专利名称：利用氟化酮作为蒸汽反应器的湿清洗剂的制作方法
技术领域：
本发明涉及将氟化酮用作蒸汽反应器和蒸汽反应器部件的湿清洗剂。
背景技术：
温室效应气体的排放受到了全世界的关注。在联合国有关全球变暖会议上制定的Kyoto协议，其目标就在于降低二氧化碳、甲烷、一氧化氮、全氟碳(PFC)、氢氟碳(HFC)以及SF6的排放，使其达到1990年前的水平。另外，美国大部分半导体生产商已经与环境保护机构签订了理解备忘录，决心评估各种减少PFC排放的可供选择的方案。
化学蒸汽沉积室，物理蒸汽沉积室以及蚀刻室广泛用于与生产各种电子设备与元件相关的半导体行业中。这类室使用活性气体或蒸气来沉积、装饰或除去各种绝缘材料及金属材料。随着时间的推移，不希望的沉积物，尤其是含有碳、氟、氢和氧原子的含氟聚合物，不可避免地沉积在该室的壁上和部件上。在室内制造产品时，这些沉积物是潜在的污染物来源，必需周期性地将其除去。全氟碳气体如C2F6和C3F8以及全氟化的含氮化合物如NF3已被广泛用于沉积室的原位等离子清洗。然而，这些气态物质是非常稳定的化合物，它们会造成全球变暖，且难以用气体洗涤器捕获(trap)或处理。
可以用各种液态化学制剂清洗所述室的壁和部件。通常使用的液态清洗剂包括水，各种烃如丙酮或异丙醇，和各种含氟化学制剂如全氟碳，氢氟碳，以及氢氟醚(hydrofluoroether)。水和烃不易解决含氟聚合物残余物。此外，水需要很长的干燥时间，而烃是可燃的；这些都是不希望清洗剂具有的性质。一些含氟化学制剂有可能促使全球变暖趋势，这是不希望清洗剂具有的另一个性质。
本发明提供了用含有氟化酮的液态清洗剂除去化学蒸汽沉积室、物理蒸汽沉积室以及蚀刻室的壁或部件上沉积物的方法。本发明的氟化酮与通常用于半导体工业的液态全氟化学制剂有相同的作用，但对全球变暖趋势的影响小。
发明内容
本发明提供了用含有具有5-10个碳原子的氟化酮化合物的液态清洗剂清洗化学蒸汽沉积室、物理蒸汽沉积室以及蚀刻室的壁或部件的方法。所述清洗剂可以是全氟酮，该化合物中碳主链上所有的氢原子都被氟替代。或者，所述氟化酮清洗剂可含有最多两个氢原子和最多两个非氟卤原子，包括溴、氯和碘，连在碳主链上。一个或更多杂原子可打断分子的碳主链。所述清洗剂还可含有可与所述氟化酮混合的辅助卤化物。所述辅助卤化物优选氢氟醚。所述清洗剂可以擦、喷、浸的方式使用。
发明实施方式的详细说明本发明提供了用含有氟化酮化合物的液态清洗剂清洗化学蒸汽沉积室、物理蒸汽沉积室的方法、以及蚀刻室的方法，所述氟化酮化合物含有5-10个碳原子，优选含有6-8个碳原子。所述氟化酮通常在室温下是液体，其沸点高达150℃。所述氟化酮优选全氟酮。
这里使用的术语“蒸汽反应器”包括化学蒸汽沉积室、物理蒸汽沉积室以及蚀刻室。这类室使用活性气体或蒸汽沉积、装饰或除去各种绝缘材料及金属材料。蒸汽反应器被广泛用于半导体工业，用于制造各种电子设备和组件。通常，气态全氟碳如CF4、C2F6和C3F8被用来蚀刻各种绝缘材料和金属材料。所述全氟碳通常与氧气混合物，并产生了射频等离子体，这导致了各种残余物如氟、二氟化碳、三氟化碳等的形成。这些残余物会进一步反应生成各种含氟聚合物。这些含氟聚合物和加工过程的各种其它副产品一起沉积在反应器的壁和部件上。这些副产品包括，例如，硅基残余物和金属残余物，如钨、铝等。蒸汽反应器需要周期性地清洗以除去含氟聚合物和其它残余物以避免污染所制造的产品。
传统的除去沉积物的方法是使用各种液态清洗剂。所用液态清洗剂通常包括水，各种烃如丙酮或异丙醇，和各种含氟化学制剂如全氟碳，氢氟碳，以及氢氟醚(hydrofluoroether)。水和烃不易溶解含氟聚合物残余物。此外，水需要很长的干燥时间，而烃是可燃的；这些都是不希望清洗剂具有的性质。本发明提供了避免这些不希望有的特性的另一种方法，这种方法与现有技术相比至少对环境更加友好。可用含有5-10个碳原子的液态氟化酮清洗剂溶解沉积在反应器的壁和部件上的含氟聚合物和其它残余物。这种清洗蒸汽反应器的方法可部分或完全替代常规的使用气态全氟化碳的清洗过程。这里所用的术语“清洗”是指除去随着时间的推移而沉积在反应器的壁和部件上的不需要的沉积物。
本发明的氟化酮通常共有5-10个碳原子，优选有6-8个碳原子。所述清洗剂可以是全氟酮，该化合物中碳主链上所有的氢原子都被氟替代。或者，所述氟化酮清洗剂可含有最多两个氢原子和最多两个非氟卤原子，包括溴、氯和碘，连在碳主链上。
适用于作为清洗剂的的全氟酮化合物的代表性的实例包括CF3(CF2)5C(O)CF3，CF3C(O)CF(CF3)2，CF3CF2CF2C(O)CF2CF2CF3，CF3CF2C(O)CF(CF3)2，(CF3)2CFC(O)CF(CF3)2，(CF3)2CFCF2C(O)CF(CF3)2，(CF3)2CF(CF2)2C(O)CF(CF3)2，(CF3)2CF(CF2)3C(O)CF(CF3)2，CF3(CF2)2C(O)CF(CF3)2，CF3(CF2)3C(O)CF(CF3)2，CF3(CF2)4C(O)CF(CF3)2，CF3(CF2)5C(O)CF(CF3)2，CF3CF2C(O)CF2CF2CF3，全氟环戊酮以及全氟环己酮。
碳主链上带有一个或两个非氟原子的氟化酮的实例包括CHF2CF2C(O)CF(CF3)2，CF3C(O)CH2C(O)CF3，(CF3)2CFC(O)CF2Cl，CF2ClCF2C(O)CF(CF3)2，CF2Cl(CF2)2C(O)CF(CF3)2，CF2Cl(CF2)3C(O)CF(CF3)2，CF2Cl(CF2)4C(O)CF(CF3)2，CF2Cl(CF2)5C(O)CF(CF3)2以及CF2ClCF2C(O)CF2CF2CF3。
氟酮类化合物还可以含有一种或多种杂原子隔断碳主链。合适的杂原子包括氮、氧以及硫原子。代表性的化合物包括CF3OCF2CF2C(O)CF(CF3)2，CF3OCF2C(O)CF(CF3)2等。
可以使用已知的方法制备氟酮类化合物。一种方法是使用美国专利No.5,466,877(Moore)中所述的用亲核引发剂离解分子式为RfCO2CF(Rf’)2的全氟代羧酸酯。Rf与Rf’是氟或全氟烷基。氟代羧酸酯前体可以通过使用美国专利No.5,399,718(Costello等人能)中所述的氟气体直接氟化相应的无氟或部分氟代的烃酯得到。
在α位以支链形式连接到羰基上的全氟代酮可以按照美国专利No.3,185,734(Fawcett等人)中所述的方法制备。在无水条件并有氟化物离子的存在下，在酰卤中加入六氟丙烯。通过蒸馏可以将少量的六氟丙烯二聚物以及/或者三聚物杂质从全氟酮中除去。若沸点太近无法分馏，则可以在合适的有机溶剂如丙酮、醋酸或它们的混合物中使用碱金属高锰酸盐氧化除去二聚物以及/或者三聚物杂质。氧化反应一般在常温或高温下在密闭反应器中进行。
按照美国专利No.4,136,121(Martini等人)中所述，将全氟羧酸碱金属盐与全氟羰基酸氟化物反应可以制备线型全氟代酮。这类酮也可以按照美国专利No.5,998,671(Van Der Puy)中所述，将全氟羧酸盐与全氟代酸酐在惰性溶剂中在高温下反应制备。
所述氟化酮清洗剂可单独使用，也可与另一种氟化酮组合使用，或者与一种或多种可与所述氟化酮混合的辅助清洗剂联合使用。所述辅助清洗剂通常是卤化物，例如包括氢氟碳、氢氯氟碳、全氟碳、全氟聚醚、氢氟醚、氢氟聚醚、氢氯氟醚、氟化芳香族化合物、氯氟碳、含溴氟碳、溴氯氟碳、氢溴碳、碘氟碳和氢溴氟碳。辅助清洗剂的例子包括C5F11H、C6F13H、C4F9OCH3、C4F9OC2H5、C3F7CF(OC2H5)CF(CF3)2、CF3CH2CF2CH3、CF3CFHCFHCF2CF3、C6F14、C7F16、C8F18、(C4F9)3N、全氟-2-丁基四氢呋喃、全氟-N-甲基吗啉、HCF2O(CF2O)n(CF2CF2O)mCF2H(其中n为0-2、m为0-5，n和m的和至少为1)、C3F7I、苯并三氟、反-1，2-二氯乙烯等。所述辅助清洗剂优选氢氟醚，如C4F9OCH3、C4F9OC2H5、C3F7CF(OC2H5)CF(CF3)2等。
例如，所述氟化酮清洗剂可以擦、喷以及通过浸泡或浸渍来浸没所述部件的方式使用。所述清洗剂可与惰性推进剂如氮气、氩气或二氧化碳组合并以将清洗剂用于需要清洗的特定表面。所述清洗剂可在室温或较高温度(如高至150℃)下使用。
本发明的全氟酮的温室效应的可能性(GWP)比半导体行业中使用的传统的全氟烃低得多。这里所用的“GWP”是以所述化合物的结构为基础测量的化合物温室效应的相对值。由1990年提出并在1998年(World Meteorological Organization，Scientific Assessment of Ozone Depletion1998，Global Ozone Research andMonitoring Project-Report No.44，Geneva，1999)修订的IntergovernmentalPanel on Climate Change(IPCC)所定义的化合物的GWP，计算的是在特定的积分时间范围(ITH)内，1千克化合物释放的热量与1千克CO2释放的热量的相对值GWPx(t′)=∫0ITHFxC0xe-t/τxdt∫0ITHFCO2CCO2(t)dt]]>其中，F是每单位质量化合物的辐射力(由于化合物的IR吸收，通过大气的辐射通量的变化)，C是化合物的常压浓度，τ是化合物的常压连续操作时间，t是时间，x涉及的化合物(即，C0x是时间为0时化合物x的初始浓度)。
一般可接受的ITH是100年，这是处于短期效应(20年)与长期效应(500年或更长)之间的折衷值。假定常压下有机化合物的浓度遵循准一级动力学(即，指数衰减)。由于要与大气交换或从大气中除去CO2，同一时间间隔内CO2的浓度要采用更复杂的模型(Bern碳循环模型)。
在300nm处进行光解研究，CF3CF2C(O)CF(CF3)2的常压连续操作时间约为5天。其它全氟酮类具有类似的吸收，因此可以预见具有类似的常压连续操作时间。根据Pinnock等人(J.Geophys.Res.，100，23227，7995)的方法，使用被测IR截面来计算CF3CF2C(O)CF(CF3)2的辐射力值。利用这一辐射力值以及5天的常压连续操作时间，带有6个碳原子的全氟酮的GWP(100年ITH)为1，而C2F6的GWP为11,400。本发明的全氟酮GWP一般小于10。由于它们在低压下会快速分解，因此全氟酮的连续操作时间短并且可以预计它们对全球变暖不会有显著的影响。
另外，全氟酮毒性低。例如，对老鼠的短期吸入测试说明CF3CF2C(O)CF(CF3)2具有较低的急性毒性。在空气中进行4小时暴露测试发现，CF3CF2C(O)CF(CF3)2的LC50浓度为100,000ppm。该毒性可与半导体工业中目前用作清洁剂的全氟碳的毒性不相上下。
下列实施例进一步说明了使用全氟酮作为蚀刻剂的方法。所述实施例是作为例证来帮助理解本发明的，而不应理解成限制本发明。除非另行规定，所有百分比都是指重量百分比。
实施例供评估的有机氟化合物的制备及来源CF3CF2C(O)CF(CF3)2-1，1，1，2，4，4，5，5，5-非氟代-2-三氟甲基-戊-3-酮在装有搅拌器、加热器及热电偶的清洗干燥的600mL Parr反应器中，加入5.6g(0.10mol)无水氟化钾(从Sigma Aldrich Chemical Co.，Milwaukee，WI获得)以及250g无水二甘醇二甲醚(无水二甘醇二甲基醚，从Sigma Aldrich ChemicalCo.Milwaukee，WI获得)。本合成以及所有接下来的合成中所使用的无水氟化钾在使用前都经过喷雾干燥、在125℃存放以及进行短暂研磨。搅拌反应器中的化合物，同时向密闭的反应器中加入21.0g(0.13mol)C2F5COF(纯度约为95.0％，从3M公司，St.Paul，MN获得)。接着将反应器及反应器内的化合物加热，温度达到70℃时，在3.0小时内加入147.3g(0.98mol)CF2＝CFCF3(六氟丙烯，从Sigma AldrichChemical Co.获得)及163.3g(0.98mol)C2F5OF的混合物。在加入六氟丙烯及C2F5COF的混合物的过程中，将压力维持在低于95psig(7500托绝对值)。在加入六氟丙烯快结束时，压力为30psig(2300托)，并在45分钟的持续期内维持不变。使反应物冷却并进行单板蒸馏，由蒸汽色谱测试，得到含有90.6％的1，1，1，2，4，4，5，5，5-非氟代-2-三氟甲基-丁-3-酮与0.37％的C6F12(六氟丙烯二聚物)的307.1g产物。对粗制氟化酮进行水洗、蒸馏、并通过与二氧化硅凝胶接触使其干燥，从而得到纯度为99％并含有0.4％的六氟丙烯二聚物的经精馏的氟化酮。
按照上述说明得到的经精馏的氟化酮采用下列过程提片，以除去六氟丙烯二聚物。在装有搅拌器、加热器及热电偶的清洗干燥的600mL Parr反应器中加入61g醋酸，1.7g高锰酸钾以及301g上述经精馏的1，1，1，2，4，4，5，5，5-非氟代-2-三氟甲基-丁-3-酮。将反应器密封，加热至60℃，一边搅拌一边使压力达到12psig(1400托)。在60℃搅拌75分钟后，使用计量管汲取液体样品，将样品分相并用水洗涤下层相。用glc分析样品，结果显示未测出六氟丙烯二聚物及测出少量六氟丙烯三聚物。60分钟后，取第二个样品并以类似方法处理。第二个样品的glc分析结果显示未测出二聚物或三聚物。反应在3.5小时后停止，经提纯的酮从醋酸中分相，用水洗涤下层相两次。收集到261g酮，通过glc分析显示类纯度大于99.6％，并且不含可检测到的六氟丙烯二聚物或三聚物。
n-C3F7C(O)CF(CF3)2-1，1，1，2，4，4，5，5，6，6，6-十一氟-2-三氟甲基己-3-酮在装有搅拌器、加热器及热电偶的清洗干燥的600mL Parr反应器中加入5.8g(0.10mol)无水氟化钾以及108g无水二甘醇二甲醚。搅拌反应器中的反应物并用干冰冷却，同时向密闭的反应器中加入232.5g(1.02mol)n-C3F7COF(从3M Co.获得，纯度约为95.0％)。接着将反应器及反应器内的化合物加热，温度达到72℃时，在85psig(5150托)的压力下，并在3.25小时内加入141g(0.94mol)六氟丙烯。在加入六氟丙烯的过程中，将反应器的温度缓慢升温至85℃，同时将压力维持在低于90psig(5400托)。在加入六氟丙烯快结束时，压力为40psig(2800托)，并在附加的4小时的持续期内维持不变。将下层相分馏得到243.5g1，1，1，2，4，4，5，5，6，6，6-十一氟-2-三氟甲基己-3-酮，其沸点为72.5℃，根据蒸汽色谱测试，其纯度为99.9％。其结构由蒸汽色谱及质谱(GCMS)证实。
CF3(CF2)5C(O)CF3-1，1，1，3，3，4，4，5，5，6，6，7，7，8，8，8-十六氟辛-2-酮按照美国专利No.5,488,142(Fall等人)中所述，通过直接氟化将1052mL醋酸-2-辛酯转化为全氟化酯。得到的全氟化酯用甲醇处理，使其转化为半缩酮，从而可蒸馏除去反应溶剂。将所得到的1272g半缩酮缓慢地加入到1200mL浓硫酸中，所得的反应混合物再经分馏，得到1554.3g 1，1，1，3，3，4，4，5，5，6，6，7，7，8，8，8-十六氟辛-2-酮，其沸点为97℃，根据核磁共振波谱仪测试，其纯度为98.4％。
CF3OCF2CF2C(O)CF(CF3)2-1，1，2，2，4，5，5，5-八氟-1-三氟甲氧基-4-三氟甲基戊-3-酮向清洁干燥的600mL Parr反应器中加入11.6g(0.20mol)无水氟化钾以及113.5g无水二甘醇二甲醚。搅拌反应器中的反应物并用干冰冷却，接着用隔离真空向密闭反应器中加入230g(0.96mol)CF3OCF2CF2COF(从3M公司获得，纯度约为97％)。使反应器温度维持在80℃，压力维持在80psig(4900托)，在3.5小时内逐步向反应器中加入154g(1.03mol)六氟丙烯。再进行一小时的反应后，在分馏前，通过蒸馏及相分离从反应混合物中回收产物，得到100g 1，1，2，2，4，5，5，5-八氟-1-三氟甲氧基-4-三氟甲基戊-3-酮，其沸点为77℃，由蒸汽色谱测定其纯度为99.8％。其结构由蒸汽色谱及质谱证实。
ClCF2C(O)CF(CF3)2-1-氯-1，1，3，4，4，4-六氟-3-三氟甲基-丁-2-酮向清洁干燥的600mL Parr压力反应器中加入53.5g(0.92mol)无水氟化钾、150g无水二甘醇二甲醚、以及150g氯化二氟乙酸酐。将反应器的温度设定在80℃，压力设定在92psig(5500托)，在贮槽压力不超过120psig(7000托)的条件下在3小时内向反应器中加入123g(0.820mol)六氟丙烯。在80℃反应0.5小时后，将反应物冷却并蒸馏得到180.6g粗料。分馏时，对粗料再进行醋酸/KMnO4处理并进行分馏，得到46.1g(理论产率26％)(CF3)2CFC(O)CF2Cl透明无色液体，由蒸汽色谱测定纯度为98.8％。
(CF3)2CFC(O)CF(CF3)2-1，1，1，2，4，5，5，5，6，6，6-八氟-2，4，-双(三氟甲基)戊-3-酮在清洁干燥的600mL Parr压力反应器中加入8.1g(0.14mol)无水氟化钾，216g(0.50mol)全氟(异丁酸异丁酯)(按美国专利5,399,718(Costello等)中所述，将异丁酸异丁酯与氟气反应制得)，以及200g无水二甘醇二甲醚。将反应器冷却至0℃以下后，在得到的混合物中加入165g(1.10mol)六氟丙烯。使反应器中的反应物在70℃时边搅拌边反应过夜，再将反应器冷却，并将反应器中多余的压力放空到大气中。接着将反应器中的反应物分相得到362.5g下层相。保留下层相并与前述类似反应中得到的下层相混合。向604g含有22％的全氟异丁酰基氟化物及197g(1.31mol)六氟丙烯的累积下层相中加入8g(0.1mol)无水氟化钾以及50g无水二甘醇二甲醚，得到的混合物按前述相同方式在Parr反应器中反应。这次得到847g下层相，其中含有54.4％的所需要材料，以及仅为5.7％的全氟异丁酰基氟化物。接着将下层相用水清洗，并使用无水硫酸镁干燥，分馏得到359g1，1，1，2，4，5，5，5，6，6，6-八氟-2，4，-双(三氟甲基)戊-3-酮，由蒸汽色谱及质谱(“gcms”)测试，其纯度为95.2％(其理论产率为47％)，沸点为73℃。
CF3(CF2)5C(O)CF(CF3)2-1，1，1，2，4，4，5，5，6，6，7，7，8，8，9，9，9-十七氟-2-三氟甲基-壬-3-酮在2加仑(7.6L)的不锈钢搅拌压力容器中加入含有2027g三氟醋酸十五氟庚酯(如美国专利No.5,399,718(Costello等人)中所述，将乙酸庚酯与氟气反应得到)、777g 3MTMPF-5052功能液体(全氟化溶剂的混合物，从3M公司获得)、3171g无水二甘醇二甲醚、以及79g无水氟化钾的混合物。加热该容器，并在2小时内加入1816g六氟丙烯，同时维持反应温度在50℃左右。六氟丙烯加完后，将容器再在50℃继续维持1.5小时。冷却反应器并滤干。得到的液体分相，将下层相分馏得到565g沸点为25℃，纯度为95％的1，1，2，4，4，4-七氟-3-三氟甲基-丁-2-酮，以及1，1，1，2，4，4，5，5，6，6，7，7，8，8，9，9，9-十七氟-2-三氟甲基-壬-3-酮，其沸点为134℃，根据蒸汽色谱及质谱测试，其纯度为98.5％。
C4F9OCH3-全氟丁基甲醚3MTMNOVECTMHFE-7100专用液体(获自3M公司，St.Paul，MN)。
C4F9OC2H5-全氟丁基乙醚3MTMNOVECTMHFE-7200专用液体(获自3M公司)。
C3F7CF(OC2H5)CF(CH3)2-3-乙氧基-全氟(2-甲基己烷)3MTMNOVECTMHFE-7500专用液体(获自3M公司)。
实施例1和对比例C1-C3在实施例1中，评价了作为湿清洗剂的全氟碳CF3CF2C(O)CF(CF3)2对于除去沉积在石英气体分配板工具上的含氟聚合物的效果，上述工具取自通常用来制造8英寸(20厘米)薄片(wafer)的P-5000型蚀刻室(获自Applied Materials，SantaClara，CA)。
在每次评价时，对附有聚合物的工具施加约500mL湿的清洗剂，将此工具在室温下浸泡。浸泡30分钟后，用干净的室内擦拭物(clean room wipe)(获自Texwipe，Saddle River，NJ)，通过温和地手工擦拭(即对此工具在垂直方向施加非常小的力5分钟)除去聚合物，擦去了约1/8英寸(0.3厘米)厚的聚四氟乙烯层。浸泡30分钟后，大约除去了一半的聚合物沉积物。在再浸泡30分钟后(总共60分钟)，所有的聚合物沉积物基本上都通过擦拭除去了。
在对比例C1-C3中，按实施例1所述进行基本上同样的评价过程，只是CF3CF2C(O)CF(CF3)2分别被替换为C4F9OCH3、C4F9OC2H5和C3F7CF(OC2H5)CF(CH3)2。浸泡60分钟后，用C4F9OCH3、C4F9OC2H5和C3F7CF(OC2H5)CF(CH3)2溶剂除去了几乎所有的聚合物沉积物(此时，在浸泡30分钟后没有进行擦拭)。
实施例2-8在实施例2-8中，评价了以下在室温时作为湿清洗剂的氟化酮类n-C3F7C(O)CF(CF3)2(实施例2)、CF3(CF2)5C(O)CF3(实施例3)、CF3OCF2CF2C(O)CF(CF3)2(实施例4)、ClCF2C(O)CF(CF3)2(实施例5)、(CF3)2CFC(O)CF(CF3)2(实施例6)、CF3(CF2)5C(O)CF(CF3)2(实施例7)和CF3CF2C(O)CF(CF3)2(实施例8-使用与实施例1中相同的酮)。评价每种酮清洗被来自常规操作的含氟聚合物污染的净化室气体喷头的能力(被污染的喷头获自Tokyo Electron有限公司，东京，日本)。除ClCF2C(O)CF(CF3)2外每次清洗实验用约20mL各种溶剂来清洗，而在ClCF2C(O)CF(CF3)2的情况下，由于溶剂的挥发性高，因此要使用40ml溶剂。将每个被污染的气体喷头部分浸在实验用氟化酮溶剂中约5分钟，然后如实施例1所述，用干净的室内擦拭物温和地用手工擦拭去1/8英寸(0.3厘米)厚的聚四氟乙烯层。由于每种情况下聚合物的去除都有些困难，将各个被污染的喷头在试验用氟化酮溶剂中再浸泡5分钟(总共浸泡10分钟)，然后再擦拭。此时，用所有的氟化酮实验溶剂都很容易从被污染的喷头上除去含氟聚合物。
实施例9-10进一步评价CF3CF2C(O)CF(CF3)2在40℃(实施例9)以及略低于其沸点的温度下(实施例10)时作为清洗剂的效果。除去聚合物的速度随着溶剂温度的升高而加快。
上述详细说明可以很明显的看出，可以在不偏离本发明的精神及范围的前提下修改本发明的方法。因此，其意图是所有不偏离本发明精神的，修改及变动都在权利要求书及相当说明的范围之内。
权利要求
1.清洗蒸汽反应器的方法，所述方法包括采用含有液态氟化酮的清洗剂，所述氟化酮含有5-10个碳原子和最多两个氢原子。
2.如权利要求1所述的方法，其中，所述氟化酮含有5-7个碳原子。
3.如权利要求1所述的方法，其中，所述氟化酮还含有最多两个选自氯、溴、碘以及它们的混合物的卤原子。
4.如权利要求1所述的方法，其中，所述氟化酮还含有一个或多个中断碳原子的杂原子，所述杂原子选自氧、氮和硫。
5.如权利要求1所述的方法，其中，所述氟化酮是全氟酮。
6.如权利要求5所述的方法，其中，所述全氟酮选自CF3CF2C(O)CF(CF3)2，CF3C(O)CF(CF3)2，(CF3)2CFC(O)CF(CF3)2，CF3(CF2)2C(O)CF(CF3)2，CF3OCF2CF2C(O)CF(CF3)2，全氟环戊酮，全氟环己酮，CF3CF2C(O)CF2CF2CF3，CF3OCF2CF2C(O)CF(CF3)2，CF3OCF2C(O)CF(CF3)2以及它们的混合物。
7.如权利要求1所述的方法，其中，所述氟化酮是n-C3F7C(O)CF(CF3)2。
8.如权利要求1所述的方法，其中，所述氟化酮是CF3C(O)(CF2)5CF3。
9.如权利要求1所述的方法，其中，所述氟化酮是CF3OCF2CF2C(O)CF(CF3)2。
10.如权利要求1所述的方法，其中，所述氟化酮是ClCF2C(O)CF(CF3)2。
11.如权利要求1所述的方法，其中，所述氟化酮是(CF3)2CFC(O)CF(CF3)2。
12.如权利要求1所述的方法，其中，所述氟化酮是CF3(CF2)5C(O)CF(CF3)2。
13.如权利要求1所述的方法，其中，所述氟化酮是CF3CF2C(O)CF(CF3)2。
14.如权利要求1所述的方法，其中，所述清洗剂还含有选自氢氟碳、氢氯氟碳、全氟碳、全氟聚醚、氢氟醚、氢氟聚醚、氢氯氟醚、氟化芳香族化合物、氯氟碳、溴氟碳、溴氯氟碳、氢溴碳、碘氟碳、氢溴氟碳以及它们的混合物的辅助清洗剂。
15.如权利要求14所述的方法，其中，所述辅助清洗剂是氢氟醚。
16.如权利要求15所述的方法，其中，所述氢氟醚选自C4F9OCH3、C4F9OC2H5、C3F7CF(OC3H5)CF(CH3)2以及它们的混合物。
17.如权利要求1所述的方法，其中，所述氟化酮的沸点高达150℃。
全文摘要
采用含有氟化酮的液态清洗剂清洗蒸汽反应器的方法，所述氟化酮中约有5－10个碳原子和至多两个氢原子。所述氟化酮对全球变暖趋势的影响小。
文档编号C07C45/00GK1505693SQ02808779
公开日2004年6月16日 申请日期2002年2月12日 优先权日2001年4月24日
发明者S·克萨里, S 克萨里 申请人:3M创新有限公司