专利名称：一种气-水刀双用设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及液晶显示领域,尤其涉及ー种气-水刀双用设备。
背景技术：
薄膜晶体液晶显不器(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display, TFT-LCD)因其体积小、功耗低、无辐射等特点，在当前的平板显示器市场占据了主导地位。阵列(Array)エ艺在TFT-IXD器件制造中起到举足轻重的作用，为了避免颗粒 (particle)、刻蚀液等对产品品质的影响,在Arrayエ艺过程中存在着大量的喷射(spray) 清洗来达到去除异物的目的，如图I所示传统喷淋设备的结构图，用来蓄水的长方体腔体I 的两侧有用来进水的进水口 2，并且腔体I的下侧有用来喷水的多个喷嘴3，为了提高喷淋的覆盖面积，防止喷淋真空地带的产生，那么必须使多个喷嘴之间的喷淋面相互重叠，以达到清洗的目的，那么会需要相当多的喷嘴，这样的结构有两个缺陷ー是，喷嘴过多，浪费水资源，特别是对于日益发展的高带线来说更加明显；ニ是，喷嘴喷出的液体流动速度不均， 容易形成涡流造成清洁能力下降。
实用新型内容本实用新型实施例提供了一种气-水刀双用设备，用以解决传统喷淋设备喷嘴过多，造成水资源浪费，以及喷嘴喷出的液体流动速度不均，容易形成涡流造成清洁能力下降的问题。本实用新型实施例提供的一种气-水刀双用设备，包括用于蓄水的第一腔体和与所述第一腔体下底面相连的第二腔体；其中所述第一腔体的腔体壁上具有至少ー个进水口，底部具有至少ー个喷嘴通向所述第二腔体内部；所述第二腔体上布置有至少ー个进气ロ，且第二腔体的底部具有长条形的狭縫。本实用新型实施例的有益效果包括本实用新型实施例提供的ー种气-水刀双用设备，在传统的清洗TFT-LCD器件的喷淋设备的基础上，将第一腔体底部的喷嘴通向第二腔体内部，第二腔体布置有至少ー个进气ロ并且底部有长条形的狭缝，采用这样的结构，喷嘴喷出的水会经由第二腔体的底部的狭缝均匀喷出，由于喷嘴的喷淋面不用再相互叠加，这样能够在使用较少的喷嘴的前提下，实现大范围高清洁度的清洗，并且通过对进气ロ通入气体压力来调节喷淋的压力，使喷出的水流流速均匀，达到更好的清洗效果；另外，如果进水口关闭，且整个设备中水都排出的情况下，仅从进气ロ通入空气，那么上述气-水刀双用设备可以从狭缝输出流量均匀的薄长气流，作为气刀使用，实现各种エ业吹气除尘、去液干燥等功能。
图I为传统喷淋设备的结构图；[0011]图2为本实用新型实施例提供的气-水刀双用设备的立体结构图；图3为本实用新型实施例提供的气-水刀双用设备中第二腔体的截面图；图4为本实用新型实施例提供的气-水刀双用设备的俯视图；图5为本实用新型实施例提供的气-水刀双用设备的左视图。
具体实施方式
本实用新型实施例提供的气-水刀双用设备，对现有的喷淋设备进行了改进，该气-水刀双用设备包括用于蓄水的第一腔体和与第一腔体下底面相连的第二腔体，其中第一腔体的腔体壁上具有至少ー个进水口，底部具有多个喷嘴通向第二腔体内部;第二腔体布置有至少ー个进气ロ，底部具有长条形的狭縫。较佳地，本实用新型实施例中，第一腔体和第二腔体的形状为柱状，其截面形状为多边形或者圆形等常用的形状，其中，多边形可以是正方形或长方形。第一腔体和第二腔体均为为棱柱状(也就是截面形状为多边形)时，第二腔体的上表面与第一腔体下底面相连，且第二腔体的上表面的宽度大于第一腔体下底面的宽度；那么，第二腔体上的进气ロ，可以布置于在第二腔体上表面伸出第一腔体下底面的部分。下面以ー个具体的实例来说明本实用新型实施例提供的上述气-水刀双用设备。图2为该实例中气-水刀双用设备的立体结构图，从图2可以看出第一腔体I和第二腔体4都为柱状，且第一腔体I的截面形状为长方形，第二腔体 4截面形状为上底边为直线、两斜边为凸出的弧且底部不封闭的倒弧边三角形；第一腔体I柱状的一端的腔体壁上有ー个进水口 2 (当然该进水口还可以设置在腔体壁的其他位置)；第一腔体I的底部具有喷嘴(图2中未示意出)伸向第二腔体4中。第二腔体4的上表面与第一腔体I下底面相连，且第二腔体4的上表面的宽度大于第一腔体I下底面的宽度，在第二腔体4上表面伸出第一腔体I下底面的部分，布置有四个进气ロ 5 ；第二腔体壁的底部具有长条形的狭缝6。该实例提供的气-水刀双用设备中第二腔体的截面图如图3所示，从图3中可以看出，喷嘴3连通第一腔体I和第二腔体4，并且对着第二腔体底部的狭缝6。图4是该气-水刀双用设备的俯视图，从图4中可以看出，在第一腔体I两端的腔体壁上都分别布置ー个进水口 2。并且，第二腔体4的上表面伸出第一腔体I底部的部分， 四个进气ロ 5是对称布置的。图5是该气-水刀双用设备的左视图。本实用新型实施例提供的气-水刀双用设备的工作方式，可以为两种，一种作为水刀使用，另ー种作为气刀使用，下面对于这两种工作方式及其原理进行说明。本实用新型实施例提供的气-水刀双用设备在打开进水口向第一腔体注水吋，该设备可作为水刀使用。水从进水ロ进入第一腔体，然后从喷嘴流出，流入第二腔体，再从第 ニ腔体的狭缝流出发挥清洗的作用，由第二腔体的狭缝能够使喷头中的水均匀流出，相对现有设备，由于喷嘴的喷淋面不需要再相互叠加，所以可以减少喷嘴的使用数量，降低了水的消耗，节约了成本。另外，由于可以通过对进气ロ通入气体并控制该气体的压カ来调控喷淋压力，使从狭缝喷出的水流的流速更均匀，避免了现有设备中液体从喷嘴流出，流动速度不均形成涡流造成清洁能力下降的现象的产生。本实用新型实施例提供的气-水刀双用设备在关闭进水口，整个设备中水都排出的情况下，该设备可作为气刀使用。向进气ロ通入空气，从第二腔体底部的狭缝喷出流量均匀的薄长气流，该设备能够作为气刀使用，实现各种エ业吹气除尘、去液干燥的功能。较佳地，对进气ロ通入的空气可以为热空气，能起到更好的干燥的效果。本实用新型实施例提供的ー种气-水刀双用设备，在传统的TFT-IXD器件制造的 Arrayエ艺中的喷淋设备的结构之上，将用于蓄水的第一腔体的喷嘴通向上宽下窄的第二腔体中，并且第二腔体上表面有多个进气ロ，底部具有长条形狭缝的结构。当通过进水口对设备通入水的时候，由于喷嘴的喷淋面不需要相互叠加，所以可以减少喷嘴的使用数量，达到降低水的消耗，节约成本的目的，同时，可以通过控制向进气ロ通入气体的压カ来调控喷淋的压力，使喷出的水流速均匀，达到更好的清洗效果；当关闭进水口，并且，使整个设备中的水都排出，仅向进气ロ通入空气时，会从狭缝会喷出流量均匀的薄长气流，该设备能够作为气刀使用，实现各种エ业吹气除尘、去液干燥等功能。显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
权利要求1.一种气-水刀双用设备，其特征在于，包括用于蓄水的第一腔体和与所述第一腔体下底面相连的第二腔体；其中所述第一腔体的腔体壁上具有至少ー个进水口，底部具有至少ー个喷嘴通向所述第二腔体内部；所述第二腔体上布置有至少ー个进气ロ，且第二腔体的底部具有长条形的狭縫。
2.如权利要求I所述的气-水刀双用设备，其特征在于，所述第一腔体和第二腔体的形状为柱状。
3.如权利要求2所述的气-水刀双用设备，其特征在于，所述第一腔体和第二腔体的截面形状为多边形。
4.如权利要求3所述的气-水刀双用设备，其特征在于，所述第二腔体的上表面与所述第一腔体下底面相连，且第二腔体的上表面的宽度大于所述第一腔体下底面的宽度；所述第二腔体上的进气ロ，布置于在第二腔体上表面伸出第一腔体下底面的部分。
5.如权利要求4所述的气-水刀双用设备，其特征在于，所述第二腔体具有四个进气 ロ，分别对称布置在所述第二腔体上表面伸出第一腔体下底面的部分。
6.如权利要求3所述的气-水刀双用设备，其特征在于，所述第一腔体的截面形状为正方形或长方形。
7.如权利要求3所述的气-水刀双用设备，其特征在于，所述第二腔体的截面形状为上底边为直线、两斜边为凸出的弧且底部不封闭的倒弧边三角形。
专利摘要本实用新型公开了一种气-水刀双用设备，在传统喷淋设备之上增加了第二腔体，用于接收从第一腔体喷嘴流出的水并从它底部的长条形狭缝流出，由于喷嘴之间的喷淋面不用再相互重叠，减少了喷嘴的使用数量，从而降低了水的消耗，该第二腔体上表面还具有至少一个进气口，通过控制向进气口通入气体的压力来调控喷淋的压力，使喷出的水流速均匀，达到更好的清洗效果；同时，本实用新型公开的一种气-水刀双用设备，在关闭进水口，整个设备中水都排出的情况下，可以作为气刀使用。
文档编号B05B9/03GK202343366SQ20112033439
公开日2012年7月25日 申请日期2011年9月7日 优先权日2011年9月7日
发明者张家祥 申请人:北京京东方光电科技有限公司