技术特征：
1.一种全氟聚醚改性硅烷化合物，其特征在于：结构如下：F(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2CH2O(CH2)pC{(CH2)qOC(O)NH(CH2)3Si(OCH3)3}3(1)其中：m，n为分别独立数字，为0以上，200以下整数；P为独立数字，为1～3整数；q为独立数字，为1～3整数。2.根据权利要求1所述的一种全氟聚醚改性硅烷化合物，其特征在于：结构如下式(JE)或(PE)：F(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2CH2OCH2C{CH2OC(O)NH(CH2)3Si(OCH3)3}3(JE)F(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2(CH2)3OCH2C{CH2OC(O)NH(CH2)3Si(OCH3)3}3(PE)式中，m，n为分别独立数字，为0以上，200以下整数。3.根据权利要求1或2所述的一种全氟聚醚改性硅烷化合物，其特征在于：m，n为分别独立数字，为10以上，100以下的整数。4.一种包含权利要求1所述的全氟聚醚改性硅烷化合物的表面处理组合物，其特征在于：包含其总重量的0.1％-20％权利要求1所述全氟聚醚改性硅烷化合物和80％-99.9％的溶剂。5.根据权利要求4所述的表面处理组合物，其特征在于：所述的溶剂为全氟丁基甲基醚、全氟丁基乙基醚、全氟己基甲基醚、氢氟醚中任意一种。6.一种通过涂布权利要求4所述的表面处理组合物获得的薄膜。7.一种权利要求6所述的薄膜的制备方法，其特征在于：将所述的表面处理组合物稀释至千分之一的固含量浓度稀释液，之后涂布在基材上进行烘烤，冷却后获得所述的薄膜。8.根据权利要求7所述的薄膜的制备方法，其特征在于：所述的涂布为湿式涂布、物理气相沉积或化学气相沉积；任选的，所述烘烤的温度为80-200℃，烘烤的时间为10-60分钟，冷却终点为室温。9.一种权利要求6所述的薄膜的用途，其特征在于：用作光学部件的防污层或显示器件的抗指纹层。10.根据权利要求9所述的薄膜的用途，其特征在于：所述的光学部件为抗反射膜、光学滤光片、光学镜片、眼镜镜片、分束器、棱镜或反射镜。11.根据权利要求9所述的薄膜的用途，其特征在于：所述的显示器件为手机盖片、计算机屏幕或电视屏幕。