氢化流化床反应器及具有其的多晶硅生产系统的制作方法

文档序号:10843472阅读:545来源:国知局
氢化流化床反应器及具有其的多晶硅生产系统的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供了一种氢化流化床反应器及具有其的多晶硅生产系统。该氢化流化反应器包括顺序连接的混合气进气筒段、反应筒段和气固分离筒段,其中,混合气进气筒段形成混合气腔,混合气腔内设置有进气装置和气体分布装置,气体分布装置与混合气进气筒段连接,且气体分布装置靠近反应筒段;反应筒段的筒壁上开设有物料进料口;气固分离筒段的筒壁上开设有生成气出口,气固分离筒段内设置有旋风分离器,旋风分离器的气体出口与生成气出口相连通。本实用新型的氢化流化反应器可以解决现有技术中氢化四氯化硅工艺过程复杂,回收难度大的问题。
【专利说明】
氢化流化床反应器及具有其的多晶硅生产系统
技术领域
[0001]本实用新型涉及多晶硅生产制造领域,具体而言,涉及一种氢化流化床反应器及具有其的多晶硅生产系统。
【背景技术】
[0002]在多晶娃生广过程中,反应生成物中会有大量的副广物四氯化娃,多晶娃和四氯化硅的产出比例约为1:15?1:20之间,四氯化硅的生成严重影响多晶硅的产出效率及生产过程中节能降耗的需要。并且,四氯化硅的随意排放,极易污染环境并威胁人类健康。
[0003]对四氯化硅的处理方式是对其进行回收利用。这样既经济合理,又能有效减少环境污染。目前,对四氯化硅进行回收利用的方法主要有以下两种:
[0004]—是将四氯化硅作为原料来生产白炭黑。虽然目前的高品位白炭黑的市场需求空间较大,但高品位白炭黑的生产过程对工艺和设备的要求苛刻,因此白炭黑较难实现量产;而低品位白炭黑的市场需求容量有限。
[0005]二是采用氢化工艺对四氯化硅进行氢化处理。在适宜的条件下,四氯化硅氢化后转化为生广多晶娃的原料二氯氢娃。
[0006]综上考虑,在多晶硅生产过程中,一般优选氢化四氯化硅工艺对四氯化硅进行回收利用,但是现有技术中的氢化四氯化硅工艺过程复杂,回收难度大。
【实用新型内容】
[0007]本实用新型的主要目的在于提供一种氢化流化床反应器及具有其的多晶硅生产系统,以解决现有技术中氢化四氯化硅工艺过程复杂,回收难度大的问题。
[0008]为了实现上述目的,根据本实用新型的一个方面,提供了一种氢化流化反应器,包括顺序连接的混合气进气筒段、反应筒段和气固分离筒段,其中,混合气进气筒段形成混合气腔,混合气腔处设置有用于输入混合气体的进气装置以及混合气腔内设置有气体分布装置,气体分布装置与混合气进气筒段连接,且气体分布装置位于反应筒段与进气装置之间的位置处;反应筒段的筒壁上开设有物料进料口;气固分离筒段30的筒壁上开设有生成气出口,气固分离筒段处设置有至少一个旋风分离器,旋风分离器的气体出口与生成气出口相连通。
[0009]进一步地,进气装置包括:第一管段,第一管段的进气端沿混合气进气筒段的底部安装口延伸出外部;第二管段,第二管段与第一管段可转动地连接,第二管段上开设有周向出气口。
[0010]进一步地,第一管段与混合气进气筒段的底部安装口之间形成排渣口。
[0011]进一步地,第一管段的出气端设置有朝向该管段中心轴线的内扣钩,内扣钩的壁面上开设有第一限位凹槽;第二管段的进气口设置有与内扣钩勾挂配合的外扣钩,且第二管段的管壁上开设有第二限位凹槽;第一限位凹槽与第二限位凹槽之间设置有限位件。
[0012]进一步地,混合气进气筒段由安装口端向与反应筒段连接的端部呈渐扩设置。
[0013]进一步地,进气装置包括:进气管段,进气管段的第一端延伸出混合气进气筒段的外部;环形输气管段,环形输气管段位于混合气进气管段的混合气腔内,环形输气管段与进气管段连通,且环形输气管段上间隔地开设有多个出气口。
[0014]进一步地,进气装置包括:混合气环形输送管,混合气环形输送管位于混合气进气筒段的外侧,多个进气连接管,多个进气连接管间隔设置,多个进气连接管的第一端与混合气环形输送管连通,多个进气连接管的第二端延伸进混合气进气筒段的内部。
[0015]进一步地,气体分布装置包括:气体分布盘,气体分布盘与混合气进气筒段的内壁连接,气体分布盘上开设有多个螺纹通孔;出气结构,出气结构包括导气管件和导气螺母,导气管件的第一端与螺纹通孔螺接,导气螺母螺接在导气管件上,导气管件的第二端的管壁与导气螺母的内壁之间形成导气通道,且导气螺母上沿周向开设混合气导气口。
[0016]进一步地,气体分布盘为球冠形状,且气体分布盘的球冠表面朝向进气装置突出。
[0017]进一步地,气体分布盘的纵截面的轮廓形状为梯形,且气体分布盘向进气装置突出。
[0018]进一步地,气体分布盘的纵截面的轮廓形状为三角形,且三角形的一个顶角朝向进气装置。
[0019]进一步地,气体分布盘为平板形状。
[0020]进一步地,反应筒段的筒壁上还开设有反应段泄放口,反应段泄放口位于反应筒段的下端。
[0021]进一步地,反应筒段的筒壁上还开设有用于安装温度传感器的第一安装孔以及用于安装压力传感器的第二安装孔。
[0022]进一步地,反应筒段内安装有破泡栅网,反应段泄放口位于破泡栅网与混合气进气筒段之间。
[0023]进一步地,气固分离筒段的筒壁上还开设有用于泄放压力的压力泄放口。
[0024]进一步地,气固分离筒段与反应筒段之间还连接有锥形过渡段,锥形过渡段由气固分离筒段向反应筒段成渐缩设置。
[0025]根据本实用新型的另一方面,提供了一种多晶硅生产系统,多晶硅生产系统包括前述的氢化流化反应器。
[0026]应用本实用新型的技术方案,应用该氢化流化反应器对多晶硅生产过程中产生的四氯化硅副产物进行回收时,将四氯化硅与氢气的混合气体由进气装置输入,然后将固体物料从物料进料口送进并对固体物料进行流化,流化后的物料与混合气体进行氢化反应,从而生成三氯氢硅,再经至少一个旋风分离器进行气固分离之后输出并回收三氯氢硅。该氢化流化反应器能够对多晶硅生产过程中产生的四氯化硅进行氢化回收,在同一反应器的流程中完成四氯化硅的氢化过程,简化反应流程,降低四氯化硅的氢化回收难度。
【附图说明】
[0027]构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
[0028]图1示出了根据本实用新型的氢化流化反应器的第一实施例的结构示意图;
[0029]图2示出了图1中的A处放大结构示意图;
[0030]图3示出了图1的气体分布装置的结构示意图;
[0031]图4示出了图3的气体分布装置中的出气结构的结构示意图;
[0032]图5示出了本实用新型的氢化流化反应器的第一实施例中的气体分布器的另一种结构示意图;
[0033]图6示出了图1中旋风分离器的结构示意图;
[0034]图7示出了根据本实用新型的氢化流化反应器的第二实施例的结构示意图;
[0035]图8示出了图7中的进气装置的结构示意图;
[0036]图9示出了根据本实用新型的氢化流化反应器的第三实施例的结构示意图;
[0037I图10示出了图9中的进气装置的结构示意图。
[0038]其中,上述附图包括以下附图标记:
[0039]10、混合气进气筒段;11、进气装置;
[0040]m、第一管段;112、第二管段;
[0041]12、气体分布装置;121、气体分布盘;
[0042]122、出气结构;1221、导气管件;
[0043]1222、导气螺母;113、排渣口;
[0044]114、进气管段;115、环形输气管段;
[0045]116、混合气环形输送管;117、进气连接管;
[0046]20、反应筒段;21、物料进料口;
[0047]22、反应段泄放口;23、第一安装孔;
[0048]24、第二安装孔;30、气固分离筒段;
[0049]31、生成气出口;32、旋风分离器;
[0050]321、分离器过渡段;322、分离器锥段;
[0051 ] 323、分离器切向入口;324、分离器阀门;
[0052]33、压力泄放口;40、限位件;
[0053]50、破泡栅网;60、锥形过渡段。
【具体实施方式】
[0054]需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。
[0055]本实用新型的实施例中的固体物料优选为物料硅粉。
[0056]如图1所示,本实用新型的第一实施例提供了一种氢化流化反应器,该反应器内径范围是100mm至4500mm,其高径比为6:1至9:1,该氢化流化反应器包括顺序连接的混合气进气筒段10、反应筒段20和气固分离筒段30,反应筒段20中的进行氢化反应的氢化反应段的高度约为2000mm至15000mm,其中,混合气进气筒段10形成混合气腔,混合气腔处设置有用于输入混合气的进气装置11以及混合气腔内设置有气体分布装置12,气体分布装置12与混合气进气筒段10连接,且气体分布装置12位于反应筒段20与进气装置11之间的位置处,反应筒段20的筒壁上开设有物料进料口 21,气固分尚筒段30的筒壁上开设有生成气出口31,气固分离筒段30处设置有至少一个旋风分离器32,在本实施例中,旋风分离器32可以设置I个、2个、3个或2n(n 2 2)个,旋风分离器32的气体出口与生成气出口31相连通,优选地,生成气出口开设在气固分尚筒段30的底部。
[0057]应用该氢化流化反应器对多晶硅生产过程中产生的四氯化硅副产物进行回收时,将四氯化硅与氢气的混合气体由进气装置11输入,然后将固体物料从物料进料口送进并对固体物料进行流化,流化后的物料与混合气体进行氢化反应,从而生成三氯氢硅,再经至少一个旋风分离器32进行气固分离之后输出并回收三氯氢硅。该氢化流化反应器能够对多晶硅生产过程中产生的四氯化硅进行氢化回收,在同一反应器的流程中完成四氯化硅的氢化过程,简化反应流程,降低四氯化硅的氢化回收难度。
[0058]旋风分离器32可以内置在气固分离筒段30的内部,或者旋风分离器32的工作主体外置在气固分离筒段30的外部。在第一实施例中,优选地将旋风分离器32内置在气固分离筒段30的内部。
[0059]如图2所示,第一实施例的氢化流化反应器的进气装置11包括第一管段111和第二管段112,第一管段111的进气端沿混合气进气筒段10的底部安装口延伸至外部,从而将在生产多晶硅工艺过程中产生的含有气相四氯化硅的副产气体与氢气混合之后,由第一管段111的进气端输入。在第一实施例中,第一管段111与混合气进气筒段10的底部安装口之间形成排渣口 113。第二管段112与第一管段111可转动地连接,第二管段112上开设有周向出气口。当固体物料从物料进料口21输入,并经流化之后与从周向出气口输出的混合气体中的四氯化硅进行氢化反应,从而生成三氯氢硅以实现对多晶硅生产工艺中的副产物四氯化硅进行回收。在对固体物料进行流化过程中,存在少许固体物料未流化完全或氢化反应过程中生成了其他的无法溶解的固体渣料,这些固体物质沉淀至混合气进气筒段10的底部,然后从排渣口 113将这些固体渣料排放出去。
[0060]具体地,第一管段111的出气端设置有朝向该管段中心轴线的内扣钩,内扣钩的壁面上开设有第一限位凹槽,第二管段112的进气口设置有与内扣钩勾挂配合的外扣钩,且第二管段112的管壁上开设有第二限位凹槽,第一限位凹槽与第二限位凹槽之间设置有限位件40。内扣钩与外扣钩之间通过限位件40进行装配完成之后,第一管段111与第二管段112之间能够实现相对转动地连接,并且,第二管段112的远离第一管段111的端部的内表面设置为光滑表面,或者该端部的内表面设置为按一定规律和方向刻槽的粗糙面。在混合气输入的过程中,由于混合气具有流速和压力,因而混合气流向第二管段112的远离第一管段111的端部的内表面并能够使第二管段112相对与第一管段111旋转,然后混合气从周向出气口输出。转动的第二管段112能够调节混合气腔内的混合气分布均匀,并且,旋转的第二管段112能够对混合气腔内的混合气进行搅拌,进一步均匀混合气腔内的混合气分布。
[0061]限位件40可以限位钢圈,也可以是多个限位钢珠。第一管段111和第二管段112通过与限位件40之间的咬合,能够稳定限定第一管段111与第二管段112之间的相对位置,使得第二管段112相对于第一管段111转动时两者不会脱离。
[0062]在本第一实施例中,混合气进气筒段10由安装口端向与反应筒段20连接的端部呈渐扩设置。这样设置的混合气进气筒段10能够对落下的渣料进行聚拢收集,使得渣料能够集中地从排渣口 113排出。
[0063]如图1、图3和图4所不,第一实施例的气体分布装置12包括气体分布盘121和出气结构122,气体分布盘121与混合气进气筒段1的内壁连接,气体分布盘121上开设有多个螺纹通孔,出气结构122包括导气管件1221和导气螺母1222,导气管件1221的第一端与螺纹通孔螺接,导气螺母1222螺接在导气管件1221上,导气管件1221的第二端的管壁与导气螺母1222的内壁之间形成导气通道,且导气螺母1222上沿周向开设混合气导气口。多个螺纹通孔之间排列形成正三角形、正方形或者同心圆形等几何形状,孔与孔之间的间隔距离为50mm至250mm。进入气体分布装置12的混合气,先经过导气管件1221上的中心通气道中,然后该中心通气道进入导气通道,在由混合气导气口输入反应筒段20中。气体分布装置12能够保证混合气在反应筒段20横截面上分布均匀。
[0064]具体在本第一实施例中,气体分布盘121为球冠形状,且气体分布盘121的球冠表面朝向进气装置11突出。当然,还可选用平板式的气体分布盘。相比较而言,本第一实施例的球冠形状的气体分布盘121根据混合气上升速度的分布优于平板式的气体分布盘,因此,本第一实施例优选球冠形状的气体分布盘121。此外,如图5所不,第一实施例的气体分布盘121的纵截面的轮廓形状为梯形,且气体分布盘121向进气装置11突出。或者,气体分布盘121为平板形状,且平板形状的气体分布盘121横跨在混合气腔内。又或者,第一实施例的气体分布盘121的纵截面的轮廓形状为三角形,且三角形的一个顶角朝向进气装置11,当选用三角形气体分布盘121时,朝向进气装置11的顶角处开设开口,并在开口上安装连通管路,该连通管路由混合气进气筒段10的底部安装口延伸出外部,此时该连通管路与第一管段111并列地由安装口伸出,这样,该连通管路能够将气体分布盘121上方沉淀的渣料输出,并且,连通管路与安装口之间也形成排渣口 113。
[0065]本第一实施例中的气体分布装置12能够保证获得较高效率氢化反应所需的最佳混合气进气流场状态。
[0066]如图1所示,在本第一实施例中,反应筒段20的筒壁上还开设有反应段泄放口22,反应段泄放口22位于所述反应筒段20的下端。当反应筒段20内的液体过多时,可以通过该反应段泄放口 22放出,以减小反应筒段20内的储存压力。
[0067]具体地,本第一实施例的反应筒段20的筒壁上还开设有用于安装温度传感器的第一安装孔23以及用于安装压力传感器的第二安装孔24。在反应的过程中,通过温度传感器和压力传感器实时监控氢化流化反应器内的温度与压力,当氢化流化反应器内的温度、压力过高时,需要对反应器内部进行泄压,在本第一实施例中,气固分离筒段30的筒壁上还开设有用于泄放压力的压力泄放口 33。优选地,该压力泄放口 33开设在气固分离筒段30的顶部位置处(该氢化流化反应器是纵向放置的,混合气进气筒段10位于最下端,气固分离筒段30位于最上端,反应筒段20位于中间位置)。通过温度传感器以及压力传感器检测到的温度和压力,在氢化流化反应器内的压力过高时,通过该压力泄放口 33进行泄压操作,以保证氢化流化反应器内部的压力保持在正常压力范围内。
[0068]固体物料投入反应筒段20之后,固体物料被流化并与混合气体发生氢化反应,在固体料被流化与发生氢化反应的过程中,氢化流化反应器内产生气泡,为了防止气泡影响反应器内的氢化反应,以及避免气泡影响反应产物或渣料的输出,因此,反应筒段20内安装有破泡栅网50,反应段泄放口 22位于破泡栅网50与混合气进气筒段10之间。
[0069]在氢化反应生成三氯氢硅之后,氢化反应之后的混合生成气上升,为了能够提升混合生成气进入旋风分离器32的压力,因此,气固分离筒段30与反应筒段20之间还连接有锥形过渡段60,锥形过渡段60由气固分离筒段30向反应筒段20呈渐缩设置。筒锥形过渡段60使混合生成气的上升速度降低,而混合生成气的压力上升,从而混合生成气以较大的压力进入旋风分离器32进行分离操作。
[0070]如图1和图6所示,在旋风分离器32分离的过程中,混合生成气沿旋风分离器32的分离器切向入口 323进入旋风分离器32内部,气固混合物座向下的螺旋运动,依次经过分离器锥段322和分离器过渡段321,实现气固分离以后,混合生成气体沿旋风分离器32的气体出口向生成气出口31输送,从而输出生成气体。固体物料沿旋风分离器32的内壁面沉积到旋风分离器32最下端的长直管段中。当固体物料的重量积累超过分离器阀门324所承受的重量时,分离器阀门在固体物料重力的推动下开启(当然,分离器阀门324还可以采用动力控制开启或关闭的阀门),固体物料回落到反应筒段20中继续与四氯化硅和氢气的混合气体进行氢化反应(该分离器阀门324的开口位置设置在反应筒段20的上端部的上方,且稍高与反应筒段20为宜,大于高于反应筒段20上方的200mm至1500mm的高度处)。当固体物料从分离器阀门324输出之后,分离器阀门关闭,待到固体物料重量积累之后,再次打开,如此循环。旋风分离器32能够较好地分离出反应之后的气固混合物中固体和气体,气固分离之后,固体回收利用率高达99.9%。旋风分离器32的设置,大大提高了固体物料的利用率,简化了后续工艺处理要求,降低了后续工艺过程中对气固混合物进行分离提纯的难度。
[0071]如图7所示,其示出了本实用新型的氢化流化反应器的第二实施例的结构示意图。第二实施例与第一实施例相比较具有以下不同之处。进气装置11包括进气管段114和环形输气管段115。如图8所示,进气管段114的第一端延伸出混合气进气筒段10的外部,环形输气管段115位于混合气进气筒段10的混合气腔内,环形输气管段115与进气管段114连通,并且环形输气管段115上间隔地开设有多个出气口。为了能够使混合气从环形输气管段115中的出气口输出收在混合气腔内分布均匀,因此,多个出气口沿环形输气管段115呈圆周分布,并且每个出气口上均安装上喷气喷嘴,利用喷气喷嘴将混合气均匀喷向混合气腔。如图7所示,第二实施例的氢化流化反应器优选地采用三角形的气体分布盘121的气体分布装置
12。第二实施例与第一实施例相比,除上述不同之处外,其余结构均相同,因而在此不再赘述。
[0072]如图9和图10所示,其示出了本实用新型的第三实施例的氢化流化反应器的结构示意图。与第一实施例相比较,第三实施例具有以下不同之处。在第三实施例中,进气装置包括混合气环形输送管116和多个进气连接管117,其中,混合气环形输送管116位于混合气进气筒段10的外侧,多个进气连接管117间隔设置,并且多个进气连接管117沿圆周分布,多个进气连接管117的第一端与混合气环形输送管116连通,多个进气连接管117的第二延伸进混合气进气筒段10的混合气腔内。在第三实施例中,气体分布盘121采用球冠形状的气体分布装置12。并且,第三实施例中的混合气进气筒段10的底部安装口形成了排渣口 113。第三实施例与第一实施例相比较,除上述不同之处外,其余结构均相同,因而在此不再赘述。
[0073]根据本实用新型的另一方面,提供了一种多晶硅生产系统,该多晶硅生产系统包括前述的氢化流化反应器。
[0074]以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种氢化流化反应器,其特征在于,包括顺序连接的混合气进气筒段(10)、反应筒段(20)和气固分离筒段(30),其中, 所述混合气进气筒段(10)形成混合气腔,所述混合气腔处设置有用于输入混合气的进气装置(11)以及所述混合气腔内设置有气体分布装置(12),所述气体分布装置(12)与所述混合气进气筒段(10)连接,且所述气体分布装置(12)位于所述反应筒段(20)与所述进气装置(11)之间的位置处; 所述反应筒段(20)的筒壁上开设有物料进料口( 21); 所述气固分离筒段(30)的筒壁上开设有生成气出口(31),所述气固分离筒段(30)处设置有至少一个旋风分离器(32),所述旋风分离器(32)的气体出口与所述生成气出口(31)相连通。2.根据权利要求1所述的氢化流化反应器,其特征在于,所述进气装置(11)包括: 第一管段(111),所述第一管段(111)的进气端沿所述混合气进气筒段(10)的底部安装口延伸出外部; 第二管段(112),所述第二管段(112)与所述第一管段(111)可转动地连接,所述第二管段(112)上开设有周向出气口。3.根据权利要求2所述的氢化流化反应器,其特征在于,所述第一管段(111)与所述混合气进气筒段(10)的底部安装口之间形成排渣口(113)。4.根据权利要求2所述的氢化流化反应器,其特征在于, 所述第一管段(111)的出气端设置有朝向该管段中心轴线的内扣钩,所述内扣钩的壁面上开设有第一限位凹槽; 所述第二管段(112)的进气口设置有与所述内扣钩勾挂配合的外扣钩,且所述第二管段(112)的管壁上开设有第二限位凹槽; 所述第一限位凹槽与所述第二限位凹槽之间设置有限位件(40)。5.根据权利要求2所述的氢化流化反应器,其特征在于,所述混合气进气筒段(10)由所述安装口端向与所述反应筒段(20)连接的端部呈渐扩设置。6.根据权利要求1所述的氢化流化反应器,其特征在于,所述进气装置(11)包括: 进气管段(114),所述进气管段(114)的第一端延伸出所述混合气进气筒段(10)的外部; 环形输气管段(115),所述环形输气管段(115)位于所述混合气进气筒段(10)的混合气腔内,所述环形输气管段(115)与所述进气管段(114)连通,且所述环形输气管段(115)上间隔地开设有多个出气口。7.根据权利要求1所述的氢化流化反应器,其特征在于,所述进气装置(11)包括: 混合气环形输送管(116),所述混合气环形输送管(116)位于所述混合气进气筒段(10)的外侧; 多个进气连接管(117),多个所述进气连接管(117)间隔设置,多个所述进气连接管(117)的第一端与所述混合气环形输送管(116)连通,多个所述进气连接管(117)的第二端延伸进所述混合气进气筒段(10)的混合气腔内。8.根据权利要求1所述的氢化流化反应器,其特征在于,气体分布装置(12)包括: 气体分布盘(121),所述气体分布盘(121)与所述混合气进气筒段(1)的内壁连接,所述气体分布盘(121)上开设有多个螺纹通孔; 出气结构(122),所述出气结构(122)包括导气管件(1221)和导气螺母(1222),所述导气管件(1221)的第一端与所述螺纹通孔螺接,所述导气螺母(1222)螺接在所述导气管件(1221)上,所述导气管件(1221)的第二端的管壁与所述导气螺母(1222)的内壁之间形成导气通道,且所述导气螺母(1222)上沿周向开设混合气导气口。9.根据权利要求8所述的氢化流化反应器,其特征在于,所述气体分布盘(121)为球冠形状,且所述气体分布盘(121)的球冠表面朝向所述进气装置(11)突出。10.根据权利要求8所述的氢化流化反应器,其特征在于,所述气体分布盘(121)的纵截面的轮廓形状为梯形,且所述气体分布盘(121)向所述进气装置(11)突出。11.根据权利要求8所述的氢化流化反应器,其特征在于,所述气体分布盘(121)的纵截面的轮廓形状为三角形,且所述三角形的一个顶角朝向所述进气装置(11)。12.根据权利要求8所述的氢化流化反应器,其特征在于,所述气体分布盘(121)为平板形状。13.根据权利要求1所述的氢化流化反应器,其特征在于,所述反应筒段(20)的筒壁上还开设有反应段泄放口( 22),所述反应段泄放口( 22)位于所述反应筒段(20)的下端。14.根据权利要求13所述的氢化流化反应器,其特征在于,所述反应筒段(20)的筒壁上还开设有用于安装温度传感器的第一安装孔(23)以及用于安装压力传感器的第二安装孔(24)。15.根据权利要求13所述的氢化流化反应器,其特征在于,所述反应筒段(20)内安装有破泡栅网(50),所述反应段泄放口(22)位于所述破泡栅网(50)与所述混合气进气筒段(10)之间。16.根据权利要求1所述的氢化流化反应器,其特征在于,气固分离筒段(30)的筒壁上还开设有用于泄放压力的压力泄放口(33)。17.根据权利要求16所述的氢化流化反应器,其特征在于,所述气固分离筒段(30)与所述反应筒段(20)之间还连接有锥形过渡段(60),所述锥形过渡段(60)由所述气固分离筒段(30)向所述反应筒段(20)成渐缩设置。18.—种多晶硅生产系统,其特征在于,所述多晶硅生产系统包括权利要求1至17中任一项所述的氢化流化反应器。
【文档编号】C01B33/107GK205527778SQ201620071808
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2016年1月25日
【发明人】石涛, 姚心, 汪绍芬, 严大洲, 张升学
【申请人】中国恩菲工程技术有限公司
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