本发明涉及蚀刻液技术领域，具体涉及一种用于导电玻璃的蚀刻液及其制备方法。
背景技术：
在平板显示器的制备工艺过程中，需要使用导电玻璃。随着生产厂家越来越多的采用将导电玻璃进行减薄的方法，导电玻璃的蚀刻成为重要的问题。通常使用的减薄方法有两种，一种是物理方法，即使用抛光粉进行抛光研磨，这种方法减薄时间长，精度不好控制，产品良率低；另一种方法为使用蚀刻液的化学蚀刻法，这种方法减薄时间短，设备投入小，且减薄液的成分简单，逐渐成为了主流技术方法。
现有技术的蚀刻液对基板的蚀刻速率较快，蚀刻量不容易控制，有的无法有效溶解硅酸盐，有的会产生较强的电离作用，导致蚀刻速率不易控制，有时蚀刻液会产生大量气泡。因此，需要提供一种蚀刻液及蚀刻导电玻璃的方法，能够有效去除杂质，提高产品合格率，同时可以对导电玻璃基板的厚度控制提供保证。
技术实现要素：
本发明的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种用于导电玻璃的蚀刻液及其制备方法，该蚀刻液可以通过对导电玻璃基板表面的杂质进行溶解和蚀刻，达到去除基板表面杂质的技术效果，从而有效解决基板由于颗粒状附着而降低良率的问题。
本发明解决技术问题采用如下技术方案：
一种用于导电玻璃的蚀刻液，包括以下重量份的原料：氢氟酸30～50份、磷酸20～30份、氟化钙5～10份、硫酸铵1～6份、硫酸镁1～6份、磷酸钾5～10份、氟化氢钾1～6份、硅酸钠6～12份、氟硼酸钠5～10份、琼脂1～5份、海藻酸钠1～6份、纳米二氧化硅1～3份、防冻剂0.2～0.6份、阴离子表面活性剂0.01～0.05份、硫酸溶液40～60份、去离子水120～160份；其中，硫酸溶液的质量浓度为10～20%。
优选地，所述蚀刻液包括以下重量份的原料：氢氟酸42份、磷酸25份、氟化钙8份、硫酸铵2份、硫酸镁3份、磷酸钾6份、氟化氢钾3份、硅酸钠10份、氟硼酸钠7份、琼脂3份、海藻酸钠5份、纳米二氧化硅2份、防冻剂0.5份、阴离子表面活性剂0.02份、硫酸溶液50份、去离子水150份。
优选地，所述防冻剂为乙二醇、丙三醇、二甘醇、乙二醇丁醚、乙二醇丁醚醋酸酯、二甲亚砜中的一种或多种的组合。
优选地，所述阴离子表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、十二烷基磺酸钠、脂肪醇醚硫酸钠、乙氧基化脂肪酸甲酯磺酸钠中的一种或多种的组合。
上述用于导电玻璃的蚀刻液的制备方法，包括以下步骤：
（1）在冰浴条件下，使用恒压滴液漏斗将硫酸溶液缓慢滴加到去离子水中，混合搅拌30～50min后，再缓慢加入氢氟酸、磷酸，搅拌均匀后，放入超声清洗机中超声处理5～10min，得到混合酸溶液；
（2）将混合酸溶液、氟化钙、硫酸铵、硫酸镁、磷酸钾、氟化氢钾、硅酸钠、氟硼酸钠、琼脂、海藻酸钠、纳米二氧化硅、防冻剂、阴离子表面活性剂依次加入反应釜中，升温至100～150℃，搅拌30～50min后，陈化30～50小时得到该蚀刻液。
优选地，所述超声处理的频率范围为30～40khz，超声功率为600w，超声温度为40～60℃。
优选地，所述反应釜采用耐酸不锈钢反应釜，搅拌转速为60～80r/min。
优选地，所述步骤（2）升温至135℃，搅拌40min后，陈化42小时得到该蚀刻液。
与现有技术相比，本发明具有如下的有益效果：
（1）本发明的蚀刻液，可以通过对导电玻璃基板表面的杂质进行溶解和蚀刻，达到去除基板表面杂质的技术效果，从而有效解决基板由于颗粒状附着而降低良率的问题。
（2）本发明的蚀刻液，选择了多种含氟物质，如氢氟酸、氟化钙、氟化氢钾、氟硼酸钠、作为氟离子的来源，配比合理，协同作用，调节了蚀刻液活性，防止反应过快或过慢，配合多种硫酸盐、磷酸盐、琼脂、海藻酸钠，纳米二氧化硅，起到缓释作用，防止腐蚀面的继续腐蚀，有利于形成均匀细微的毛面，减小蚀刻面的厚度，保持显示屏的画面真实美观。
（3）本发明通过各原料的性能协同互补，蚀刻液处理后的导电玻璃透光率和雾化度较高，厚度质量稳定，表面不易留下划痕，具有良好的经济效益。
具体实施方式
以下结合具体实施例对发明作进一步详细的描述。
实施例1
一种用于导电玻璃的蚀刻液，包括以下重量份的原料：氢氟酸42份、磷酸25份、氟化钙8份、硫酸铵2份、硫酸镁3份、磷酸钾6份、氟化氢钾3份、硅酸钠10份、氟硼酸钠7份、琼脂3份、海藻酸钠5份、纳米二氧化硅2份、防冻剂丙三醇0.5份、阴离子表面活性剂十二烷基苯磺酸钠0.02份、硫酸溶液50份、去离子水150份；其中，硫酸溶液的质量浓度为20%。
上述用于导电玻璃的蚀刻液的制备方法，包括以下步骤：
（1）在冰浴条件下，使用恒压滴液漏斗将硫酸溶液缓慢滴加到去离子水中，混合搅拌40min后，再缓慢加入氢氟酸、磷酸，搅拌均匀后，放入超声清洗机中超声处理8min，得到混合酸溶液；超声处理的频率范围为30～40khz，超声功率为600w，超声温度为46℃。
（2）将混合酸溶液、氟化钙、硫酸铵、硫酸镁、磷酸钾、氟化氢钾、硅酸钠、氟硼酸钠、琼脂、海藻酸钠、纳米二氧化硅、防冻剂、阴离子表面活性剂依次加入耐酸不锈钢反应釜，搅拌转速为60r/min，升温至135℃，搅拌40min后，陈化42小时得到该蚀刻液。
实施例2
一种用于导电玻璃的蚀刻液，包括以下重量份的原料：氢氟酸36份、磷酸27份、氟化钙5份、硫酸铵3份、硫酸镁2份、磷酸钾7份、氟化氢钾5份、硅酸钠8份、氟硼酸钠6份、琼脂3份、海藻酸钠5份、纳米二氧化硅1份、防冻剂乙二醇0.2份、阴离子表面活性剂十二烷基磺酸钠0.03份、硫酸溶液50份、去离子水134份；其中，硫酸溶液的质量浓度为17%。
上述用于导电玻璃的蚀刻液的制备方法，包括以下步骤：
（1）在冰浴条件下，使用恒压滴液漏斗将硫酸溶液缓慢滴加到去离子水中，混合搅拌45min后，再缓慢加入氢氟酸、磷酸，搅拌均匀后，放入超声清洗机中超声处理7min，得到混合酸溶液；超声处理的频率范围为30～40khz，超声功率为600w，超声温度为48℃。
（2）将混合酸溶液、氟化钙、硫酸铵、硫酸镁、磷酸钾、氟化氢钾、硅酸钠、氟硼酸钠、琼脂、海藻酸钠、纳米二氧化硅、防冻剂、阴离子表面活性剂依次加入耐酸不锈钢反应釜，搅拌转速为65r/min，升温至140℃，搅拌36min后，陈化34小时得到该蚀刻液。
实施例3
一种用于导电玻璃的蚀刻液，包括以下重量份的原料：氢氟酸42份、磷酸26份、氟化钙7份、硫酸铵3份、硫酸镁5份、磷酸钾8份、氟化氢钾3份、硅酸钠10份、氟硼酸钠6份、琼脂3份、海藻酸钠5份、纳米二氧化硅2份、防冻剂二甘醇0.5份、阴离子表面活性剂脂肪醇醚硫酸钠0.03份、硫酸溶液52份、去离子水150份；其中，硫酸溶液的质量浓度为17%。
上述用于导电玻璃的蚀刻液的制备方法，包括以下步骤：
（1）在冰浴条件下，使用恒压滴液漏斗将硫酸溶液缓慢滴加到去离子水中，混合搅拌42min后，再缓慢加入氢氟酸、磷酸，搅拌均匀后，放入超声清洗机中超声处理6min，得到混合酸溶液；超声处理的频率范围为30～40khz，超声功率为600w，超声温度为55℃。
（2）将混合酸溶液、氟化钙、硫酸铵、硫酸镁、磷酸钾、氟化氢钾、硅酸钠、氟硼酸钠、琼脂、海藻酸钠、纳米二氧化硅、防冻剂、阴离子表面活性剂依次加入耐酸不锈钢反应釜，搅拌转速为80r/min，升温至150℃，搅拌50min后，陈化40小时得到该蚀刻液。
实施例4
一种用于导电玻璃的蚀刻液，包括以下重量份的原料：氢氟酸47份、磷酸23份、氟化钙8份、硫酸铵2份、硫酸镁1份、磷酸钾5份、氟化氢钾3份、硅酸钠10份、氟硼酸钠7份、琼脂3份、海藻酸钠5份、纳米二氧化硅3份、防冻剂乙二醇丁醚醋酸酯0.5份、阴离子表面活性剂乙氧基化脂肪酸甲酯磺酸钠0.03份、硫酸溶液55份、去离子水150份；其中，硫酸溶液的质量浓度为12%。
上述用于导电玻璃的蚀刻液的制备方法，包括以下步骤：
（1）在冰浴条件下，使用恒压滴液漏斗将硫酸溶液缓慢滴加到去离子水中，混合搅拌50min后，再缓慢加入氢氟酸、磷酸，搅拌均匀后，放入超声清洗机中超声处理10min，得到混合酸溶液；超声处理的频率范围为30～40khz，超声功率为600w，超声温度为60℃。
（2）将混合酸溶液、氟化钙、硫酸铵、硫酸镁、磷酸钾、氟化氢钾、硅酸钠、氟硼酸钠、琼脂、海藻酸钠、纳米二氧化硅、防冻剂、阴离子表面活性剂依次加入耐酸不锈钢反应釜，搅拌转速为80r/min，升温至120℃，搅拌47min后，陈化45小时得到该蚀刻液。
实施例5
一种用于导电玻璃的蚀刻液，包括以下重量份的原料：氢氟酸50份、磷酸28份、氟化钙6份、硫酸铵3份、硫酸镁2份、磷酸钾8份、氟化氢钾6份、硅酸钠11份、氟硼酸钠8份、琼脂4份、海藻酸钠5份、纳米二氧化硅3份、防冻剂丙三醇0.5份、阴离子表面活性剂十二烷基磺酸钠0.05份、硫酸溶液60份、去离子水160份；其中，硫酸溶液的质量浓度为16%。
上述用于导电玻璃的蚀刻液的制备方法，包括以下步骤：
（1）在冰浴条件下，使用恒压滴液漏斗将硫酸溶液缓慢滴加到去离子水中，混合搅拌45min后，再缓慢加入氢氟酸、磷酸，搅拌均匀后，放入超声清洗机中超声处理10min，得到混合酸溶液；超声处理的频率范围为30～40khz，超声功率为600w，超声温度为60℃。
（2）将混合酸溶液、氟化钙、硫酸铵、硫酸镁、磷酸钾、氟化氢钾、硅酸钠、氟硼酸钠、琼脂、海藻酸钠、纳米二氧化硅、防冻剂、阴离子表面活性剂依次加入耐酸不锈钢反应釜，搅拌转速为80r/min，升温至150℃，搅拌45min后，陈化46小时得到该蚀刻液。
实施例6
一种用于导电玻璃的蚀刻液，包括以下重量份的原料：氢氟酸50份、磷酸30份、氟化钙10份、硫酸铵6份、硫酸镁6份、磷酸钾10份、氟化氢钾6份、硅酸钠12份、氟硼酸钠10份、琼脂5份、海藻酸钠6份、纳米二氧化硅3份、防冻剂乙二醇丁醚醋酸酯0.6份、阴离子表面活性剂十二烷基苯磺酸钠0.05份、硫酸溶液53份、去离子水158份；其中，硫酸溶液的质量浓度为15%。
上述用于导电玻璃的蚀刻液的制备方法，包括以下步骤：
（1）在冰浴条件下，使用恒压滴液漏斗将硫酸溶液缓慢滴加到去离子水中，混合搅拌42min后，再缓慢加入氢氟酸、磷酸，搅拌均匀后，放入超声清洗机中超声处理10min，得到混合酸溶液；超声处理的频率范围为30～40khz，超声功率为600w，超声温度为50℃。
（2）将混合酸溶液、氟化钙、硫酸铵、硫酸镁、磷酸钾、氟化氢钾、硅酸钠、氟硼酸钠、琼脂、海藻酸钠、纳米二氧化硅、防冻剂、阴离子表面活性剂依次加入耐酸不锈钢反应釜，搅拌转速为80r/min，升温至150℃，搅拌50min后，陈化46小时得到该蚀刻液。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。