一种无光釉料及其制备方法与应用与流程

本发明涉及一种陶瓷釉料配方与工艺技术，尤其涉及一种无光釉料及其制备方法与应用。

背景技术

目前，时下比较流行的家用瓷砖尤其是地砖，都是反光度很高的抛釉砖，白天阳光比较好，或者晚上开灯的时候，由于瓷砖光泽度较高，使室内存在较强的光污染问题。因此，为了减少光污染的问题，人们发明了柔光瓷砖。但常见非仿古砖类的柔光砖，一般其光泽度只能达到30-40度左右，依旧存在一定的光污染问题，且在保证瓷砖质感以及防污性能的情况下难以进一步降低其光泽度。如强行对其进行抛光处理，达到12度以下的光泽度，则防污能力将会受到极大影响，容易藏污纳垢且瓷砖的质感以及耐磨性也无法保障。

技术实现要素：

为了克服现有技术的不足，本发明的目的之一在于提供一种无光釉料。本发明通过对釉料无光釉料配方的改进，可以在不影响防污性能及质感的情况下，提高表面釉料的施釉量，保障柔光瓷砖经过抛光处理后，容易达到12度以下光泽度，在灯光照射下，肉眼看去，基本实现无反光效果。另外，本无光釉料使用纯干粒，生产过程中，产气少且排气较好，表面少毛孔残留，因此防污效果好。

本发明的目的之二在于提供一种无光釉料的制备方法。

本发明的目的之三在于提供一种无光砖的制备方法。

本发明的目的之一采用如下技术方案实现：一种无光釉料，由如下重量份数的原料制备而成：氧化铝8-15份、硼酸5-11份、钾长石24-29份、钠长石9-14份、白云石24-30份、碳酸钡5-10份、锂瓷石20-38份、氟化钙3-8份。

本发明的目的之二采用如下技术方案实现：一种无光釉料的制备方法，包括如下步骤：

配料混合的步骤：称取配方量的氧化铝、硼酸、钾长石、钠长石、白云石、碳酸钡、锂瓷石、氟化钙，混合在一起；

熔制的步骤：将上述混合原料输送至熔炉内，熔化成玻璃液；

水淬的步骤：将玻璃液流入水槽内，水淬冷却成颗粒料熔块；

烘干的步骤；水淬后的熔块用烘干设备烘干；

破碎的步骤：熔块烘干后破碎过筛，即得无光釉料干粒。

进一步地，在熔制的步骤中，所述熔炉的温度为1480-1580℃。

进一步地，在水淬的步骤中，所述颗粒料熔块的粒径为1.5-3.5mm。

进一步地，在烘干的步骤中，所述无光釉料干粒由如下质量百分数计的组分组成：氧化铝13.5-19.5％、二氧化硅45-55％、氧化钙8-16％、氧化镁3-6％、氧化钾1.5-3％、氧化钠0.5-2％、氧化硼3-6％、氧化锂0.3-0.6％、氟2.5-4％，上述组分的质量百分数之和为100％。

进一步地，所述无光釉料干粒由如下质量百分数计的组分组成：氧化铝16.5％、二氧化硅50％、氧化钙12％、氧化镁4.5％、氧化钾2.5％、氧化钠1.5％、氧化硼4.5％、氧化锂0.45％、氟3.5％，上述组分的质量百分数之和为100％。

本发明的目的之三采用如下技术方案实现：一种无光砖的制备方法，包括如下步骤：

原料预处理的步骤：选取底坯材料，备料进仓均化，球磨，制浆，出浆除铁，陈腐1-2天，喷雾造粒，陈腐1-2天，即得底坯粉料；

压制成型的步骤：将粉料置于压机内进行压制，得到底坯；

干燥的步骤：经压制后的底坯输送至干燥设备中进行干燥处理；

淋面釉的步骤：经干燥后的底坯表面进行淋面釉的处理；

喷墨印花的步骤：在淋面釉的上表面以喷墨机喷墨或丝网印刷或滚筒印刷的方式进行装饰；

施保护釉料的步骤：用印花机或高压喷枪施保护釉料；

布干粒的步骤：将无光釉料干粒施布至保护釉料的上表面，喷胶水，然后进行干燥处理；

烧制成型的步骤：然后将施布干粒后的砖坯输送至窑炉内进行烧制成型，然后进行磨边抛光、分级、打包，即得无光砖。

进一步地，在原料预处理的步骤中，所述底坯材料由如下质量分数计的组分组成：二氧化硅65-68％、氧化铝18-22％、三氧化二铁0.3-0.7％、二氧化钛0.2-0.4％、氧化钙0.1-0.4％、氧化镁0.8-1.2％、氧化钾3-3.5％、氧化钠1.8-2.2％、烧失量3-6％，上述组分的质量百分数之和为100％。

进一步地，在布干粒的步骤中，所述无光釉料干粒的施重范围1.5-2.4kg/m²，釉层厚度为0.6-0.9mm。

进一步地，在压制成型的步骤中，所述压力为3800-4200吨；在烧制成型的步骤中，烧制的温度为1160-1200℃，烧制时间为1.0-1.5h。

相比现有技术，本发明的有益效果在于：

现有釉料砖中的施釉量为0.48-1.2kg/m²，釉料厚度为0.13-0.35mm，本发明通过对无光釉料配方的改进，可以在不影响防污性能及质感的情况下，提高表面釉料的施釉量，施釉量高达1.5-2.4kg/m²，釉层厚度为0.6-0.9mm；保障柔光瓷砖经过抛光处理后，容易达到12度以下光泽度，在灯光照射下，肉眼看去，基本实现无反光效果。另外，本无光釉料使用纯干粒，生产过程中，产气少且排气较好，表面少毛孔残留，因此防污效果好。

附图说明

图1为现有技术中微晶砖的感光效果图；

图2为现有技术中抛釉砖的感光效果图；

图3为现有技术中柔光砖的感光效果图；

图4为本发明实施例5中无光砖的感光效果图。

具体实施方式

在本发明中，若非特指，所有的份、百分比均为重量单位，所采用的设备和原料等均可从市场购得或是本领域常用的。下述实施例中的方法，如无特别说明，均为本领域的常规方法。

本发明的目的之一采用如下技术方案实现：一种无光釉料，由如下重量份数的原料制备而成：氧化铝8-15份、硼酸5-11份、钾长石24-29份、钠长石9-14份、白云石24-30份、碳酸钡5-10份、锂瓷石20-38份、氟化钙3-8份。

本发明的目的之二采用如下技术方案实现：一种无光釉料的制备方法，包括如下步骤：

配料混合的步骤：称取配方量的氧化铝、硼酸、钾长石、钠长石、白云石、碳酸钡、锂瓷石、氟化钙，混合在一起；

熔制的步骤：将上述混合原料输送至熔炉内，熔化成玻璃液；

水淬的步骤：将玻璃液流入水槽内，水淬冷却成颗粒料熔块；

烘干的步骤；水淬后的熔块用烘干设备烘干；

破碎的步骤：熔块烘干后破碎过筛，即得无光釉料干粒。

作为进一步优选方案，在熔制的步骤中，所述熔炉的温度为1480-1580℃。

作为进一步优选方案，在水淬的步骤中，所述颗粒料的粒径为1.5-3.5mm。

作为进一步优选方案，在烘干的步骤中，所述无光釉料干粒由如下质量百分数计的组分组成：氧化铝13.5-19.5％、二氧化硅45-55％、氧化钙8-16％、氧化镁3-6％、氧化钾1.5-3％、氧化钠0.5-2％、氧化硼3-6％、氧化锂0.3-0.6％、氟2.5-4％，上述组分的质量百分数之和为100％。

作为最优选方案，所述无光釉料干粒由如下质量百分数计的组分组成：氧化铝16.5％、二氧化硅50％、氧化钙12％、氧化镁4.5％、氧化钾2.5％、氧化钠1.5％、氧化硼4.5％、氧化锂0.45％、氟3.5％，上述组分的质量百分数之和为100％。本发明通过对无光釉料配方的改进，可以在不影响防污性能及质感的情况下，提高表面釉料的施釉量，保障柔光瓷砖经过抛光处理后，容易达到12度以下光泽度，在灯光照射下，肉眼看去，基本实现无反光效果。另外，本无光釉料使用纯干粒，生产过程中，产气少且排气较好，表面少毛孔残留，因此防污效果好。

本发明实现无光效果和防污效果好的原因在于：一方面，通过提高无光釉料配方的起熔点，主要提高硅含量和铝含量，特别是铝含量高于市面上常见的熔块。釉料层在烧制过程中由于起熔点较高，前期尚未熔融，处于颗粒状时间较长，方便排气，排气效果较好。另一方面，在无光釉料制备过程中，原料输送至熔炉内熔化，熔融后无光釉料黏稠度较低，这与锂元素和氟元素有较大关系。一般市面上的熔块较少应用锂元素和氟元素。当无光釉料达到熔点后，熔融状态下的物质粘稠度较低，砖生成过程中产生的气泡容易排出，不容易残留气泡在熔融物质下，因此产品表面不会有较多因为生产过程中生成的气泡产生的孔洞，不容易藏污纳垢。同时由于生成过程中容易排气，因此施釉用量可以更加多，使釉层厚度大大增大，方便产品生成后抛光处理，且能更好的地展现产品的质感。

本发明还提供一种无光砖的制备方法，包括如下步骤：

原料预处理的步骤：选取底坯材料，备料进仓均化，球磨，制浆，出浆除铁，陈腐1-2天，喷雾造粒，陈腐1-2天，即得底坯粉料；

压制成型的步骤：将粉料置于压机内进行压制，得到底坯；

干燥的步骤：经压制后的底坯输送至干燥设备中进行干燥处理；

淋面釉的步骤：经干燥后的底坯表面进行淋面釉的处理；

喷墨印花的步骤：在淋面釉的上表面以喷墨机喷墨或丝网印刷或滚筒印刷的方式进行装饰；

施保护釉料的步骤：用印花机或高压喷枪施保护釉料；

布干粒的步骤：将无光釉料干粒施布至保护釉料的上表面，喷胶水，然后进行干燥处理；

烧制成型的步骤：然后将施布干粒后的砖坯输送至窑炉内进行烧制成型，然后进行磨边抛光、分级、打包，即得无光砖。

作为进一步优选方案，在原料预处理的步骤中，所述底坯材料由如下质量分数计的组分组成：二氧化硅65-68％、氧化铝18-22％、三氧化二铁0.3-0.7％、二氧化钛0.2-0.4％、氧化钙0.1-0.4％、氧化镁0.8-1.2％、氧化钾3-3.5％、氧化钠1.8-2.2％、烧失量3-6％，上述组分的质量百分数之和为100％。

作为进一步优选方案，在布干粒的步骤中，所述无光釉料干粒的施重范围1.5-2.4kg/m²，釉层厚度为0.6-0.9mm。

作为进一步优选方案，在压制成型的步骤中，所述压力为3800-4200吨；在烧制成型的步骤中，烧制的温度为1160-1200℃，烧制时间为1.0-1.5h。

下面，结合附图以及具体实施方式，对本发明做进一步描述，需要说明的是，在不相冲突的前提下，以下描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例。

实施例1一种无光釉料

无光釉料，由如下重量份数的原料制备而成：氧化铝8份、硼酸5份、钾长石24份、钠长石9份、白云石24份、碳酸钡5份、锂瓷石20份、氟化钙3份。

实施例2一种无光釉料

无光釉料，由如下重量份数的原料制备而成：氧化铝12份、硼酸8份、钾长石26份、钠长石12份、白云石28份、碳酸钡7份、锂瓷石30份、氟化钙5份。

实施例3一种无光釉料

无光釉料，由如下重量份数的原料制备而成：氧化铝15份、硼酸11份、钾长石29份、钠长石14份、白云石30份、碳酸钡10份、锂瓷石38份、氟化钙8份。

实施例1-3的无光釉料制备方法包括如下步骤：

配料混合的步骤：称取配方量的氧化铝、硼酸、钾长石、钠长石、白云石、碳酸钡、氧化锂、氟化钙，混合在一起；

熔制的步骤：将上述混合原料输送至熔炉内，熔炉的温度为1550℃，熔化成玻璃液；

水淬的步骤：将玻璃液流入水槽内，水淬冷却成颗粒料；所述颗粒料熔块的粒径为1.5-3.5mm；

烘干的步骤；水淬后的颗粒料用烘干设备烘干，即得无光釉料干粒，该无光釉料干粒由如下质量百分数计的组分组成：氧化铝13.5-19.5％、二氧化硅45-55％、氧化钙8-16％、氧化镁3-6％、氧化钾1.5-3％、氧化钠0.5-2％、氧化硼3-6％、氧化锂0.3-0.6％、氟2.5-4％，上述组分的质量百分数之和为100％；

破碎的步骤：熔块烘干后破碎过筛，即得无光釉料干粒。

实施例4一种无光砖

该无光砖的表面施加实施例1的无光釉料。

实施例5一种无光砖

该无光砖的表面施加实施例2的无光釉料。

实施例6一种无光砖

该无光砖的表面施加实施例3的无光釉料。

实施例4-6的无光砖的制备方法包括如下步骤：

原料预处理的步骤：选取底坯材料，备料进仓均化，球磨，制浆，出浆除铁，陈腐1-2天，喷雾造粒，陈腐1-2天，即得底坯颗粒；所述底坯材料由如下质量分数计的组分组成：二氧化硅67.95％、氧化铝19.55％、三氧化二铁0.65％、二氧化钛0.38％、氧化钙0.3％、氧化镁1.05％、氧化钾3.2％、氧化钠2.05％、烧失量4.87％。

压制成型的步骤：底坯颗粒置于压机内进行压制，压力为3800-4200吨，得到底坯；

干燥的步骤：经压制后的底坯输送至干燥设备中进行干燥处理；

淋面釉的步骤：经干燥后的底坯表面进行淋面釉的处理；

喷墨印花的步骤：在淋面釉的上表面以喷墨机喷墨或丝网印刷或滚筒印刷的方式进行装饰；

施保护釉料的步骤：用印花机或水刀喷油柜施保护釉料；

布干粒的步骤：将无光釉料干粒施布至保护釉料的上表面，喷胶水，然后进行干燥处理；所述无光釉料干粒的施重范围2kg/m²，釉层厚度约为0.8mm；

烧制成型的步骤：然后将施布干粒后的砖坯输送至窑炉内进行烧制成型，烧制的温度为1200℃，烧制时间为1h，然后进行磨边抛光、分级、打包，即得到无光砖。

下面，取实施例4-6制得的无光砖以及现有技术中的柔光砖、抛釉砖、微晶石砖为对比例，对其光泽度、感光效果、质感、防污性能进行检测。

1.光泽度测试：采用科仕佳公司型号为wgg60-y(e)测光计对瓷砖表面的光泽度进行测量，测试标准为gb/t13891-2008建筑饰面材料镜向光泽度测定方法。

表1实施例4-6无光砖与现有常见砖的光泽度结果

现有微晶砖、抛釉砖的光泽度很高，用于地面砖使用时，反光率极高，造成光污染严重，而柔光砖虽然与微晶砖、抛釉砖相比，光泽度降低很多，反光率也下降不少，市面上的柔光砖光泽度一般为30-55度，极少数可以做到18度以下，而本发明的无光砖基本可以降低至12度以下，甚至达到8度，尤其适用于对光感敏感的群体。

2.感光效果、质感、防污性能检测：其中，感光效果的测试方法如下，将各个瓷砖平铺在底板上，模拟已铺瓷砖，打开楼面天花板的六个led灯，各个瓷砖在相同位置下被六个led灯的灯光照射，观察各种瓷砖的感光效果。

表2无光砖与现有常见砖的效果与性能结果

上述实施方式仅为本发明的优选实施方式，不能以此来限定本发明保护的范围，本领域的技术人员在本发明的基础上所做的任何非实质性的变化及替换均属于本发明所要求保护的范围。