1.一种Nd敏化的氧化钇基激光陶瓷，其特征在于陶瓷的晶粒具有核壳结构，核层为(Y1-x-yNdxMy)2O3相、壳层为(Y1-zNz)2O3相，其中0.01 ≤ x ≤ 0.1，0.005 ≤ y ≤ 0.1，0.05 ≤ z ≤ 0.2，M为稀土发光离子Er和Dy中的一种，N为烧结助剂La、Zr、Ti、Mn、Al、Ca、Zn和Mg中的一种或几种，壳层物质与核层物质的摩尔比为0.01～0.2:1。
2.制备权利要求1所述的Nd敏化的氧化钇基激光陶瓷的方法，其特征在于包括下述步骤：
(1)按核层物质的量称取钇的化合物、钕的化合物和M元素的化合物，并放入去离子水中混合均匀，然后以氧化锆球为磨介，球磨混合4～24小时，干燥后再在1250～1550 ℃煅烧2～8小时，获得Nd与M固溶入Y2O3中的(Y,Nd,M)2O3相粉体；
(2)按壳层物质的量称取钇的化合物和N元素的化合物，并放入去离子水中混合均匀，然后加入步骤(1)合成的(Y,Nd,M)2O3相粉体，球磨混合4～24小时，随后将混合物进行喷雾干燥，除掉去离子水；
(3)将喷雾干燥后获得的粉体放入模具中，在10～40 MPa的压力下成型，然后升温到1050～1250 ℃保温1～4小时，冷却后再放入等静压机中，在180～300 MPa下进行等静压；
(4)将等静压后的产物放在真空炉中，在1550～1750 ℃保温4～24小时，冷却后再在900～1500 ℃的空气中退火2～8小时，得到Nd敏化的氧化钇基激光陶瓷。
3.根据权利要求2所述的制备Nd敏化的氧化钇基激光陶瓷的方法，其特征在于所述的钇的化合物为氧化钇、硝酸钇和醋酸钇中的一种或几种。
4.根据权利要求2所述的制备Nd敏化的氧化钇基激光陶瓷的方法，其特征在于所述的钕的化合物为氧化钕、硝酸钕和醋酸钕中的一种或几种。
5.根据权利要求2所述的制备Nd敏化的氧化钇基激光陶瓷的方法，其特征在于所述的M元素的化合物为氧化铒、硝酸铒、醋酸铒、氧化镝、硝酸镝和醋酸镝中的一种。
6.根据权利要求2所述的制备Nd敏化的氧化钇基激光陶瓷的方法，其特征在于所述的N元素的化合物为硝酸镧、醋酸镧、硝酸锆、醋酸锆、钛酸四丁酯、硝酸钛、硝酸锰、醋酸锰、硝酸铝、醋酸铝、硝酸钙、醋酸钙、硝酸锌、醋酸锌、硝酸镁和醋酸镁中的一种或几种。
7.制备权利要求1所述的Nd敏化的氧化钇基激光陶瓷的方法，其特征在于包括下述步骤：
(1)按核层物质的量称取钇的化合物、钕的化合物和M元素的化合物，并放入去离子水中混合均匀，然后以氧化锆球为磨介，球磨混合4～24小时，干燥后再在1250～1550 ℃煅烧2～8小时，获得Nd与M固溶入Y2O3中的(Y,Nd,M)2O3相粉体；
(2)按壳层物质的量称取钇的化合物和N元素的化合物，并放入去离子水中混合均匀，然后以氧化锆球为磨介，球磨混合4～24小时，干燥后再在1050～1250 ℃煅烧1～4小时，获得N固溶入Y2O3中的(Y,N)2O3相粉体；
(3)将上述步骤(1)与步骤(2)制备的粉体进行混合，放入球磨罐中，以氧化锆球为磨介，球磨混合4～24小时，得到混合粉体；
(4)将上述混合粉体干燥后压制成型，经过180～300 MPa的冷等静压，然后放在真空炉中，在1550～1750 ℃保温4～24小时，冷却后再在900～1500 ℃的空气中退火2～8小时，得到Nd敏化的氧化钇基激光陶瓷。
8.根据权利要求7所述的制备Nd敏化的氧化钇基激光陶瓷的方法，其特征在于所述的钇的化合物为氧化钇、硝酸钇和醋酸钇中的一种或几种；所述的钕的化合物为氧化钕、硝酸钕和醋酸钕中的一种或几种。
9.根据权利要求7所述的制备Nd敏化的氧化钇基激光陶瓷的方法，其特征在于所述的M元素的化合物为氧化铒、硝酸铒、醋酸铒、氧化镝、硝酸镝和醋酸镝中的一种。
10.根据权利要求7所述的制备Nd敏化的氧化钇基激光陶瓷的方法，其特征在于所述的N元素的化合物为氧化镧、硝酸镧、醋酸镧、氧化锆、硝酸锆、醋酸锆、氧化钛、钛酸四丁酯、硝酸钛、氧化锰、硝酸锰、醋酸锰、氧化铝、硝酸铝、醋酸铝、氧化钙、硝酸钙、醋酸钙、氧化锌、硝酸锌、醋酸锌、氧化镁、硝酸镁和醋酸镁中的一种或几种。