一体式间隙浸没植物生物培养装置的制造方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及一种既可用于植物细胞、组织、装置官大量培养，也可用于微生物 与植物组织共培养体系的建立，来获取具有药用价值的天然活性产物的培养装置。
【背景技术】
[0002] 目前在植物组织培养领域，培养方式大致可分为固体和液体培养两类，其各自优 缺点如表1。与固体培养相比较，液体培体培养优点较为明显，但仍存在诸多缺点与不足， 例如空气交换有限，易于玻璃化等等。为了进一步解决上述问题，国内外学者进行了大量试 验，其中间歇浸没系统增殖效果较为显著。间歇浸没式植物生物反应装置种类众多，其中多 种反应装置是实验者实际试验中改进的培养系统，这些生物反应装置中较成熟，具有代表 性的主要有四种，如表2。
[0003] 表1固体培养与液体培养优缺点比较
[0004]
【主权项】
1. 一种一体式间隙浸没植物生物培养装置，包括培养罐本体，其特征在于，该培养罐本 体包括罐体盖、培养盘、底盘和至少两个密封结构，所述培养罐本体由所述底盘和所述罐体 盖通过密封结构密封相连构成一个密闭空间，所述密闭空间被培养盘隔开形成上层培养室 和下层储液室两个腔室，所述培养盘是可以移动的，所述培养盘上设有导液管，所述导液管 连通所述培养室和所述储液室。
2. 根据权利要求1所述的一体式间隙浸没植物生物培养装置，其特征在于，所述密封 结构包括第一凸台、第二凸台；所述第一凸台设置在所述底盘的外边沿结构上，且在横向方 向上向外延伸；所述第二凸台设置在所述罐体盖的外边沿结构上，且在横向方向上与所述 第一凸台对应向外延伸；所述第一凸台和第二凸台通过内螺丝上下紧固实现所述罐体盖和 底盘的密封。
3. 根据权利要求2所述的一体式间隙浸没植物生物培养装置，其特征在于，所述培养 罐本体还包括第一密封圈卡槽和第二密封圈卡槽，所述底盘的外沿结构上以底盘的圆心为 中心设有第一密封圈卡槽，用于放置所述第一密封圈；所述培养盘的外沿结构上以培养盘 的圆心为中心设有第二密封圈卡槽，用于放置所述第二密封圈。
4. 根据权利要求3所述的一体式间隙浸没植物生物培养装置，其特征在于，所述培养 罐本体上设有除菌装置，所述除菌装置包括第一胶管、第二胶管、第一空气除菌器和第二空 气除菌器；所述底盘的一侧设有进气嘴，所述进气嘴通过所述第一胶管与所述第一空气除 菌器密封相连；所述罐体盖的顶部一侧设有气体交换嘴，所述气体交换嘴通过所述第二胶 管与所述第二空气除菌器密封相连。
5. 根据权利要求4所述的一体式间隙浸没植物生物培养装置，其特征在于，所述导液 管的顶部设有分流限流柱；所述培养盘呈漏斗状，所述培养盘的底部以圆心为中心向外发 散设有至少2个凹凸相间的圆环；所述培养盘的底部以分流限流柱为中心向外延伸设有至 少2条引流槽；所述引流槽连通所述凹凸相间的圆环。
6. 根据权利要求5所述的一体式间隙浸没植物生物培养装置，其特征在于，所述导液 管的底部沿直径对称设有缺口；所述分流限流柱是中空结构且顶部是封闭的，所述分流限 流柱的横截面呈"十"字形且高于所述培养槽的外边沿，所述分流限流柱的侧面设有4条竖 形开口的引流口。
7. 根据权利要求6所述的一体式间隙浸没植物生物培养装置，其特征在于，所述培养 罐本体还包括手柄和脚垫，所述手柄设置在所述罐体盖的顶部中心处，所述手柄与所述罐 体盖为一体成型设置；所述脚垫设置在所述底盘的下方，用于支撑所述培养罐本体，所述脚 垫与所述底盘为一体成型设置。
8. 根据权利要求7所述的一体式间隙浸没植物生物培养装置，其特征在于，所述手柄 为倒锥形；所述培养罐本体包括6个密封结构，所述第一凸台与所述第二凸台的横截面均 为等腰梯形；所述凹凸相间的圆环为7个，所述引流槽为4条。
9. 根据权利要求1-8任一项所述的一体式间隙浸没植物生物培养装置，其特征在于， 所述培养罐本体的材质采用透明塑料或玻璃。
【专利摘要】本实用新型涉及一种一体式间隙浸没植物培养装置，包括培养罐本体、培养罐本体包括罐体盖、培养盘、底盘和至少两个密封结构，培养罐本体由底盘和罐体盖通过密封结构密封相连构成一个密闭空间，所述密闭空间被培养盘隔开形成上层培养室和下层储液室两个腔室，培养盘上设有导液管，导液管连通培养室和储液室。所述培养室体积大于或等于所述储液室，可以为植物组织培养提供更大的生长空间；垂直导液管则将储液室的培养液导入培养室，可以为植物组织培养提供充足的营养；同时培养罐本体由底盘和罐体盖通过密封结构密封相连构成一个密闭空间，实现了密封性能很好的整体的一体式的培养装置，又能实现培养液和空气的交流，结构简单且操作方便。
【IPC分类】C12M3-00, C12M1-00
【公开号】CN204569945
【申请号】CN201520201368
【发明人】陈集双, 张本厚, 蒋海侠, 陈锦周
【申请人】南京博方生物科技有限公司
【公开日】2015年8月19日
【申请日】2015年4月3日