一种二氧化硫管路装置的制作方法

文档序号:14916547发布日期:2018-07-11 01:12阅读:387来源:国知局

本实用新型技术属于超薄浮法玻璃生产领域,主要涉及的是一种锡槽出口到退火窑前端之间的二氧化硫管路装置。



背景技术:

目前浮法玻璃生产线,通常在过渡辊台或退火窑前部的玻璃下表施加SO2气体,与玻璃中的Na离子产生化学反应生成Na2SO4保护膜,从而减少玻璃下表的划伤。然而传统的二氧化硫管路,通常是在管壁上设置通孔,通孔间距较大,造成SO2气体在玻璃下表分布不均匀,Na2SO4保护膜厚度不能均匀控制,因而不能很好地解决玻璃下表划伤的问题。同时,由于SO2气体在通孔处产生集聚效应,容易使辊道上的锡渣在通孔之间的位置产生集聚,从而加剧玻璃下表的划伤。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种二氧化硫管路装置,该管路可以实现二氧化硫在玻璃下表分布均匀,从而减少了玻璃下表划伤,提高了产品质量。

为了实现上述的技术特征,本实用新型的目的是这样实现的:一种二氧化硫管路装置,它包括用于玻璃输送的过渡辊台,所述过渡辊台上安装有输送托辊,所述过渡辊台安装在机架的顶部,在过渡辊台的下方设置有用于施加二氧化硫气体的管路装置。

所述管路装置包括主管道,所述主管道的顶部加工有多个等间距布置的主出气孔,所述主出气孔的顶部罩有出风罩,所述出风罩固定在主管道上,所述出风罩的扁平出风口与过渡辊台上的玻璃底面相对。

所述主管道通过多个支撑座固定安装在支撑横梁上,所述支撑横梁固定安装在机架的支撑腿之间。

所述主管道的一端连接二氧化硫储存罐和鼓风机,另一端的开口封闭。

所述出风罩的截面为三角形,其底部为弧形结构与主管道的弧形外壁相贴合,其顶部为扁平出风口,在扁平出风口上密布加工有顶部出气孔。

本实用新型有如下有益效果:

1、通过所述的二氧化硫管路装置,能够使浮法生产的玻璃的下表面与二氧化硫充分的接触均匀,进而与玻璃中的Na离子产生化学反应生成Na2SO4保护膜,从而减少玻璃下表的划伤,提高了产品的质量。

2、通过所述的出风罩能够有效的增大二氧化硫与玻璃下表面的接触面积,使其接触更加的均匀,进而使反应更加的彻底,生成均匀的保护膜,对玻璃下表面起到很好的保护。

3、通过采用扁平出风口有效的防止了SO2气体在通孔处产生集聚效应,有效的预防了锡渣在通孔之间位置产生集聚。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。

图1是本实用新型主视图。

图2是本实用新型主管道和出风罩配合截面图。

图3是本实用新型主管道和出风罩配合三维图。

图中:机架1、支撑横梁2、主管道3、支撑座4、出风罩5、扁平出风口6、玻璃7、输送托辊8、过渡辊台9、主出气孔10、顶部出气孔11。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的实施方式做进一步的说明。

如图1-3所示,一种二氧化硫管路装置,它包括用于玻璃输送的过渡辊台9,所述过渡辊台9上安装有输送托辊8,所述过渡辊台9安装在机架1的顶部,在过渡辊台9的下方设置有用于施加二氧化硫气体的管路装置。通过采用上述的二氧化硫管路装置可以实现二氧化硫在玻璃下表分布均匀,从而减少了玻璃下表划伤,提高了产品质量。

进一步的,所述管路装置包括主管道3,所述主管道3的顶部加工有多个等间距布置的主出气孔10,所述主出气孔10的顶部罩有出风罩5,所述出风罩5固定在主管道3上,所述出风罩5的扁平出风口6与过渡辊台9上的玻璃7底面相对。通过上述的出风罩5能够在玻璃7的下表面形成若干喷射二氧化硫的风刀,进而使二氧化硫与玻璃7的下表面充分的接触,增强了反应效果,使Na2SO4保护膜厚度得到有效的控制,进而对玻璃下表面进行有效的保护。

进一步的,所述主管道3通过多个支撑座4固定安装在支撑横梁2上,所述支撑横梁2固定安装在机架1的支撑腿之间。通过主管道3用于二氧化硫气体的输送。

进一步的,所述主管道3的一端连接二氧化硫储存罐和鼓风机,另一端的开口封闭。通过采用上述的二氧化硫储存罐能够提供气源,通过鼓风机对气体进行输送。

进一步的,所述出风罩5的截面为三角形,其底部为弧形结构与主管道3的弧形外壁相贴合,其顶部为扁平出风口6,在扁平出风口6上密布加工有顶部出气孔11。通过采用三角形截面,保证了二氧化硫气体喷出的均匀性,而且使其与玻璃下表面充分的接触。

本实用新型的工作过程和工作原理:

首先,将浮法工艺生产的玻璃,输送到过渡辊台9上,并通过输送托辊8对其进行输送;

然后,在输送的同时,开启管路装置的主管道3,通过主管道3输送二氧化硫气体,二氧化硫气体将通过出风罩5顶部的扁平出风口6将二氧化硫气体均匀的喷出,最终使其均匀的与玻璃7的下表面相接触;

最终,二氧化硫充分的与玻璃中的Na离子产生化学反应生成Na2SO4保护膜,从而减少玻璃下表的划伤。

上述实施例用来解释说明本实用新型,而不是对本实用新型进行限制,在本实用新型的精神和权利要求的保护范围内,对本实用新型做出的任何修改和改变,都落入本实用新型的保护范围。

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