高硬度抛光液的制作方法
【专利摘要】一种高硬度抛光液，其溶剂亲水的去离子水，且还含有：10%烷基醇酰胺磷酸酯；5~10%的活性剂；固体含量30~35%的SiO2胶体粒子，且所述SiO2胶体粒子的直径为50nm；且pH值为2.5，其可溶性好，抛光效率高，适用于高硬度的LED衬底或硅片的加工。
【专利说明】高硬度抛光液
【技术领域】
[0001]本发明有关于LED、电子行业，特别是对其中高硬度的衬板抛光的抛光液。
【背景技术】
[0002]作为电子行业的一个重要分支，LED产业近年来得到了飞速的发展。LED能使发光效率提高近10倍，寿命是传统灯具的20倍以上，兼有绿色、环保等优点。由于其高效、环保的产品得到了市场的广泛认可和追捧。
[0003]其中作为LED产品的核心和附加值最大的部分，彻底材料对LED光源的稳定性和寿命起到重要的决定作用。也是我国在LED产业发展的重要方向。目前能用于商品化的衬底只有两种，即蓝宝石和碳化硅衬底。
[0004]蓝宝石，Sapphire，是刚玉宝石中除红色的红宝石之外，其它颜色刚玉宝石的通称，主要成分是氧化铝(Al2O3X目前全球80%LED企业采用蓝宝石衬底，具有优异的光学性能、机械性能和化学稳定性，强度高、硬度大、耐冲刷，可在接近200(TC高温的恶劣条件下工作。但在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。较为常见的工艺对硅等半导体材料较为流行和有效，但蓝宝石的硬度极高，普通磨料难以对其进行加工。在对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的划痕。
[0005]因此，需要一种抛光液用于对高硬质基材进行蚀刻、抛光，在提高抛光速率的同时保证表面平整度以满足工业上对蓝宝石抛光速率和平整度的要求。
【发明内容】
[0006]为解决上述技术问题，本发明提供一种高硬度抛光液，其溶剂亲水的去离子水，且还含有:
10%烷基醇酰胺磷酸酯；
5~10%的活性剂；
固体含量30-35%的SiO2胶体粒子，且所述SiO2胶体粒子的直径为50nm ;且 pH值为2.5。
[0007]本发明采用是一种SiO2胶体粒子的抛光剂，能够将较为硬的电子工业中的基板或LED衬底进行有效的研磨、去污和抛光。
【具体实施方式】
[0008]本发明提供一种高硬度抛光液，其溶剂亲水的去离子水，且还含有:
10%烷基醇酰胺磷酸酯；
5~10%的活性剂；
固体含量30-35%的SiO2胶体粒子，且所述SiO2胶体粒子的直径为50nm ;且 pH值为2.5。
[0009]本发明采用以高纯度硅粉为原料，SiO2胶体粒子，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。对电子行业中的半导体硅片或LED行业中的蓝宝石衬底进行有效的研磨、去污和抛光。
[0010]作为本发明的优选的实施例,所述抛光液中Cu和Fe的总含量小于50ppm。这样的纯度能够有效的防止重金属对基片或衬底的污染，保证设计线路的完整和抗干扰。[0011]同时，作为本发明的一个实施例，本抛光剂是酸性工作环境，且是通过HCl调整所述抛光液的PH值。其对半导体及其所覆金属有良好的去除功能，同时采用氧化硅作为进行抛光，能够达到光亮、平整的技术要求。
[0012]作为本发明的优选实施例，所述抛光液被用于抛光LED的蓝宝石衬底或半导体硅片。
[0013]作为本发明的另一个实施例，所述抛光液中还具有1%的水溶性苯骈三氮唑。
[0014]应了解本发明所要保护的范围不限于非限制性实施方案，应了解非限制性实施方案仅仅作为实例进行说明。本申请所要要求的实质的保护范围更体现于独立权利要求提供的范围，以及其从属权利要求。
【权利要求】
1.一种高硬度抛光液，其溶剂亲水的去离子水，且还含有: 10%烷基醇酰胺磷酸酯； 5~10%的活性剂； 固体含量30-35%的SiO2胶体粒子，且所述SiO2胶体粒子的直径为50nm ;且 pH值为2.5。
2.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于:所述抛光液中Cu和Fe的总含量小于50ppmo
3.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于:通过HCl调整所述抛光液的pH值。
4.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于:所述抛光液被用于抛光LED的蓝宝石衬底或半导体硅片。
5.如权利要求1所述的抛光液 ，其特征在于:所述抛光液中还具有1%的水溶性苯骈三氮唑。
【文档编号】C09G1/02GK103614080SQ201310538565
【公开日】2014年3月5日 申请日期:2013年11月5日 优先权日:2013年11月5日
【发明者】夏泽军 申请人:昆山宏凌电子有限公司