充电构件、处理盒、电子照相设备和充电构件的生产方法
【专利摘要】本发明提供一种充电构件和其制造方法，所述充电构件通过改进充电能力能够改进特别是正重影，并且能够长期维持对调色剂和外部添加剂等的耐附着性。所述充电构件包括导电性支承体、导电性弹性层和表面层，其特征在于所述表面层包括在其分子结构中具有Si-O-Ti键的高分子化合物，并且所述高分子化合物具有由式(1)、式(2)和式(3)表示的特定构成单元。式(1)：式(2)：TiO4/2式(3)：。
【专利说明】充电构件、处理盒、电子照相设备和充电构件的生产方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及在电子照相设备中使用的充电构件和制造所述充电构件的方法、处理盒和电子照相图像形成设备。
【背景技术】
[0002]抵接电子照相感光构件以将电子照相感光构件充电的充电构件一般形成为具有含橡胶的弹性层，以便可以充分且均匀地确保电子照相感光构件和充电构件之间的抵接辊隙。
[0003]近年来，电子照相图像形成设备已开始要求额外的耐久性改进。为了实现所述改进，要求其充电构件长期发挥稳定的充电性能。作为即使在长期重复使用之后也能抑制调色剂或外部添加剂向其表面的固着并长期显示稳定的充电性能的充电构件，专利文献I提出包括含具有烷基氟基团和氧化烯基的聚硅氧烷的表面层的充电构件。
[0004]同时，伴随着近年来电子照相图像形成设备的处理速度的増加，电子照相感光构件和充电构件彼此接触的时间已开始变得相对较短。上述对稳定和可靠地将电子照相感光构件充电是不利的。具体而言，如在专利文献2中公开的，感光构件的带电均匀性降低，特别是抑制正重影的效果降低。
[0005]在通过充电构件对感光构件一次充电之前通过在感光构件上进行所谓的预曝光除去在转印步骤后的感光构件上的残余电荷可以消除正重影。然而，向电子照相图像形成设备中引入预曝光单元对降低电子照相图像形成设备的尺寸是不利的。因此，可以说，优选通过提高充电构件本身的充能能力来解决所述问题。
[0006]引文列表
[0007]专利文献
[0008]专利文献1:日本专利申请特开2007-004102
[0009]专利文献2:日本专利申请特开2008-299255
【发明内容】
[0010]发明要解决的问题
[0011]作为由本发明的发明人对根据专利文献I所述的充电构件进行研究的结果，本发明人认识到，虽然确实观察到调色剂等对充电构件表面附着的抑制效果，但是需要额外的技术开发以便即使在高处理速度下也可以以稳定的方式均匀地对感光构件充电。
[0012]鉴于上述情況，本发明的目的在于提供能够长期維持高充电能力的充电构件，通过所述充电构件即使在高处理速度下也可以稳定地对感光构件充电，并提供制造所述充电构件的方法。
[0013]另外，本发明的目的在于提供能够稳定地形成高品质电子照相图像的电子照相设备和处理盒。
[0014]用于解决问题的方案[0015]根据本发明的一方面，提供电子照相设备用充电构件，其包括:导电性支承体；导电性弹性层；和表面层，其中:所述表面层包括在其分子结构中具有S1-O-Ti键的高分子化合物；并且所述高分子化合物具有由式(I)、(2)和(3)表示的构成单元:
[0016]式(I)
[0017]
【权利要求】
1.一种电子照相设备用充电构件，其包括:导电性支承体；导电性弹性层；和表面层， 其中: 所述表面层包括在其分子结构中具有S1-O-Ti键的高分子化合物；并且 所述高分子化合物具有由下式(I)、(2)和(3)表示的构成单元: 式⑴
2.根据权利要求1所述的充电构件，其中式⑴和⑶中的Rh、Rh、も-2和R2_2各自独立地表示由下式(13)至(16)表示的结构的任ー种: 式(13)
3.根据权利要求1或2所述的充电构件，其具有在所述高分子化合物中的钛原子数与硅原子数的比(Ti/Si)为0.1以上且12.5以下。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的充电构件，其中所述高分子化合物包括具有由式(17)表示的结构的可水解化合物、由式(18)表示的可水解化合物和至少ー种由式(23)至(25)表示的环氧改性硅油的交联产物: 式(17)
R38-Si (OR39) (OR40) (OR41) 式(18)
T1-(OR42) (OR43) (OR44) (OR45) 在式(17)中，R38表示由式(19)至(22)表示的结构的任ー种，所述结构具有环氧基，以及R39至R41各自独立地表示具有I个以上且4个以下碳的烃基，并且在式(18)中，R42至R45各自独立地表示具有I个以上且18个以下碳原子的烃基: 式(19)
5.根据权利要求1至3中任一项所述的充电构件，其中所述高分子化合物包括由式(17)表示的可水解化合物、由式(18)表示的可水解化合物、至少ー种由式(23)至(25)表示的环氧改性硅油、和由式(26)表示的可水解化合物的交联产物: 式(17)
R38-Si (OR39) (OR40) (OR41) 式(18)
T1-(OR42) (OR43) (OR44) (OR45) 在式(17)中，R38表示由式(19)至(22)表示的结构的任ー种，所述结构具有环氧基，以及R39至R41各自独立地表示具有I个以上且4个以下碳原子的烃基，并且在式(18)中，R42至R45各自独立地表示具有I个以上且18个以下碳原子的烃基:
6.一种制造根据权利要求4所述的充电构件的方法，所述方法包括以下步骤: 在所述导电性弹性层的外周上形成涂料的涂膜，所述涂料含有从由式(17)和(18)表示的可水解化合物合成的水解缩合物和至少ー种由式(23)至(25)表示的环氧改性硅油；和 通使在所述水解缩合物中的所述R38的环氧基和在所述环氧改性硅油中的环氧基开裂和聚合以使所述水解缩合物交联，并使所述硅油与所述缩合物交联来形成所述表面层。
7.—种制造根据权利要求5所述的充电构件的方法，所述方法包括以下步骤:在所述导电性弹性层的外周上形成涂料的涂膜，所述涂料含有从由式(17)、(18)和(26)表示的可水解化合物合成的水解缩合物和至少ー种由式(23)至(25)表示的环氧改性硅油；和 通过使在所述水解缩合物中的所述R38的环氧基和在所述环氧改性硅油中的环氧基开裂和聚合以使所述水解缩合物交联，并使所述硅油与所述缩合物交联来形成所述表面层。
8.—种处理盒，其包括:电子照相感光构件；和配置为接触所述电子照相感光构件的根据权利要求1至5任一项所述的充电构件，其中 所述处理盒可拆卸地安装到电子照相设备的主体。
9.一种电子照相设备，其包括:电子照相感光构件；和配置为接触所述电子照相感光构件的根据权利要求1至5任一项所述的充电构件。
【文档编号】C08G77/14GK103502894SQ201280020421
【公开日】2014年1月8日 申请日期:2012年4月16日 优先权日:2011年4月27日
【发明者】铃村典子, 黑田纪明, 儿玉真隆, 友水雄也, 益启贵 申请人:佳能株式会社