一种负离子、银离子功能陶瓷砖的生产方法与流程

文档序号:17081886发布日期:2019-03-09 00:22阅读:652来源:国知局

本发明涉及陶瓷制备技术领域,具体地说,涉及一种负离子、银离子功能陶瓷砖的生产方法。



背景技术:

随着科技的进步、社会的发展,以及人民生活水平的提高,健康的生活环境越来越受到人们的重视,抗病毒、抑菌防霉的技术也成为社会热点。据研究,负离子具有很强的活性,能够给空气中的细菌、灰尘、烟雾微粒以及小水滴输送电荷,使这些微粒与小水滴聚合沉降,起到很好的空气净化作用。在车站、医院、学校等公共场所的室内空气污染严重,pm2.5高居不下,应用负离子可以很好的净化空气,除去异味。此外,银离子作为一种高效、环保、无毒的广谱抗菌剂,一直受到人们的重视,在日常生活中常用于杀菌消毒。

目前,陶瓷砖做为一种美观、环保的装饰材料被广泛接受,但现在市场上的功能陶瓷砖,要么只有负离子释放功能,要么只有银离子抗菌功能,没有二者兼备的产品,而且,由于负离子粉与抗菌粉加入到釉料中易出现针眼、釉窝、釉尖等缺陷,降低了瓷砖的妆饰性。因此,现有的陶瓷砖的制备技术还有待提高,以适应人们的健康生活所需。



技术实现要素:

本发明的目的在于,提供一种负离子、银离子功能陶瓷砖的生产方法,以解决上述的技术问题。

为实现上述目的,本发明所采用的技术方案是:

一种负离子、银离子功能陶瓷砖的生产方法,包括以下有效步骤:

1、负离子化妆土釉浆的制备:先将低温钛白熔块、高岭土、球土、长石、石英、滑石、烧土、负离子粉置于球磨机中,加水球磨12-13h,制得负离子化妆土釉浆,备用;

2、银离子抗菌粉的制备:将磷酸氢锆、分析纯硝酸银、分析纯硝酸锌混合均匀后,加入一倍质量的蒸馏水,在70℃恒温水浴槽中搅拌1h,静置2h;过滤、洗涤、烘干后,制得抗菌粉,备用;

3、银离子面釉釉浆的制备:将锆白熔块、高岭土与步骤(2)制得的抗菌粉混合置于球磨机中,加水球磨9-10h,制得银离子面釉釉浆,备用;

4、生坯的制备:将粘土、长石、透辉石、生焦置于球磨机中,球磨9-10h制得泥浆;除铁,过100目筛后,用喷雾干燥塔制粉;再用压砖机压制成型,制得生坯;

5、素烧:将步骤4制得的生坯置入陶瓷素烧窑烧制1h,素烧温度1100℃-1110℃,制得素坯;

6、施釉:将步骤5制得的素坯置于施釉线上,先用钟罩淋釉器在素坯上淋步骤1制得的负离子化妆土釉浆,施釉厚度0.2-0.4mm;再用钟罩淋釉器在素坯上淋步骤3制得的银离子面釉釉浆,施釉厚度0.4-0.6mm,制得釉坯;

7、烧成:将步骤6制得的釉坯置于陶瓷釉烧窑炉烧制1h,烧成温度1130~1140℃,即制得负离子、银离子功能陶瓷砖。

优选的:所述步骤1中,各种原料的重量份数分别是:低温钛白熔块60-70份、高岭土10-15份、球土2-5份、长石10-20份、石英1-3份、滑石2-5份、烧土2-5份、负离子粉1-3份。

优选的:所述步骤1中,负离子粉为电气石粉、麦饭石粉、蛋白石粉、奇冰石粉、角闪石粉中的至少一种。选择这几种负离子材料,是因为它们的负离子发生量高,释放负离子的功效长久。

优选的:所述步骤1中,将低温钛白熔块、高岭土、长石、石英、滑石、烧土、负离子粉置于球磨机中,加水球磨12-13h,出磨后过180目筛,再加水将釉浆比重调为1.78-1.85g/cm3,制得的负离子化妆土釉浆在烧成后不易出釉面针孔、釉尖。

优选的:所述步骤2中,磷酸氢锆、分析纯硝酸银、分析纯硝酸锌的质量比为:20:1:1。以磷酸氢锆为载体的银离子抗菌粉加入釉中,不易出现釉面针孔、釉窝。

优选的:所述步骤3中,锆白熔块、高岭土、抗菌粉的重量份数分别是:锆白熔块90-95份、高岭土5-10份、抗菌粉1-3份。

优选的:所述步骤3中,锆白熔块、高岭土、抗菌粉混合置于球磨机中,加水球磨9-10h,出磨后过200目筛,再加水将釉浆调至比重1.80-1.85g/cm3,制得银离子面釉釉浆在烧成后不易出釉面针孔、釉窝。

优选的:所述步骤4中,粘土、长石、透辉石、生焦置的重量份数分别是:粘土20-30份、长石10-20份、透辉石20-30份、生焦15-25份。

有益效果:与现有技术相比,本发明通过在化妆土中添加负离子粉,在面釉中添加以磷酸氢锆为载体的银离子粉,制得功能陶瓷砖,负离子平均增加量大于500个/scm2,细菌杀抑率达95%以上,不仅不会降低陶瓷砖的妆饰性,而且,利用陶瓷砖的负离子释放功能与银离子的防霉除菌功能,可以做到不消耗任何能源的情况下,达到人们对健康生活环境的需求,既环保又安全。同时,本发明配方简单,工艺合理,适合大规模推广使用。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明做进一步的描述。

实施例1:

本实施例所述负离子、银离子功能陶瓷砖的生产方法,包括以下有效步骤:

1、将低温钛白熔块60份、高岭土15份、球土5份、长石10份、石英2份、滑石3份、烧土5份、负离子粉(电气石粉与麦饭石粉1:1的混合物)2份,充分混合,加入球磨机中,加水球磨12h,出磨后过180目筛,再加水调至比重为1.78-1.85g/cm3,制得负离子化妆土釉浆,备用;

2、将磷酸氢锆、分析纯硝酸银、分析纯硝酸锌按照质量比20:1:1混合均匀,加一倍质量的蒸馏水,放入70℃恒温水浴槽中,搅拌1h,静置2h;过滤、洗涤、烘干,制得抗菌粉,备用;

3、将锆白熔块90份、高岭土10份、抗菌粉2份混合加入到球磨机中,加水球磨9h,出磨后过200目筛,再加水将釉浆调至比重为1.80-1.85g/cm3,制得银离子面釉釉浆,备用;

4、将粘土30份、长石20份、透辉石30份、生焦20份装入球磨机中,加水球磨9h制得泥浆,除铁,过100目筛后,通过喷雾干燥塔制粉;再将粉料送入压砖机中压制成生坯;

5、将生坯放入陶瓷素烧窑烧制1h,烧成温度1100℃-1110℃,制得素坯;

6、将素坯置于施釉线上,先用钟罩淋釉器在素坯上淋负离子化妆土釉浆,釉层厚度是0.2mm;再用钟罩淋釉器在素坯上淋银离子面釉釉浆,釉层厚度是0.6mm,制得釉坯;

7、将釉坯放入陶瓷釉烧窑中,在1130~1140℃的烧成温度下烧制1h,即制得负离子、银离子功能陶瓷砖。

实施例2:

本实施例所述负离子、银离子功能陶瓷砖的生产方法,包括以下有效步骤:

1、将低温钛白熔块65份、高岭土10份、球土3份、长石12份、石英2份、滑石3份、烧土5份、负离子粉(麦饭石粉、蛋白石粉、奇冰石粉1:1:1的混合物)3份,充分混合,加入球磨机中,加水球磨13h,出磨后过180目筛,再加水调至比重为1.78-1.85g/cm3,制得负离子化妆土釉浆,备用;

2、将磷酸氢锆、分析纯硝酸银、分析纯硝酸锌按照质量比20:1:1混合均匀,加一倍质量的蒸馏水,放入70℃恒温水浴槽中,搅拌1h,静置2h;过滤、洗涤、烘干,制得抗菌粉,备用;

3、将锆白熔块95份、高岭土5份、抗菌粉2份混合加入到球磨机中,加水球磨10h,出磨后过200目筛,再加水将釉浆调至比重为1.80-1.85g/cm3,制得银离子面釉釉浆,备用;

4、将粘土30份、长石20份、透辉石30份、生焦20份装入球磨机中,加水球磨10h制得泥浆,除铁,过100目筛后,通过喷雾干燥塔制粉;再将粉料送入压砖机中压制成生坯;

5、将生坯放入陶瓷素烧窑烧制1h,烧成温度1100℃-1110℃,制得素坯;

6、将素坯置于施釉线上,先用钟罩淋釉器在素坯上淋负离子化妆土釉浆,釉层厚度是0.3mm;再用钟罩淋釉器在素坯上淋银离子面釉釉浆,釉层厚度是0.5mm,制得釉坯;

7、将釉坯放入陶瓷釉烧窑中,在1130~1140℃的烧成温度下烧制1h,即制得负离子、银离子功能陶瓷砖。

实施例3:

本实施例所述负离子、银离子功能陶瓷砖的生产方法,包括以下有效步骤:

1、将低温钛白熔块70份、高岭土10份、球土5份、长石10份、石英2份、滑石3份、烧土5份、负离子粉(奇冰石粉、角闪石粉1:1的混合物)2份,充分混合,加入球磨机中,加水球磨12h,出磨后过180目筛,再加水调至比重为1.78-1.85g/cm3,制得负离子化妆土釉浆,备用;

2、将磷酸氢锆、分析纯硝酸银、分析纯硝酸锌按照质量比20:1:1混合均匀,加一倍质量的蒸馏水,放入70℃恒温水浴槽中,搅拌1h,静置2h;过滤、洗涤、烘干,制得抗菌粉,备用;

3、将锆白熔块95份、高岭土5份、抗菌粉3份混合加入到球磨机中,加水球磨9h,出磨后过200目筛,再加水将釉浆调至比重为1.80-1.85g/cm3,制得银离子面釉釉浆,备用;

4、将粘土30份、长石20份、透辉石30份、生焦20份装入球磨机中,加水球磨10h制得泥浆,除铁,过100目筛后,通过喷雾干燥塔制粉;再将粉料送入压砖机中压制成生坯;

5、将生坯放入陶瓷素烧窑烧制1h,烧成温度1100℃-1110℃,制得素坯;

6、将素坯置于施釉线上,先用钟罩淋釉器在素坯上淋负离子化妆土釉浆,釉层厚度是0.4mm;再用钟罩淋釉器在素坯上淋银离子面釉釉浆,釉层厚度是0.4mm,制得釉坯;

7、将釉坯放入陶瓷釉烧窑中,在1130~1140℃的烧成温度下烧制1h,即制得负离子、银离子功能陶瓷砖。

按照gb/t28628-2012《材料诱生空气离子量测试方法》检测,实施例1-3制得的负离子、银离子功能陶瓷砖的负离子增加量均>500个/scm2,对大肠杆菌、金黄色葡萄菌的杀菌率最高可达99.2%,对链球菌的杀菌率最高可达98%,对霉菌的杀菌率最高可达97.5%,且经20次光照后,其杀菌率仍然保持不变。

以上对本发明的较佳实施方式进行了具体说明,但本发明并不限于所述实施例,熟悉本领域的技术人员在不违背本发明精神的前提下还可作出等同变型或替换,这些等同的变型或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。

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