为 300μm以下时，能够减小研磨后的曲面11的波度(うね)。另外，由于刷毛22变得容易挠曲，因此在裹入异物时不易产生损伤。刷毛22 的平均直径优选为200μm以下，更优选为100μm以上。

刷毛22的长度优选为2mm以上，优选为5mm以上。刷毛22的长度如果为2mm以上，则在将刷毛22按压在研磨面上时，由刷毛22 的回弹力产生的接触压力不会变得过强，能够得到损伤少的研磨面。另外，刷毛22的长度优选为100mm以下，更优选为50mm以下。刷毛22的长度如果为100mm以下，则在将刷毛22按压在研磨面上时，可以适度地得到由刷毛22的回弹力产生的接触压力，能够得到高的研磨速度。

在研磨工序中，一边使旋转刷20以旋转刷20的中心线为中心进行旋转，一边利用旋转刷20对玻璃板10的曲面11进行研磨。此时，向旋转刷20供给包含磨粒的浆料。作为磨粒，例如使用氧化铈粒子等。除了氧化铈粒子以外，还可以使用氧化铝、氧化锆、氧化铁、氧化硅等。与利用橡胶套、转鼓、研磨垫等进行的研磨相比，利用旋转刷20 进行的研磨的研磨速度较快，除去大的缺陷所花费的时间较短。

在研磨工序中，如图1所示，在垂直于X方向的剖视图中，使相对于玻璃板10的旋转刷20的相对位置沿着曲面11移动。旋转刷20 能够对整个曲面11进行研磨。

该相对移动可以通过旋转刷20的移动、玻璃板10的移动、两者的移动中的任意一种方式来进行，在图1中通过旋转刷20的移动来进行。旋转刷20的移动轨迹为曲线状。

该相对移动在图1中按照旋转刷20的中心线与玻璃板10的曲面 11之间的距离恒定的方式进行，但是也可以按照旋转刷20与玻璃板 10的曲面11的接触压力恒定的方式进行。

为了抑制由该相对移动引起的条纹状研磨痕迹的产生，在研磨工序中，使相对于玻璃板10的旋转刷20的相对位置沿X方向摆动。该摆动可以通过旋转刷20的摆动、玻璃板10的摆动、两者的摆动中的任意一种方式来进行，在图1中通过玻璃板10的摆动来进行。

摆动速度的大小例如为1mm/秒以上，优选为2mm/秒以上。另外，摆动速度的大小优选为50mm/秒以下。摆动速度的大小由摆动中心通过时的摆动速度的大小来代表。另一方面，摆动振幅例如为0.5mm以上，优选为3mm以上，更优选为5mm以上。另外，摆动振幅优选为 200mm以下。摆动振幅是指距离摆动中心的最大位移量。

通过使相对于玻璃板10的旋转刷20的相对位置沿X方向以1mm/ 秒以上大小的摆动速度、0.5mm以上的摆动振幅进行摆动，能够抑制玻璃板10的曲面11上的条纹状研磨痕迹的产生。

利用旋转刷20的研磨特别适合于对研磨后的玻璃板10实施防眩 (Anti-Glare)涂布的情况。防眩涂布具有从外部无法观察到条纹状研磨痕迹的效果。防眩涂布例如对车载用的玻璃板10实施。

在研磨工序中，可以在基座30的曲面31真空吸附玻璃板10的曲面11的相反面12。在研磨中使玻璃板10的曲面11的形状稳定。另外，研磨后容易从基座30上取下玻璃板10。

基座30例如可以为碳或金属，但是优选包含选自由聚氯乙烯、聚碳酸酯、聚缩醛、丙烯酸类树脂、聚酰胺、聚氨酯、聚丙烯、聚乙烯构成的组中的至少一种树脂材料。这些树脂材料柔软，能够限制玻璃板10上的与基座30的接触损伤的产生。另外，并不需要由上述材料制作基座30整体，可以仅使与玻璃板10接触的部位、即基座30表面为上述材料，也可以为橡胶等弹性体。

基座30的曲面31为与玻璃板10的曲面11大致相同的形状。例如，基座30的曲面31可以如图1所示在垂直于X方向的剖视图中是弯曲的、如图2所示在垂直于Y方向的剖视图中是平坦的。需要说明的是，基座30的曲面31不需要为与玻璃板10的曲面11大致相同的形状，也可以为与相反面12对应的形状。

如图1所示，基座30的曲面31在垂直于X方向的剖视图中为上凹的曲面。需要说明的是，基座30的曲面31只要为与玻璃板10的曲面11大致相同的形状即可，可以为上凸的曲面。

另外，在将玻璃板10载置于基座30上的情况下，可以在载置面上设置用于嵌入玻璃板10的凹部。能够抑制玻璃板10被旋转刷20拖动而相对于基座30偏移的情况，能够减少玻璃板10的擦伤。此外，还能够抑制压力集中于玻璃板10的倒角部而如图6所示使倒角部变圆的情况。

此外，可以在凹部的侧壁面设置凹坑。通过将刮刀等插入凹坑中，容易将研磨后的玻璃板10从凹部取出，玻璃板10的更换效率良好。

在研磨工序中，可以通过使基座30沿X方向摆动而使玻璃板10 摆动。如上所述，能够抑制玻璃板10的曲面11上的条纹状研磨痕迹的产生。

在研磨工序中，可以通过使基座30旋转而使玻璃板10旋转。由此，能够进一步抑制玻璃板10的曲面11上的条纹状研磨痕迹的产生。

玻璃板10的旋转方向可以保持一个方向，也可以反复反转。在后者的情况下，可以使玻璃板10在小于360°的规定角度范围内旋转。

基座30安装于旋转台40上，与旋转台40一起旋转。旋转台40 以其旋转轴41为中心自由旋转。

需要说明的是，在本实施方式中，仅对玻璃板10的单面进行研磨，但是也可以对相反面进行研磨，还可以对玻璃板10的两面进行研磨。

图3是示出一个实施方式的研磨后的玻璃板的图。图3所示的研磨后的玻璃板10A通过利用旋转刷20对图1和图2所示的玻璃板10 进行研磨而得到。玻璃板10A的板厚例如为0.5mm～5.0mm，优选为 0.5mm～3.0mm，更优选为0.7mm～2.5mm。

玻璃板10A具有研磨后的曲面11A。玻璃板10A可以整体上是弯曲的。需要说明的是，玻璃板10A可以部分是弯曲的。即，可以仅玻璃板10A的一部分是弯曲的，玻璃板10A的其余部分是平坦的。

玻璃板10A的曲面11A的至少一部分中，波长25μm～500μm的频率分量的算术平均高度(Sa)为0.5nm～50nm。在这种情况下，频率分量的提取使用高斯滤波器。算术平均高度(Sa)为0.5nm～50nm的曲面 11A可以通过利用旋转刷20进行研磨而形成。

算术平均高度(Sa)依据国际标准(ISO 25178)进行测定。高通滤波器的截止值设定为25μm，低通滤波器的截止值设定为500μm。低通滤波器的截止值与玻璃板10A的曲面11A的最小曲率半径相比足够小。

玻璃板10A的曲面11A的至少一部分中，波长25μm～500μm的频率分量的算术平均波度(Wa)的最大值(Wamax)与最小值(Wamin)之比 (Wamax/Wamin)为1.5以上。比(Wamax/Wamin)优选为1.6以上。另外，比 (Wamax/Wamin)优选为10以下。

算术平均波度(Wa)依据日本工业标准(JIS B0601：2013)进行测定。高通滤波器的截止值设定为25μm，低通滤波器的截止值设定为500μm。低通滤波器的截止值与玻璃板10A的曲面11A的最小曲率半径相比足够小。因此，算术平均波度(Wa)的基准面可以为与XY平面大致平行的平面。

算术平均波度(Wa)沿着基准面中的线性测定路径进行测定。使测定路径围绕Z轴旋转时，算术平均波度(Wa)在最小值(Wamin)与最大值 (Wamax)之间变化。

比(Wamax/Wamin)为1.5以上表示曲面11A通过利用旋转刷20进行研磨而形成。在垂直于X方向的测定路径中，算术平均波度(Wa)趋于达到最小值(Wamin)。

玻璃板10A的曲面11A的至少一部分中，最大直径为7μm以上且深度或高度为1μm以上的缺陷为3个以下/10000mm²。与利用橡胶套、转鼓、研磨垫等进行的研磨相比，利用旋转刷20进行的研磨的研磨速度较快，除去大的缺陷所花费的时间较短。因此，大的缺陷的数量少。

实施例

[实施例1]

作为玻璃板，准备最小曲率半径1500mm、纵向150mm、横向 150mm、厚度1mm的钠钙玻璃。该玻璃板由圆筒体的一部分构成，在垂直于X方向的剖视图中是弯曲的，在垂直于Y方向的剖视图中是平坦的。该玻璃板在上表面与端面的边界以及下表面与端面的边界各自具有倒角角度为45°、倒角宽度为0.1mm的平面形状的倒角部。在此，倒角角度是指上表面或下表面的延长面与倒角部所成的角度。另外，倒角宽度为从上表面或下表面的外缘起至上表面或下表面的延长面与端面的延长面的交点为止的距离，表示倒角部的尺寸。

作为旋转刷，准备由圆柱状的旋转芯和设置在旋转芯的外周部的刷毛构成的旋转刷。刷毛的材料为尼龙66，平均直径为200μm，平均长度为20mm。旋转刷的直径为150mm。

在研磨工序中，一边使旋转刷以旋转刷的中心线为中心以900rpm 的转速进行旋转，一边利用旋转刷将玻璃板的上表面研磨5μm。研磨中，玻璃板通过真空吸附于基座上而使其上表面保持为上凹的曲面。研磨中，向旋转刷供给含有氧化铈粒子的浆料。

在研磨工序中，在垂直于X方向的剖视图中，使旋转刷的中心线沿着玻璃板的上表面以1mm/秒的移动速度移动。在移动的期间，旋转刷的中心线与玻璃板的上表面之间的距离设定为恒定的值(比旋转刷的半径短6mm的值)。

在研磨工序中，通过使基座沿X方向摆动而使玻璃板摆动。摆动速度的大小设定为15mm/秒，摆动振幅设定为13mm。需要说明的是，未进行基座的旋转。通过以上操作，得到了玻璃板A。

在研磨后，进行清洗、干燥等，利用白色干涉式平坦度仪对玻璃板的研磨面的算术平均高度(Sa)和算术平均波度(Wa)进行了测定。测定范围设定为玻璃板的中央部的3.6mm见方的范围。

玻璃板的算术平均高度(Sa)为7nm。另外，玻璃板的算术平均波度 (Wa)的最小值(Wamin)为2.8nm，最大值(Wamax)为5.1nm，其比 (Wamax/Wamin)为1.8。

研磨5μm所花费的时间为25分钟。在玻璃板的研磨面上完全未观察到最大直径为7μm以上且深度或高度为1μm以上的缺陷。

图4是示出通过实施例1得到的研磨后的玻璃板的端部的图。在图4所示的研磨后的玻璃板10B中，倒角部的形状保持平面形状。推测这是因为，平均直径为200mm的刷毛对玻璃板的倒角部施加的应力小。

[比较例1]

在比较例1中，将刷毛的平均直径设定为400μm，并且不进行基座的摆动，除此以外，与实施例1同样地进行玻璃板的研磨，得到了玻璃板B。

实验的结果是，玻璃板的算术平均高度(Sa)为70nm。另外，玻璃板的算术平均波度(Wa)的最小值(Wamin)为4nm，最大值(Wamax)为 100nm，其比(Wamax/Wamin)为25。

研磨5μm所花费的时间为25分钟。在玻璃板的研磨面上每 10000mm²观察到10个最大直径为7μm以上且深度或高度为1μm以上的缺陷。

[比较例2]

在比较例2中，准备与实施例1相同的玻璃，如图5所示，利用研磨垫120对玻璃板110的曲面111进行研磨。研磨头121使用直径为φ60mm的圆形的SUS304制基底金属(台金)，在研磨头121的前端安装有聚氨酯制的研磨垫120。研磨垫120使用在与玻璃板110接触的面上以10mm的间距以格子状切出槽的研磨垫。

在研磨工序中，在使研磨垫120以150rpm进行旋转的同时，将研磨垫120以150g/cm²的压力按压在玻璃板110上。研磨中，玻璃板110 通过真空吸附于基座130上而使其上表面保持为上凹的曲面111。向研磨垫120供给含有氧化铈粒子的浆料。研磨垫120在玻璃板110上以 60mm/分钟的速度沿X方向和Y方向移动，将曲面111的整个面研磨 5μm。研磨所花费的时间为300分钟。通过以上操作，得到了玻璃板C。

实验的结果是，玻璃板110的研磨面的算术平均高度(Sa)为1.6nm。另外，玻璃板110的研磨面的算术平均波度(Wa)的最小值(Wamin)为 1.5nm，最大值(Wamax)为2nm，其比(Wamax/Wamin)为1.3。在玻璃板110 的研磨面上未观察到最大直径为7μm以上且深度或高度为1μm以上的缺陷。

图6是示出通过比较例2得到的研磨后的玻璃板的端部的图。在图6所示的研磨后的玻璃板110A中，倒角部的形状未保持平面形状而成为曲面形状。推测这是因为，研磨垫与玻璃板110A的倒角部接触时的应力大。

对使用通过以上操作而得到的玻璃板A～C作为显示装置的保护玻璃时的图像可视性进行了确认。在玻璃板A～C的研磨面的相反面上层叠OCA胶带(日荣化工公司制造的“MHM-FWD”)，将这些各玻璃板与作为显示面板的液晶面板贴合，并与背光等组合，从而制作出显示装置。在使用了玻璃板A的显示装置中，透过玻璃板A观察液晶面板上的图像时，图像未观察到变形、起伏、闪烁等。认为这是由于算术平均波度之比Wamax/Wamin小至1.8，因而图像的变形、起伏减少。另外，认为由于算术平均高度Sa小至7nm，因而抑制了图像的闪烁。在使用了玻璃板B的显示装置中，局部观察到由图像的起伏、闪烁导致的图像模糊。认为这是由于Wamax/Wamin大至25，图像发生变形，Sa 大至70nm，因而观察到图像的闪烁。在使用了玻璃板C的显示装置中，在玻璃板C的中央部具有与玻璃板A同等的可视性，但是由于倒角部也被研磨，因而玻璃板C的周缘部也能观察到图像，但是该图像看起来发生变形。这是由于，一方面Wamax/Wamin、Sa小，另一方面周缘部如图6所示倒角部形成曲面形状，在玻璃板C的中央部与周缘部可视性不同，在周缘部图像看起来发生变形。因此可知，玻璃板A适合作为用于显示装置的保护玻璃。

由上可知，利用本实施方式的研磨方法，在短时间内得到了缺陷少的玻璃板。

<变形例>

以上，对玻璃板的制造方法的实施方式等进行了说明，但是本实用新型不限定于上述实施方式等，可以在权利要求书记载的本实用新型的要旨的范围内进行各种变形、改良。

玻璃板在研磨前可以在外周端部不具有倒角部，但是优选在外周端部具有倒角部。在研磨时能够抑制外周端部的缺损。倒角部的形状在研磨前可以为曲面形状，但是优选为平面形状。在研磨前后倒角部的尺寸变动小。平面形状的倒角部的倒角角度例如为40°～50°。

另外，也可以通过使玻璃板吸附于基座等而对玻璃板施加外力，使曲率半径小的玻璃板的曲率半径变大并实施研磨。

另外，本实施方式的旋转刷也能够对曲率半径大于10000mm的平面进行研磨。因此，对于研磨面具有曲面和平面这两者的玻璃板，改变旋转刷相对于研磨面的相对位置，能够同时进行研磨。另外，对于研磨面具有凹面和凸面这两者的玻璃板，也同样能够同时进行研磨。此时，优选将旋转芯的最小半径设定为研磨面的凹面的最小曲率半径以下。另外，对于不仅图1中的Y轴方向形成曲面、而且X轴方向也形成曲面的双曲面也能够进行研磨。

根据本实施方式，在能够对大型的具有曲面形状的玻璃板进行研磨的方面是优良的。根据现有的研磨方法，需要对各部分进行研磨，因此均匀性出现变动。根据本实施方式，仅通过调节旋转刷等的尺寸，能够均匀地对各种尺寸的具有曲面形状的玻璃板进行研磨。

本实施方式中得到的玻璃板的表面优选是平滑的。例如，从可视性、触感等观点出发，算术平均粗糙度Ra优选为0.2nm～50nm。从粗糙性(ざらつく)和手指滑动性的观点出发，均方根粗糙度Rq优选为 0.3nm～100nm。从粗糙性和手指滑动性的观点出发，最大高度粗糙度 Rz优选为0.5nm～100nm。从粗糙性和手指滑动性的观点出发，最大截面高度粗糙度Rt优选为1nm～500nm。从粗糙性和手指滑动性的观点出发，最大峰高度粗糙度Rp优选为0.3nm～500nm。从粗糙性和手指滑动性的观点出发，最大谷深度粗糙度Rv优选为0.3nm～500nm。从粗糙性和手指滑动性的观点出发，平均长度粗糙度Rsm优选为0.3nm～ 100nm。从触感的观点出发，峭度粗糙度Rku优选为1以上且3以下。从可视性、触感等的均匀性的观点出发，偏度粗糙度Rsk优选为-1以上且1以下。

对于本实施方式中得到的玻璃板，可以在研磨前后实施各种处理。如上所述，使用磨石或酸的倒角处理可以在研磨处理前实施，也可以在研磨后实施，还可以在研磨前后都实施。另外，可以在研磨前后实施表面处理而形成表面处理层，具体而言，可以列举通过蚀刻或成膜而形成的防眩处理层、减反射处理层、利用耐指纹剂等而形成的防污处理层、防雾处理层等。在表面处理后实施研磨处理的情况下，仅对未处理面进行研磨。在研磨处理后进行表面处理的情况下，仅对至少一个面进行研磨即可，但是优选进行两面研磨。由此，能够得到表面状态均匀的玻璃板，容易实施具有所期望的特性的表面处理。在研磨处理前后可以实施玻璃板的强化处理，优选化学强化处理。通过在研磨处理后进行化学强化，能够在玻璃板面内进行均匀的强化。通过在研磨处理前进行化学强化，能够除去形成在玻璃板表面的强化损伤。因此，可以根据情况在化学强化处理前后都实施研磨处理。此外，可以在研磨处理前后实施装饰印刷等印刷处理。不限于此，可以实施各种处理，处理的顺序适当决定即可。

关于玻璃板的组成，在不实施化学强化处理的情况下，可以列举例如无碱玻璃、钠钙玻璃，在进行化学强化处理的情况下，可以列举例如钠钙玻璃、钠钙硅酸盐玻璃、铝硅酸盐玻璃、硼酸盐玻璃、锂铝硅酸盐玻璃、硼硅酸玻璃。从即使厚度薄也容易通过强化处理而引入大的应力、即使薄也能够得到高强度的玻璃、适合作为图像显示装置的保护玻璃的观点出发，优选铝硅酸盐玻璃。

作为玻璃组成的具体例，可以列举：以由摩尔％表示的组成计，含有50％～80％的SiO2、0.1％～25％的Al2O3、3％～30％的 Li2O+Na2O+K2O、0～25％的MgO、0～25％的CaO和0～5％的ZrO2的玻璃，但是没有特别限定。更具体而言，可以列举以下的玻璃组成。需要说明的是，例如，“含有0～25％的MgO”是指，MgO不是必要成分但是可以含有至多25％。(i)的玻璃属于钠钙硅酸盐玻璃，(ii)和(iii) 的玻璃属于铝硅酸盐玻璃。

(i)以由摩尔％表示的组成计，含有63％～73％的SiO2、0.1％～5.2％的Al2O3、10％～16％的Na2O、0～1.5％的K2O、0～5.0％的Li2O、5％～13％的MgO和4％～10％的CaO的玻璃。

(ii)以由摩尔％表示的组成计，含有50％～74％的SiO2、1％～10％的Al2O3、6％～14％的Na2O、3％～11％的K2O、0～5.0％的Li2O、2％～15％的MgO、0～6％的CaO和0～5％的ZrO2、SiO2和Al2O3的含量合计为75％以下、Na2O和K2O的含量合计为12％～25％、MgO和CaO 的含量合计为7％～15％的玻璃。

(iii)以由摩尔％表示的组成计，含有68％～80％的SiO2、4％～10％的Al2O3、5％～15％的Na2O、0～1％的K2O、0～5.0％的Li2O、4％～ 15％的MgO和0～1％的ZrO2的玻璃。

(iv)以由摩尔％表示的组成计，含有67％～75％的SiO2、0～4％的 Al2O3、7％～15％的Na2O、1％～9％的K2O、0～5.0％的Li2O、6％～14％的MgO和0～1.5％的ZrO2、SiO2和Al2O3的含量合计为71％～75％、 Na2O和K2O的含量合计为12％～20％、在含有CaO的情况下其含量小于1％的玻璃。

对于玻璃而言，为了适当地进行化学强化处理，优选该玻璃组成中的Li2O和Na2O的含量合计为12摩尔％以上。此外，随着玻璃组成中的Li2O的含有率增加，玻璃化转变温度下降，为了容易成形，优选将Li2O的含有率设定为0.5摩尔％以上，更优选设定为1.0摩尔％以上，进一步优选设定为2.0摩尔％以上。此外，为了增大表面压应力 (Compressive Stress：CS)和压应力层深度(Depth of Layer：DOL)，优选玻璃组成含有60摩尔％以上的SiO2、8摩尔％以上的Al2O3。

化学强化处理后的玻璃的CS的最大值为400MPa以上，优选为 500MPa以上，更优选为600MPa以上。DOL为10μm以上。由此，通过将CS和DOL调节为该范围，能够对玻璃主面赋予优良的强度和耐擦伤性。

化学强化处理是在玻璃化转变温度以下的温度下通过离子交换将玻璃表面的离子半径小的碱金属离子(典型地为Na离子)交换为离子半径较大的碱金属离子(典型地为K离子)，由此在玻璃表面形成压应力层的处理。化学强化处理可以利用现有公知的方法来实施，通常将玻璃浸渍于硝酸钾熔融盐中。另外，作为熔融盐，可以使用硝酸钾和碳酸钾的混合盐，相对于混合盐100质量份，优选含有5～10质量份的碳酸钾。由此，能够除去玻璃表层的裂纹等，得到高强度的玻璃。化学强化时通过在硝酸钾中混合硝酸银等银成分，玻璃进行离子交换而在表面具有银离子，能够赋予抗菌性。

具有曲面形状的玻璃板优选由平板状的玻璃板成形为规定的形状。例如，在选择平板玻璃作为平板状的玻璃板的情况下，作为所使用的成形方法，根据成形后的玻璃的所期望的曲面形状从自重成形法、真空成形法、压制成形法中选择期望的成形方法即可。

自重成形法为如下方法：将平板玻璃设置在与成形后的曲面形状对应的规定模具上，然后使平板玻璃软化，利用重力使平板玻璃弯曲而与模具相适应，从而成形为规定的形状。

真空成形法为如下方法：在使平板玻璃软化的状态下对平板玻璃的表面和背面施加压差，使平板玻璃弯曲而与模具相适应，从而成形为规定的形状。在真空成形法中，将平板玻璃设置在与成形后的曲面形状对应的规定模具上，在平板玻璃上设置夹模，将平板玻璃的周边密封，然后利用泵对模具与平板玻璃之间的空间进行减压，由此对平板玻璃的表面和背面施加压差。此时，可以辅助性地对平板玻璃的上表面侧进行加压。

压制成形为如下方法：将平板玻璃设置在与成形后的曲面形状对应的规定模具(下模、上模)间，在使平板玻璃软化的状态下在上下模具间施加压制载荷，使平板玻璃弯曲而与模具相适应，从而成形为规定的形状。

这些之中，真空成形法作为成形为曲面形状的方法是优良的，由于能够在玻璃板的两个主面中的一个主面不与成形模具接触的情况下进行成形，因而使损伤、凹坑等凹凸状缺陷减少。

需要说明的是，此外还可以使用局部加热成形法、与真空成形法不同的压差成形法等，根据成形后的具有曲面形状的玻璃板来选择适当的成形方法即可，也可以并用两种以上的成形方法。

对于成形后的玻璃板，可以实施进行再加热(退火处理)从而使残余应力松弛的处理。

另外，所使用的平板状的玻璃板可以使用具有蚀刻处理层或通过湿式涂布或干式涂布而形成的涂布层等的基材。

作为本实施方式的玻璃板的用途，没有特别限定。作为具体例，可以列举车辆用透明部件(前灯罩、后视镜、前透明基板、侧透明基板、后透明基板、仪表盘表面等)、仪表、建筑窗户、橱窗、建筑用内装构件、建筑用外装构件、显示器(笔记本电脑、监视器、LCD、PDP、ELD、 CRT、PDA等)、LCD彩色滤光片、触控面板用基板、拾取透镜、光学透镜、眼镜镜片、照相机部件、摄像机部件、CCD用保护基板、光纤端面、投影仪部件、复印机部件、太阳能电池用透明基板(保护玻璃等)、手机屏幕、背光单元部件(导光板、冷阴极管等)、背光单元部件液晶增亮膜(棱镜、半透膜等)、液晶增亮膜、有机EL发光元件部件、无机EL 发光元件部件、荧光体发光元件部件、滤光器、光学部件的端面、照明灯、照明器具的保护罩、放大激光器光源、减反射膜、偏振膜、农业用膜等。

本实用新型的物品具备本实施方式的玻璃板。

本实用新型的物品可以由本实施方式的玻璃板构成，也可以还具备除本实施方式的玻璃板以外的其它构件。

作为本实用新型的物品的示例，可以列举上述中作为玻璃板的用途所列举的物品、具备它们中任意一种以上的装置等。

作为装置，可以列举例如图像显示装置、照明装置、太阳能电池模块等。

从均匀的可视性等光学特性的观点出发，本实用新型的物品优选为图像显示装置。特别是，适合于要求大型的具有曲面形状的玻璃板的、贴合有液晶面板或有机EL面板等显示面板的显示装置，还适合于具备复杂的曲面形状的车载用显示装置。由此，即使是具备复杂的曲面形状的玻璃板，也能够均匀地研磨，能够确保均匀的可视性。

本申请要求基于2015年6月12日向日本特许厅申请的日本特愿 2015-118863号的优先权，将日本特愿2015-118863号的全部内容援引于本申请中。