专利名称：细碎粉末喷射设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种细碎粉末喷射设备，它通过倾斜一喷嘴管把细碎粉末与一气流一起喷射到一基片之类部件上。
细碎粉末喷射设备的代表性例子有隔离粒子喷射设备，该设备把用作预定数量的液晶显示隔离粒子(隔离小珠)的粒子大小均匀的细碎粉末均匀喷射到构成液晶显示装置的液晶显示板的基片、例如一玻璃基片与一玻璃或塑料基片之间而形成一层隔离粒子。
在液晶显示装置等的液晶显示板中，约为几微米到几十微米的大小均匀的粒子(例如塑料粒子和硅石粒子之类隔离小珠)以每平方毫米10-2000个粒子的数量尽可能均匀地喷射到玻璃基片之间、塑料(有机玻璃等等)基片之间和塑料基片与玻璃基片之间而形成一层隔离粒子(下文以玻璃基片为例进行说明，玻璃基片作为待喷射部件)，以便形成使液晶带电的空间。
某些现有隔离粒子喷射设备用一细管(输送管)输送与空气、氮气等气流一起的隔离细粒后从一摆动喷嘴管把粒子与气流一起排出，从而把隔离粒子喷射到玻璃基片上。隔离粒子为大小为几微米到几十微米的细碎粉末粒子，容易悬浮在空中。它们为各种容易带电的塑料粒子或硅石粒子。因此很难以优良的可重复性以预定密度把隔离粒子喷射到玻璃基片上。这些设备可按照带电极性(静电极性)使隔离粒子带电，而玻璃基片和一平板接地，从而以预定密度把隔离粒子可靠地喷射到玻璃基片上。
新近，液晶显示板的尺寸越来越大，许多液晶显示板常常用单块玻璃基片制成，因此需要把隔离粒子喷射到更大面积上。因此，喷射隔离粒子的喷嘴管的摆动角度必须更大。因此，喷嘴管喷嘴离基片中心的距离与离基片四边的距离之间的差别越来越大，从而很难把隔离粒子均匀地喷射到该大尺寸玻璃基片上。
本发明的一个目的是提供一种能把隔离粒子之类细碎粉末均匀喷射到大尺寸玻璃基片之类一部件上的细碎粉末喷射设备。
本发明细碎粉末喷射设备包括一距一待喷射部件预定距离、在预定方向上倾斜的喷嘴管，该喷嘴管把细碎粉末与一气流一起从其喷嘴喷射到该待喷射部件上；以及一运动速度控制装置，该控制装置按照试喷时沉积在该部件上的细碎粉末的密度分布控制该喷嘴管的该喷嘴的运动速度。
在本发明细碎粉末喷射设备中，该密度分布用一二次函数表示，该二次函数表示试喷时所沉积细碎粉末的随一峰值点与一喷射点即该喷嘴管的延长线与待喷射部件的交点之间的距离而变的密度递减率。
此外，在本发明细碎粉末喷射设备中，该二次函数由一x轴线二次函数和一y轴线二次函数构成，该x轴线二次函数表示所沉积细碎粉末的随x轴线上该峰值点与该喷射点之间距离而变的密度递减率，该y轴线二次函数表示所沉积细碎粉末的随y轴线上该峰值点与该喷射点之间距离而变的密度递减率。
此外，在本发明细碎粉末喷射设备中，喷嘴管喷嘴的运动速度随着所沉积细碎粉末密度递减率的增加受控地减小。
按照本发明细碎粉末喷射设备，喷嘴管喷嘴的运动速度在一运动速度控制装置的控制下，按照该表示所沉积细碎粉末密度递减率随试喷中峰值点与喷射点之间距离而变的二次函数，随着所喷射细碎粉末密度递减率的增加而减小，从而可把细碎粉末均匀地喷射到待喷射的该大尺寸部件上。
图1为本发明一细碎粉末喷射设备的剖面图。
图2为一用于本发明细碎粉末喷射设备的细碎粉末喷射机构的立体示意图。
图3为沿图2中A-A线剖取的剖面图，详细示出本发明细碎粉末喷射机构中一用来摆动喷嘴管的摆动机构。
图4为图3中B-B向视图，示出本发明该摆动机构。
图5为图3中C-C向视图，示出本发明该摆动机构。
图6A、6B、6C和6D例示出用本发明细碎粉末喷射设备中的直线运动致动器摆动喷嘴管。
图7例示出包括本发明隔离粒子喷射设备的细碎粉末喷射系统的结构。
图8示出使用本发明隔离粒子喷射设备试喷时沉积在玻璃基片整个表面上的隔离粒子的密度分布。
图9示出使用本发明隔离粒子喷射设备试喷时在相交于玻璃基片中心的x轴线和y轴线上每隔2cm测得的所沉积隔离粒子的密度分布。
图10示出沉积在玻璃基片整个表面上的隔离粒子的密度分布，该隔离粒子用本发明隔离粒子喷射设备喷射。
图11示出在相交于玻璃基片中心的x轴线和y轴线上每隔2cm测得的所沉积隔离粒子的密度分布，这些隔离粒子用本发明隔离粒子喷射设备喷射。
下面结合附图所示优选实施例详细说明本发明一细碎粉末喷射设备。
图1为本发明细碎粉末喷射设备的剖面图。
在该附图中，一用作本发明细碎粉末喷射设备的隔离粒子喷射设备10有一作为待喷射部件的玻璃基片16，该玻璃基片固定在一位于气密室12底部的平板14上。平板14、从而固定在该平板上的玻璃基片16接地，确保用作隔离粒子20的带电细碎粉末沉积到接地的玻璃基片表面上。
平板14上方有一喷射机构22，该喷射机构有一喷射隔离粒子20的喷嘴管18。该喷嘴管18把在一软管24中与一空气、氮气等气流一起输送的隔离粒子20喷射到玻璃基片16上。该喷嘴管18可在任何预定第一方向和与第一方向垂直的第二方向、例如x轴线方向和y轴线方向上摆动。该喷嘴管18在预定方向上倾斜的同时一起喷出隔离粒子20与该气流，从而可把隔离粒子20喷射到玻璃基片16的预定部位。
图2为本发明隔离粒子喷射设备10中隔离粒子20的喷射机构22的立体示意图。
在该附图中，该喷射机构22布置成使得两直线运动致动器28和30在y方向上互相平行地位于一安装台26上。由可调接头(球形接头)构成的第二接头32和34分别位于直线运动致动器28和30的内侧。喷嘴管18位于两直线运动致动器28和30后方两直线运动致动器28和30之间中心线上，从而喷嘴管18可在任何x轴线方向和y轴线方向上摆动到在任意方向上倾斜。直线运动致动器28和30分别包括与y方向平行的滑块28a和30a以及导轨28b和30b，其中，滑块28a和30a分别在y方向上沿导轨28b和30b来回运动。本发明使用的直线运动致动器不受特别限制，也可使用AC伺服驱动的直线致动器、直线步进电动机等。
喷嘴管18的顶端上装有第一接头35。在该附图中，在x方向上伸向两侧的可调接头(万向接头)36和38用作第一接头35。位于直线运动致动器28和30内侧上的第二接头(可调接头)32和34分别经两连杆40和42与装在喷嘴管18顶端上的第一接头35的可调接头36和38连接。
图3为沿图2中A-A线剖取的剖面图，详细示出一用来摆动喷嘴管18的摆动机构。图4为图3中B-B向视图，示出该摆动机构。图5为图3中C-C向视图，示出该摆动机构。位于图3中央的喷嘴管18为一空心管，其顶端连接有软管(图3中未示出)，其底端上有一喷嘴用来喷出细碎粉末(隔离粒子)20和气流。喷嘴管18用一位于喷嘴管18纵向上中心的支撑件(万向接头)50装在安装台26上，从而如图2所示可在任何x轴线和y轴线方向上摆动。
如图3和4所示，喷嘴管18的支撑件50在一固定在安装台26上的接头底座52的中心孔中有一接头环58，该接头环58用与y轴线平行的两支撑销54和支撑销54插入其中的轴承56支撑成可围绕y轴线转动。此外，支撑环58用与x轴线平行的两支撑销60和支撑销60插入其中的轴承62把喷嘴管18支撑在该中心孔中，使得支撑环58可围绕x轴线转动。因此，喷嘴管18可在任何x轴线和y轴线方向上摆动，但无法围绕其中心线转动。
第一接头35的可调接头36和38装在喷嘴管18的顶端上，用连杆40和42连接喷嘴管18与图2所示直线运动致动器28和30内侧上的第二接头32和34。如图3和5所示，可调接头(万向接头)36和38装在喷嘴管18顶端上，在x轴线方向上伸向该顶端两侧。它们由两转动环68构成，这两转动环用在水平方向上转动的滚珠轴承66和一经滚珠轴承70与转动环68连接的接头臂72装在喷嘴管18顶端上。当喷嘴管18的倾斜角度无需如此大时，第一接头35的可调接头36和38可用使用球轴承的球形接头取代万向接头。
与连杆40(42)连接的接头臂72经连杆40(42)与直线运动致动器28(30)的第二接头32(34)连接，从而把直线运动致动器28(30)的运动传给喷嘴管18。直线运动致动器28和30的第二接头32和34的可调接头可与可调接头36和38相同，也可使用球形接头之类其他可调接头。
接头底座52用一安装环74固定在安装台26上。安装环74有一用来调节喷嘴管18的位置的调节机构76。喷嘴管18的底端插入一使室12气密、同时容许喷嘴管18摆动的橡胶盖78中。橡胶盖78的外周用一固定环80固定在安装台26上。当开动喷射机构22时，喷嘴管18的支撑件50等会生成灰尘，尽管灰尘的数量可忽略不计。橡胶盖78用来防止灰尘进入室12中。
在如上布置的喷射隔离粒子20的喷射机构22中，直线运动致动器28(30)的运动、确切说滑块28a(30a)沿导轨28b(30b)的运动造成喷嘴管18的摆动。
图6A-6D分别例示出由直线运动致动器28(30)的滑块28a(30a)的运动造成的喷嘴管18的摆动。图6A示出喷嘴管18位于一运动区的中央(垂直位置)。图6B示出当喷嘴管18摆动到该运动区在y轴线方向上的极限位置时直线运动致动器28和30的位置、确切说直线运动致动器28和30的滑块28a和30a的位置。图6C示出当喷嘴管18摆动到该运动区在x轴线方向上的极限位置时直线运动致动器28和30(滑块28a和30a)的位置。图6D示出喷嘴管18位于该运动区的角落上。
如图6A、6B和6C所示，当喷嘴管18在y轴线方向上摆动时，两直线运动致动器28和30同时在同一方向上运动，而当喷嘴管18在x轴线方向上摆动时，两直线运动致动器28和30同时在相反方向上运动。当喷嘴管18以任何其他角度摆动时，它可通过两直线运动致动器28和30的运动方向和速度的合成而以任何速度在x轴线方向和y轴线方向上运动，从而可把隔离粒子20喷射到玻璃基片16上任何部位。
图7为一包括隔离粒子喷射设备10的细碎粉末喷射系统90的结构示意图。细碎粉末喷射系统90包括喷射设备10；一与喷射设备10、确切说与喷射机构22的直线运动致动器28和30电连接、控制它们的致动器驱动器92；一与驱动器92电连接的定序器94和一与定序器94电连接、操纵喷射设备10、特别是把摆动控制系数输入定序器94的触板96。
下面说明如何把隔离粒子20喷射到玻璃基片16上。在把隔离粒子20喷射到玻璃基片16前，必须把隔离粒子20试喷到一玻璃基片试件上。在该试喷中，触板96必须输入喷嘴管18的运动轨迹和玻璃基片16的大小(高度×宽度)。所输入数据经定序器94传给致动器驱动器92，致动器驱动器92确定喷嘴管18喷嘴延长线在玻璃基片16上一X-Y坐标系中画出的轨迹。
喷嘴管18喷嘴的垂直延长线与玻璃基片16的交点设为在其中表示玻璃基片16的对应部位的X-Y坐标系的原点。喷嘴管18喷嘴延长线在玻璃基片16上画出的轨迹为许多连续的控制点((x1，y1)、(x2，y2)、(x3，y3)、(x4，y4)、…(xn，yn))。
致动器驱动器92用在玻璃基片16上X-Y坐标系中画出的轨迹算出喷嘴管18在X-Y方向上的倾斜角度后把X-Y坐标系中的控制点转换成直线运动致动器28和30的滑块28a和30a在L1-L2坐标系中的对应位置((L11，L21)、(L12，L22)、(L13，L23)、(L14，L24)、…(L1n，L2n))。在L1-L2坐标系中，表示直线运动致动器28和30的滑块28a和30a的滑动位置。
然后，致动器驱动器92操纵隔离粒子喷射设备10，改变喷嘴管18的倾斜角度，从而在顺序把直线运动致动器28和30的滑块28a和30a移动到位置((L11，L21)、(L12，L22)、(L13，L23)、(L14，L24)、…(L1n，L2n))上时以临时速度(V)沿所确定轨迹改变喷射位置，从而把隔离粒子20试喷到玻璃基片试件16上。
试喷后，用一隔离粒子计数器(图中未示出)测得沉积在玻璃基片试件16上的隔离粒子20的密度。图8示出试喷时沉积在大小为100cm×100cm的玻璃基片的整个表面上的隔离粒子20的密度(隔离粒子数/mm2)分布。图9示出在相交于图8所示玻璃基片16中心的x轴线和y轴线上离端线每隔2cm测得的所沉积隔离粒子20的密度。在图9中，垂直轴表示所沉积隔离粒子的密度(隔离粒子数/mm2)，水平轴表示距玻璃基片16的端部的距离(cm)。
从图9所示试喷时所沉积隔离粒子密度的测量值显然可知，所沉积隔离粒子的密度按照二次函数随着与所沉积隔离粒子密度的一峰值点的距离的增加而减小，因此可用该二次函数得出所沉积隔离粒子随与所沉积隔离粒子的密度的该峰值点的距离而变的密度递减率。因此，试喷时所沉积隔离粒子的密度分布可用表示所沉积隔离粒子的密度递减率随与该密度的该峰值点的距离而变的该二次函数表示。
通过测量试喷时沉积在通过玻璃基片16的中心的x轴线上的峰值点“b”上的隔离粒子的密度和沉积在x轴线上任何一点(测量点)上的隔离粒子的密度和计算该峰值点“b”与该测量点之间的距离，即可得出方程1(x轴线二次函数)中的常数“a”、即所沉积隔离粒子密度随x轴线方向上与该峰值点之间的距离而变的递减率常数“ax”。当峰值点“b”为玻璃基片16的中心时，“b”的值为0。
方程1峰值基准密度率＝a[(测量点(＝与峰值点之间的距离)-b)/基片大小×1/2]2＋1例如，在该方程中用实际值算出递减率常数“ax”。设距玻璃基片试件16上x轴线左端50cm的一点为峰值点，x轴线左端一点为测量点。如图9所示，设沉积在峰值点上的隔离粒子的密度为230(隔离粒子数/mm2)，沉积在该测量点上的隔离粒子的密度为150(隔离粒子数/mm2)，则在方程1中，峰值基准密度率为150/230，测量点为50(cm)，“b”为0，基片大小×1/2为50(cm)，从而得出递减率常数“ax”约为-0.348。
此外，测量试喷时沉积在通过玻璃基片16的中心的y轴线上的峰值点“b”上的隔离粒子的密度和沉积在y轴线上任何一点(测量点)上的隔离粒子的密度和计算该峰值点“b”与该测量点之间的距离，即可得出方程1(y轴线二次函数)中的常数“a”、即所沉积隔离粒子密度随y轴线方向上与该峰值点之间的距离而变的递减率常数“ay”。当峰值点“b”为玻璃基片16的中心时，“b”的值也为0。
在方程1中，用实际值算出递减率常数“ay”。设距玻璃基片试件16上y轴线上顶端50cm的一点为峰值点，x轴线顶端上一点为测量点。如图9所示，设沉积在峰值点上的隔离粒子的密度为240(隔离粒子数/mm2)，沉积在该测量点上的隔离粒子的密度为150(隔离粒子数/mm2)，则在方程1中，峰值基准密度率为150/240，测量点为50(cm)，“b”为0，基片大小×1/2为50(cm)，从而得出递减率常数“ay”约为-0.375。
然后，随x轴线方向上与峰值点之间距离而变的递减率常数“ax”(-0.348)和随y轴线方向上与峰值点之间距离而变的递减率常数“ay”(-0.375)用触板96输入后经定序器94传给致动器驱动器92。致动器驱动器92计算喷嘴管18延长线与玻璃基片16表面的交点即喷射点在该X-Y坐标系中各控制点之间的移动速度。
因此，可根据x轴线上控制点(x1，y1)与峰值点之间的距离和y轴线上控制点(x1，y1)与峰值点之间的距离确定喷射点在控制点(x1，y1)与(x2，y2)之间的移动速度。用x轴线上控制点(x1，y1)与峰值点之间的距离得出所沉积粉末密度随x轴线方向上与峰值点之间距离而变的递减率即峰值基准密度率(所沉积细碎粉末密度递减率)“Rx1”。用y轴线上与峰值点之间的距离得出所沉积粉末密度随y轴线方向上与峰值点之间距离而变的递减率即峰值基准密度率(所沉积细碎粉末密度递减率)“Ry1”。然后用试喷时喷射点的移动速度(临时速度V)乘以峰值基准密度率“Rx1”和“Ry1”得出喷射点在控制点(x1，y1)与(x2，y2)之间的移动速度(Rx1×Ry1×V)。
当控制点(x1，y1)比方说为一点(10，10)、而从方程1分别得出“Rx1”为0.777和“Ry1”为0.760时，可算出喷射点在控制点(x1，y1)与(x2，y2)之间的移动速度(Rx1×Ry1×V)为0.59V。这就是说，可把喷射点的移动速度控制成试喷时的临时速度V的0.59倍。
同样，可根据x轴线上控制点(x2，y2)与峰值点之间的距离和y轴线上控制点(x2，y2)与峰值点之间的距离确定喷射点在控制点(x2，y2)与(x3，y3)之间的移动速度(Rx2×Ry2×V)。此外，可得出喷射点在控制点(x3，y3)与(x4，y4)之间的移动速度(Rx3×Ry3×V)和喷射点在控制点(xn-1，yn-1)与(xn，yn)之间的移动速度(Rx(n-1)×Ry(n-1)×V)。由于方程1左边该项即峰值基准递减率“Rx”和峰值基准递减率“Ry”都始终满足(0≤Rx＜1，0≤Ry＜1)，因此喷射点的移动速度、从而喷嘴管18的移动速度可受控地随着喷射点与峰值点之间的距离的增加而减小。
然后，致动器驱动器92根据X-Y坐标系中各控制点之间的距离和喷射点的移动速度计算直线运动致动器28和30的滑块28a和30a的移动速度。确切说，致动器驱动器92根据控制点(x1，y1)与(x2，y2)之间的距离和喷射点在控制点(x1，y1)与(x2，y2)之间的移动速度(Rx1×Ry1×V)计算直线运动致动器28和30的滑块28a和30a在(L11，L21)与(L12，L22)之间的移动速度。同样，致动器驱动器92分别计算直线运动致动器28和30的滑块28a和30a在(L12，L22)与(L13，L23)之间、(L13，L23)与(L14，L24)之间和(L1n-1，L2n-1)与(L1n，L2n)之间的移动速度。
然后，把要在其上实际喷射细碎粉末的玻璃基片16固定在气密室12中的平板14上。该玻璃基片16必须固定在试喷隔离粒子20时使用的玻璃基片试件的同一位置上。
然后，致动器驱动器92操纵隔离粒子喷射设备10，以算得的速度顺序把直线运动致动器28和30的滑块28a和30a移动到位置(L11，L21)、(L12，L22)、(L13，L23)、(L14，L24)…(L1n，L2n)上时把隔离粒子20喷射到玻璃基片16上。因此，当喷射点分别以移动速度(Rx1×Ry1×V)在控制点(x1，y1)与(x2，y2)之间、以移动速度(Rx2×Ry2×V)在控制点(x2，y2)与(x3，y3)之间、以移动速度(Rx3×Ry3×V)在控制点(x3，y3)与(x4，y4)之间和以移动速度(Rx(n-1)×Ry(n-1)×V)在控制点(xn-1，yn-1)与(xn，yn)之间移动时把隔离粒子20喷射到玻璃基片16上。
图10示出喷射后沉积在玻璃基片16整个表面上的隔离粒子20的密度分布(隔离粒子数/mm2)。图11示出图10所示相交于玻璃基片16的中心的x轴线和y轴线上离端部每隔2cm的所喷射隔离粒子20的密度(隔离粒子数/mm2)。在图11中，垂直轴表示所沉积隔离粒子20的密度(隔离粒子数/mm2)，水平轴表示离基片端部的距离(cm)。
从图11所示测量结果显然可知，喷嘴管18的移动速度受控地随喷射点离开玻璃基片16中心点的距离的增加而减小，因此可把隔离粒子20均匀地喷射到玻璃基片16的整个表面上。在一玻璃基片16上喷射隔离粒子20后，在下一张玻璃基片16上同样喷射隔离粒子20。
按照本发明隔离粒子喷射设备，喷嘴管18喷嘴的移动速度在控制下按照所沉积细碎粉末密度递减率与试喷时所沉积粉末的密度的一峰值点与一喷射点之间的距离之间的二次函数关系随着所沉积细碎粉末密度的递减率的增加而减小，从而可把细碎粉末均匀地喷射到一大尺寸玻璃基片16上。
在上述实施例中，隔离粒子喷射设备10通过摆动位于玻璃基片上方的喷嘴管18把隔离粒子20向下均匀地喷射到水平固定在平板14上的玻璃基片16上。但是，本发明决不限于上述实施例。可使用任何类型的要均匀喷射的细碎粉末，比方说隔离粒子之外的粉末漆、调色剂等。可使用任何要喷射的部件，例如玻璃基片之外的用粉末漆喷涂的物体。它们不限于水平地固定在平板14上，例如可以是不装在平板上的垂直和斜置的待喷涂基片和部件。隔离粒子在待喷射部件上的喷射方向也不受上述实施例的限制，隔离粒子可以任何向下垂直和倾斜方向喷射到水平放置或斜置的部件上以及以任何水平和倾斜方向喷射到垂直放置或斜置的部件上。
在上述实施例中，喷嘴管18通过控制直线运动致动器28和30的滑块28a和30a在x轴线方向和y轴线方向上摆动。但是，本发明也可用于这样的隔离粒子喷射设备，其中，用与电动机连接的一曲轴或一偏心凸轮使得喷嘴管18在x轴线方向和y轴线方向上摆动。
按照本发明，喷嘴管18喷嘴的移动速度在一移动速度控制装置的控制下按照所沉积细碎粉末的密度递减率与试喷时峰值点与喷射点之间的距离之间的二次函数关系随着所沉积细碎粉末密度的递减率的增加而减小，从而可把细碎粉末均匀地喷射到一大尺寸部件上。
权利要求
1.一种细碎粉末喷射设备，包括一距一待喷射部件预定距离、在预定方向上倾斜的喷嘴管，该喷嘴管把细碎粉末与一气流一起从其喷嘴喷射到该待喷射部件上；以及一运动速度控制装置，该控制装置根据试喷时沉积在所述部件上的细碎粉末的密度分布控制该喷嘴管的喷嘴的运动速度。
2.按权利要求1所述的细碎粉末喷射设备，其特征在于，所述密度分布用二次函数表示，该二次函数表示所沉积细碎粉末的随所述试喷时该密度的一峰值点与所述喷嘴管的延长线与所述待喷射部件相交喷射点之间距离而变的密度递减率。
3.按权利要求2所述的细碎粉末喷射设备，其特征在于，所述二次函数由x轴线二次函数和y轴线二次函数构成，该x轴线二次函数表示所沉积细碎粉末随x轴线上该峰值点与该喷射点之间距离而变的密度递减率，该y轴线二次函数表示所沉积细碎粉末随y轴线上该峰值点与该喷射点之间距离而变的密度递减率。
4.按权利要求1所述的细碎粉末喷射设备，其特征在于，所述喷嘴管的喷嘴的移动速度受控地随着所述所沉积细碎粉末的密度递减率的增加而减小。
5.按权利要求2所述的细碎粉末喷射设备，其特征在于，所述喷嘴管的喷嘴的移动速度受控地随着所述所沉积细碎粉末的密度递减率的增加而减小。
6.按权利要求3所述的细碎粉末喷射设备，其特征在于，所述喷嘴管的喷嘴的移动速度受控地随着所述所沉积细碎粉末的密度递减率的增加而减小。
7.按上述任一权利要求所述的细碎粉末喷射设备，其特征在于，所述待喷射部件为一液晶显示基片，所述细碎粉末为用于液晶显示的隔离粒子。
全文摘要
一种细碎粉末喷射设备,包括一距一待喷射部件预定距离、在预定方向上相对该部件倾斜的喷嘴管,该喷嘴管把细碎粉末与一气流一起从其喷嘴喷射到该待喷射部件上;以及一运动速度控制装置,该控制装置按照二次函数控制该喷嘴管的该喷嘴的运动速度,该二次函数表示所沉积细碎粉末随试喷时沉积在待喷射部件上的细碎粉末的密度的一峰值点与一喷射点即该喷嘴管的延长线与待喷射部件的交点之间的距离而变的密度递减率。
文档编号B05B7/14GK1339338SQ0112187
公开日2002年3月13日 申请日期2001年6月29日 优先权日2000年8月21日
发明者土井真, 伴昌树, 渡边伍郎 申请人:日清工程株式会社