一种甘草次酸3位羟基和11位羰基结构修饰方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种甘草次酸3位羟基和11位羰基结构修饰方法。
【背景技术】
[0002] 甘草次酸（Glycyrrhetinic acid)分子式：C3(lH4604，分子量：470. 68384，CAS NO. 471-53-4，MDL NO. MFCD00003706，EINECS NO. 207-444-6，RTECS NO. RK0180000，BRN NO. 2229654。beta-甘草亭酸；（3B，20B)-3-羟基-11-氧代-齐墩果-12-烯-29-酸； (3β，20β)-3-羟基-11-氧代-齐墩果-12-烯-29-酸；3β -羟基-11-氧-12-齐 墩果烯-30-酸；甘草亭酸；18ΒΕΤΑ甘草次酸；BETA-甘草次酸；甘珀酸。英文别名： 18-beta-Glycyrrhetinic acid ； 18B-Glycyrrhetinic acid ； (2S? 4AS? 6AS? 6BR? 8AR? 10S，12AS，12BR，14BR)-l〇-Hydroxy-2,4A，6A，6B，9, 9,12A-Heptamethyl_13-〇x〇-l，2,3， 4,4A，5,6,6A，6B，7,8,8A，9,10,11，12,12A，12B，13,14B-Icosahydr〇-Picene-2_Carbox ylic ；acid ； (3beta?18alpha? 20beta)-3-Hydroxy-1l-〇xoolean-12-en-29-〇ic acid ； 3beta-Hydro xy3-beta_Hydroxy-ll-〇xo_18beta，20beta-〇lean-12-en_29-〇icacid ; 3beta-Hydroxy-ll-〇x〇-18beta-〇lean-12-en-30-〇ic acid ；3b-hydroxy-ll-〇x〇-18b? 20b-〇lean-12-en_29-〇ic acid ；3B-Hydroxy-ll-〇x〇-18B-〇lean-12-en-30-〇ic acid ； B-Glycyrrhetinic acid ；Enoloxone ；Glycyrrhetinic acid ；Glycyrrhetinic acid ； 18-beta-glycyrrheticacid ；3.beta.-Hydroxy-ll-〇x〇-12-〇leanen-30-〇icacid ；3~beta -hydroxy-1l-〇x〇-〇lean-12-en_30-〇icaci ;3-beta-hydroxy-ll-〇xoolean-12-en_3〇-〇ic acid。结构式如下：
[0003]
【主权项】
1. 一种甘草次酸3位羟基和11位羰基结构修饰方法，以甘草次酸为原料，该方法包含 以下步骤： (1) 11-脱氧甘草次酸-3-0-乙酸酯一锅烩反应。 (2) 11-脱氧甘草次酸-3-0-乙酸酯反应液的处理。 (3) 11-脱氧甘草次酸-3-0-乙酸酯粗品的制备。 (4) 11-脱氧甘草次酸-3-0-乙酸酯精品的制备。
2. 如权利要求1所述的一种甘草次酸3位羟基和11位羰基结构修饰方法，其特征在 于，步骤（1)中反应溶剂为二氧六环或四氢呋喃；催化剂为附、(：11、？1:、？(1、铝或锌粉中之一 ； 酰化剂为乙酰氯、乙酸酐、苯甲酰氯或冰醋酸中之一；薄层色谱展开剂：石油醚-乙酸乙酯 (1 : 1)，显色剂：硫酸-甲醇（1 : 1)。
3. 如权利要求1所述的一种甘草次酸3位羟基和11位羰基结构修饰方法，其特征在 于，步骤（2)中反应完成后用少量水猝灭，过滤，去除未反应的技术催化剂，得到澄清滤液， 减压浓缩。
4. 如权利要求1所述的一种甘草次酸3位羟基和11位羰基结构修饰方法，其特征在 于，步骤（3)中浓缩物中加去离子水生成沉淀，直至沉淀不再出现，再加热至沉淀完全溶 解，0-5 °C放置24h，抽滤，得白色粗品。
5. 如权利要求1所述的一种甘草次酸3位羟基和11位羰基结构修饰方法，其特征在 于，步骤（4)中粗品用甲醇溶解，加入3-5%的活性炭，在回流下脱色30min，过滤浓缩，结 晶，50-60°C真空干燥，得精品11-脱氧甘草次酸-3-0-乙酸酯。
【专利摘要】一种甘草次酸3位羟基和11位羰基结构修饰方法，该方法包含以下步骤：1)11-脱氧甘草次酸-3-0-乙酸酯一锅烩反应；2)11-脱氧甘草次酸-3-0-乙酸酯反应液的处理；3)11-脱氧甘草次酸-3-0-乙酸酯粗品的制备；4)11-脱氧甘草次酸-3-0-乙酸酯精品的制备。本发明以甘草次酸为原料，在甘草次酸的3-位羟基和11-位羰基同步进行了结构修饰，一锅煮法合成了11-脱氧甘草次酸-3-0-乙酸酯，将原本需两步的反应一步进行，缩短了反应步骤，优化了合成工艺，反应收率大大提高，具有操作简便、反应条件温和、后处理方便、产率高等优点。
【IPC分类】C07J63-00
【公开号】CN104744552
【申请号】CN201510122283
【发明人】李玉山
【申请人】李玉山
【公开日】2015年7月1日
【申请日】2015年3月16日