聚丙烯覆膜材料及其制备方法
【专利摘要】本发明提供了一种聚丙烯覆膜材料，由含有端烯基的聚有机硅倍半氧烷、聚丙烯和抗氧化剂经辐照交联制得；本发明通过将含有含有端烯基的聚有机硅倍半氧烷的聚丙烯进行辐照交联，使得得到的聚丙烯覆膜材料在成型过程中能使表面纹理完全保留，且得到的聚丙烯覆膜材料的力学性能较好；此外，由于本发明将含有端烯基的聚有机硅倍半氧烷作为交联剂促进剂，使得本发明制备得到的聚丙烯覆膜材料中的交联剂残留不会在后期使用中慢慢析出，提高了聚丙烯覆膜材料的稳定性。
【专利说明】聚丙烯覆膜材料及其制备方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及高分子【技术领域】，更进一步的涉及一种聚丙烯覆膜材料及其制备方 法。
【背景技术】
[0002] 聚丙烯是一种环境友好型高分子材料，具有优异的力学性能、电性能、耐化学药品 性，被广泛应用于汽车内外饰件、日用品、装饰材料、包装材料、电子电器、纺织、医疗器具等 产品的制造；由于聚丙烯性能优良、生产工艺成熟、成本低廉，目前已成为增长最快、产量最 高的高分子材料之一。
[0003] 近年来，聚丙烯材料的应用已逐渐扩展到覆膜产品领域，如汽车内饰件、家具、装 饰材料等产品的表面覆膜。与常用的同类覆膜材料软质PVC相比，聚丙烯的耐热温度、硬 度、防刮性能更好，更为重要的是，聚丙烯覆膜材料在成型过程中不需要添加增塑剂，大大 简化了加工工艺，而且在后期的使用过程中，也不会由于增塑剂的缓慢析出而产生毒性。
[0004] 但是，聚丙烯覆膜材料通过吸塑工艺与基底粘合成型成为内饰件、家具、装饰产品 时，由于耐热温度不足，其表面纹理或图案在吸塑温度下容易产生变形或消失，难以完全保 留，影响产品外观。目前，也有研究人员聚丙烯与交联促进剂如TAIC、TMPTA、TPGDA、PETA等 混合辐射交联制备耐热的聚丙烯覆膜材料，然而，由于这些交联促进剂在辐照过程中会发 生自聚合以及部分交联剂未发生反应，使得得到的聚丙烯覆膜材料的稳定性不高，严重影 响其后期的使用寿命。
【发明内容】
[0005] 有鉴于此，本发明所要解决的技术问题在于提供一种聚丙烯覆膜材料及其制备方 法，本发明提供的聚丙烯覆膜材料在后期使用中稳定性高，而且成型过程中能使表面纹理 完全保留。
[0006] 本发明提供了一种聚丙烯覆膜材料，由含有端烯基的聚有机硅倍半氧烷、聚丙烯 和抗氧化剂经辐照交联制得。
[0007] 优选的，所述含有端烯基的聚有机硅倍半氧烷为具有式（I)结构的τ8笼型聚有机 硅倍半氧烷、具有式（II)结构的τ 1(ι笼型聚有机硅倍半氧烷和具有式（III)结构的τ12笼型 聚有机硅倍半氧烷中的一种或几种，
【权利要求】
1. 一种聚丙烯覆膜材料，由含有端烯基的聚有机硅倍半氧烷、聚丙烯和抗氧化剂经辐 照交联制得。
2. 根据权利要求1所述的覆膜材料，其特征在于，所述含有端烯基的聚有机硅倍半氧 烷为具有式（I)结构的^笼型聚有机硅倍半氧烷、具有式（II)结构的T 1(l&型聚有机硅倍 半氧烷和具有式（III)结构的τ12笼型聚有机硅倍半氧烷中的一种或几种，
所述Rh、Rh、Rh、Rh、Rh、Rh、Rh、Rh独立的选自C1?CIO的烷基或C1?C15的 含端烯基的不饱和烃基，其中，Rh、Rh、Rh、Rrn Rh、Rh、Rh和Rh中至少有两个基团选 自Cl?C15的含端烯基的不饱和烃基； 所述 Ri-2、R2-2、R3-2、R4-2、R5-2、 R6-2、R7-2、R8-2、R9-2、Rl(l-2 独立的选自 C1 ?C10 的烧基或 Cl ?C15 的含端烯基的不饱和烃基，其中，札_2、r2_2、r3_ 2、r4_2、r5_2、r 6_2、r7_2、r8_2、r 9_2 和 R1Q_2 中至少有两个选自Cl?C15的含端烯基的不饱和烃基； 所述札-3、R2-3、R3-3、R 4-3、R5-3、R6-3、R 7-3、R8-3、R9-3、R 1(l-3、Rn-3、R12- 3 独立的选自 C1 ?C10 的 烷基或 Cl ?C15 的含端烯基的不饱和烃基，其中，1^_3、1?2_3、1?3_ 3、1?4_3、1?5_3、1? 6_3、1?7_3、1?8_ 3、1?9_3、 Rkh3、R+3和R12-3中至少有两个选自C1?C15的含端烯基的不饱和烃基。
3. 根据权利要求1所述的覆膜材料，其特征在于，所述含有端烯基的聚有机硅倍半氧 烧与所述聚丙烯的质量比为（0.3?5) :100。
4. 根据权利要求1所述的覆膜材料，其特征在于，所述抗氧化剂为二丁基二硫代磷酸 锌、Ν，Ν' -双[β-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基）丙酰]肼和二丁基二硫代氨基甲酸锌中 的一种或几种。
5. 根据权利要求1所述的覆膜材料，其特征在于，所述抗氧化剂与所述聚丙烯的质量 比为（0. 2 ?0. 8) :1。
6. 根据权利要求1所述的覆膜材料，其特征在于，所述辐照交联的辐射剂量为10? 150kGy〇
7. -种聚丙烯覆膜材料的制备方法，包括： 1) 将含有端烯基的聚有机硅倍半氧烷、聚丙烯和抗氧化剂共混，得到共混物； 2) 将步骤1)得到的共混物成型，辐照，得到聚丙烯覆膜材料。
8. 根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述含有端烯基的聚有机硅倍半氧 烧与所述聚丙烯的质量比为（0.3?5) :100。
9. 根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述含有端烯基的聚有机硅倍半氧 烷为具有式（I)结构的^笼型聚有机硅倍半氧烷、具有式（II)结构的T 1(l&型聚有机硅倍 半氧烷和具有式（III)结构的Τ12笼型聚有机硅倍半氧烷中的一种或几种，
所述Rh、Rh、Rh、Rh、Rh、Rh、Rh、Rh独立的选自C1?C10的烷基或C1?C15的 含端烯基的不饱和烃基，其中，Rh、Rh、Rh、Rm Rh、Rh、Rh和Rh中至少有两个基团选 自Cl?C15的含端烯基的不饱和烃基； 所述 Ri-2、R2-2、R3-2、R4-2、R5-2、 R6-2、R7-2、R8-2、R9-2、Rl(l-2 独立的选自 Cl ?CIO 的烧基或 Cl ?C15 的含端烯基的不饱和烃基，其中，札_2、r2_2、r3_ 2、r4_2、r5_2、r 6_2、r7_2、r8_2、r 9_2 和 R1Q_2 中至少有两个选自Cl?C15的含端烯基的不饱和烃基； 所述札-3、R2-3、R3-3、R 4-3、R5-3、R6-3、R 7-3、R8-3、R9-3、R 1(l-3、Rn-3、R12- 3 独立的选自 C1 ?C10 的 烷基或 Cl ?C15 的含端烯基的不饱和烃基，其中，1^_3、1?2_3、1?3_ 3、1?4_3、1?5_3、1? 6_3、1?7_3、1?8_ 3、1?9_3、 Rkh3、R+3和R12-3中至少有两个选自C1?C15的含端烯基的不饱和烃基。
10.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述辐照交联的辐射剂量为10? 150kGy〇
【文档编号】C08J3/28GK104194160SQ201410493619
【公开日】2014年12月10日 申请日期:2014年9月24日 优先权日:2014年9月24日
【发明者】邓鹏飏, 吴启超, 丰俊湘, 周晓, 尹园, 柳美华, 陈慧雪 申请人:广东天安新材料股份有限公司