一种酸性纳米陶瓷抛光液的制作方法
【技术领域】
[0001 ]本发明涉及一种酸性纳米陶瓷抛光液。
【背景技术】
[0002] 超洁亮技术是采用一种专用的高精度抛光机将纳米液滴到抛光砖的表面，通过抛 光磨头的反复施压、打磨、抛光，将纳米液更好地渗透到抛光砖的毛孔内部，堵塞了抛光砖 的毛孔及微裂纹，形成一种特殊的、连续的纳米膜，从而使抛光砖具有亮丽的表面。并且该 表面能有效阻止污染物的入侵，具有较好的防污性能。
[0003] 超洁亮技术是目前抛光砖防护处理的最有效方法，需要使用到高精度抛光机和纳 米材料抛光液。目前，碱性的抛光液在市面上较常见，如专利CN20140838043.7公开的一种 含有多孔二氧化硅糜烂的抛光液及其制备方法以及如专利CN200810247567.3公开的一种 用于硅晶片抛光的抛光组合物。然而，碱性的抛光液在抛光过程中容易出现表面浊点和轻 微划伤的问题。
[0004] 超洁亮纳米陶瓷抛光液采用纳米二氧化硅溶胶作为研磨材料已有很多报道，但稳 定的酸性纳米抛光液鲜有报道。
【发明内容】
[0005] 为了克服现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种稳定的、抛光效果佳的酸 性纳米陶瓷抛光液。
[0006] 为解决上述问题，本发明所采用的技术方案如下：
[0007] -种酸性纳米陶瓷抛光液，包括按重量份计的以下组分：30-80份胶体二氧化硅、 0.1-2份阻垢分散剂和20-70份的水;所述胶体二氧化硅固含量为30-50%，粒径范围为5-80nm;所述阻垢分散剂为醇胺、醚、聚胺或聚醚中的一种或两种以上；
[0008] 所述酸性纳米陶瓷抛光液的pH值为2-4。
[0009] 作为优选，所述胶体二氧化硅为酸性胶体二氧化硅或碱性胶体二氧化硅。
[0010] 作为优选，所述醚为乙二醇乙醚、乙二醇丁醚和二乙二醇二甲基醚中的一种或两 种以上;所述醇胺为二乙醇胺和/或三乙醇胺;所述聚胺为丙烯酸-丙烯酰胺共聚物;所述聚 醚为壬基酚聚氧乙烯醚、异构十三醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚和聚氧乙烯醚中的一 种或多种。
[0011] 作为优选，所述聚醚或聚胺的分子量为100-8000。
[0012] 作为优选，所述阻垢分散剂由聚醚与醇胺以1:0.1-10的比例混合。
[0013] 作为优选，所述阻垢分散剂由壬基酚聚氧乙烯醚与三乙醇胺以1:0.1-10的比例混 合。
[0014] 作为优选，所述酸性纳米陶瓷抛光液还包括pH调节剂，所述pH调节剂为磷酸、盐 酸、草酸和硫酸中的一种或两种以上。
[0015] 作为优选，所述酸性纳米陶瓷抛光液还包括0.5-2份的添加剂。
[0016]作为优选，所述添加剂为增光剂、防污剂或杀茵剂等。
[0017]相比现有技术，本发明的有益效果在于：
[0018] 1、本发明直接制备pH值为2-4的酸性纳米陶瓷抛光液，体系稳定，抛光效果好；
[0019] 2、本发明采用聚醚与醇胺作为复合稳定剂，能有效促进该酸性纳米陶瓷抛光液的 稳定性。
[0020] 下面结合【具体实施方式】对本发明作进一步详细说明。
【具体实施方式】
[0021] 以下实施例中，如未特殊说明，所用试剂均为市售或经过常规的试验手段获得。
[0022] 本实施例中，所述碱性胶体二氧化娃中二氧化娃的粒径范围为5-80nm。
[0023] 实施例1
[0024]将50kg市售固含量为30%的碱性胶体二氧化硅加入40kg水中，依次加入0.3kg的 壬基酚聚氧乙烯醚，加入加水补足至l〇〇kg，搅拌均匀，加入磷酸调节pH至3,得到酸性纳米 陶瓷抛光液。
[0025] 实施例2
[0026]将50kg市售固含量为30%的碱性胶体二氧化硅加入40kg水中，依次加入0.3kg的 壬基酚聚氧乙烯醚、0.1kg三乙醇胺，加水补足至100kg，搅拌均匀，加入磷酸调节pH至2,得 到酸性纳米陶瓷抛光液。
[0027] 实施例3
[0028]将50kg市售固含量为30%的碱性胶体二氧化硅加入40kg水中，依次加入0.3kg的 壬基酚聚氧乙烯醚、0.1kg三乙醇胺，加水补足至100kg，搅拌均匀，加入磷酸调节pH至3,得 到酸性纳米陶瓷抛光液。
[0029] 实施例4
[0030]将50kg市售固含量为30%的碱性胶体二氧化硅加入50kg水中，依次加入0.3kg的 壬基酚聚氧乙烯醚、0.1kg二乙醇胺，加水补足至100kg，搅拌均匀，加入磷酸调节pH至4,得 到酸性纳米陶瓷抛光液。
[0031] 实施例5
[0032]将50kg市售固含量为30%的碱性胶体二氧化硅加入60kg水中，依次加入0.3kg的 壬基酚聚氧乙烯醚、0.1kg三乙醇胺，加水补足至100kg，搅拌均匀，加入磷酸调节pH至5,得 到酸性纳米陶瓷抛光液。
[0033] 实施例6
[0034]将30kg市售固含量为50 %酸性胶体二氧化硅加入70kg水中，再加入0.5kg的丙烯 酸-丙稀酰胺共聚物、〇. 2kg增光剂、0. lkg防污剂和0. lkg的杀菌剂，搅拌均勾，加盐酸调节 pH至2,得到酸性纳米陶瓷抛光液。
[0035] 实施例7
[0036]将30kg市售固含量为50 %酸性胶体二氧化硅加入50kg水中，再加入0.5kg的丙烯 酸-丙稀酰胺共聚物、1 kg二乙醇胺，0.2kg增光剂、0.1 kg防污剂和0.1 kg的杀菌剂，搅拌均 匀，加草酸调节pH至2，得到酸性纳米陶瓷抛光液。
[0037] 实施例8
[0038] 将50kg市售固含量为30 %酸性胶体二氧化硅加入70kg水中，再加入0.5kg的丙烯 酸-丙稀酰胺共聚物、1 kg二乙醇胺、0.2kg增光剂、0.1 kg防污剂和0.1 kg的杀菌剂，搅拌均 匀，加草酸调节pH至2，得到酸性纳米陶瓷抛光液。
[0039] 实施例9
[0040]将60kg市售固含量为30%碱性胶体二氧化硅加入80kg水中，再加入0.5kg的异构 十三醇聚氧乙稀醚、0.5kg二乙醇胺、0.2kg增光剂、0. lkg防污剂和0. lkg的杀菌剂，搅拌均 匀，加硫酸调节pH至2，得到酸性纳米陶瓷抛光液。
[0041 ] 实施例10
[0042]将60kg市售固含量为30%碱性胶体二氧化硅加入70kg水中，再加入0.5kg的异构 十三醇聚氧乙稀醚、0.5kg三乙醇胺、0.2kg增光剂、0. lkg防污剂和0. lkg的杀菌剂，搅拌均 匀，加硫酸调节pH至2，得到酸性纳米陶瓷抛光液。
[0043] 实施例11
[0044] 将60kg市售固含量为30%碱性胶体二氧化硅加入70kg水中，再加入0.5kg的三乙 醇胺、0.2kg增光剂、0.1 kg防污剂和0.1 kg的杀菌剂，搅拌均勾，加硫酸调节pH至2，得到酸性 纳米陶瓷抛光液。
[0045] 实施例12
[0046]将60kg市售固含量为30%碱性胶体二氧化硅加入50kg水中，再加入0.5kg的乙二 醇乙醚、0.2kg增光剂、0.1 kg防污剂和0.1 kg的杀菌剂，搅拌均勾，加硫酸调节pH至2，得到酸 性纳米陶瓷抛光液。
[0047] 对比例1
[0048]与实施例1不同的是，对比例1的pH自然，即不调节pH值。
[0049] 检测实施例
[0050] 取100mL实施例1-9得到的酸性纳米陶瓷抛光液试样，置于PE瓶，封装置于25±2°C 恒温环境下，于试验的第7、14天、28天、60天、90天、180天、360天进行稳定性其稳定性检测 结果如表1所示，
[0051 ]表1稳定性试验结果
[0052]
[0054] 比对施例1与实施例2,以及比对实施例6与实施例7可知，使用聚醚与醇胺配合，比 单独使用聚醚作阻垢分散剂，对体系的稳定性维持效果更佳。醇胺在酸性条件下以季铵盐 的形式存在，从而协同性地提高聚醚对酸性纳米陶瓷抛光液体系稳定能力。其中，壬基酚聚 氧乙烯醚与三乙醇胺复合使用效果较理想。由实施例2至实施例5与对比例1的比较可知，酸 性纳米陶瓷抛光液体系的pH值对本酸性纳米陶瓷抛光液体系的稳定性有较大影响，其中， pH在2-4范围内，酸性纳米陶瓷抛光液相对稳定。由实施例2-4与实施例6-10的比较可知，相 对于碱性胶体二氧化硅，以酸性胶体二氧化硅为原料配制的酸性纳米陶瓷抛光液的稳定性 更高。由实施例11与实施例12的稳定性检测结果可知，单独使用醇胺或醚，稳定性效果不理 想。
[0055] 取100mL实施例1-12以及对比例1得到的酸性纳米陶瓷抛光液试样，地陶瓷表面进 行抛光，计算抛光速率，其结果如表2所示。
[0056] 表2抛光速率及抛光表面结构
[0057]
[0058]
[0059] 由表2可知，酸性纳米陶瓷抛光液的pH值对抛光速率存在较大的影响。pH值在2-4 时，抛光速率较快，用扫描电子显微镜观察陶瓷表面微观结构显不二氧化娃在陶瓷表面分 布均匀，陶瓷表面结构平整。
[0060] 上述实施方式仅为本发明的优选实施方式，不能以此来限定本发明保护的范围， 本领域的技术人员在本发明的基础上所做的任何非实质性的变化及替换均属于本发明所 要求保护的范围。
【主权项】
1. 一种酸性纳米陶瓷抛光液，包括按重量份计的以下组分：30-80份胶体二氧化硅、 0.1-2份阻垢分散剂和20-70份水； 所述胶体二氧化硅固含量为30-50 %，粒径范围为5-80nm; 所述阻垢分散剂为醇胺、醚、聚胺或聚醚中的一种或两种以上； 所述酸性纳米陶瓷抛光液的pH值为2-4。2. 如权利要求1所述的酸性纳米陶瓷抛光液，其特征在于，所述胶体二氧化硅为酸性胶 体二氧化硅或碱性胶体二氧化硅。3. 如权利要求1所述的酸性纳米陶瓷抛光液，其特征在于，所述醚为乙二醇乙醚、乙二 醇丁醚和二乙二醇二甲基醚中的一种或两种以上;所述醇胺为二乙醇胺和/或三乙醇胺;所 述聚胺为丙烯酸-丙烯酰胺共聚物;所述聚醚为壬基酚聚氧乙烯醚、异构十三醇聚氧乙烯 醚、壬基酚聚氧乙烯醚和聚氧乙烯醚中的一种或多种。4. 如权利要求1或3所述的酸性纳米陶瓷抛光液，其特征在于，所述聚醚或聚胺的分子 量为 100-8000。5. 如权利要求1所述的酸性纳米陶瓷抛光液，其特征在于，所述阻垢分散剂由聚醚与醇 胺以1:0.1-10的比例混合。6. 如权利要求5所述的酸性纳米陶瓷抛光液，其特征在于，所述阻垢分散剂由壬基酚聚 氧乙烯醚与三乙醇胺以1:0.1-10的比例混合。7. 如权利要求1所述的酸性纳米陶瓷抛光液，其特征在于，所述酸性纳米陶瓷抛光液还 包括pH调节剂，所述pH调节剂为磷酸、盐酸、草酸和硫酸中的一种或两种以上。8. 如权利要求1所述的酸性纳米陶瓷抛光液，其特征在于，所述酸性纳米陶瓷抛光液还 包括0.5-2份的添加剂。9. 如权利要求8所述的酸性纳米陶瓷抛光液，其特征在于，所述添加剂为增光剂、防污 剂或杀茵剂等。
【专利摘要】本发明提供一种酸性纳米陶瓷抛光液，包括按重量份计的以下组分：30-80份胶体二氧化硅、0.1-2份阻垢分散剂和20-70份水；所述胶体二氧化硅固含量为30-50％，粒径范围为5-80nm；所述阻垢分散剂为醇胺、醚、聚胺或聚醚中的一种或两种以上；所述酸性纳米陶瓷抛光液的pH值为2-4。该酸性纳米陶瓷抛光液pH值适宜，具有较高的稳定性，耐存贮，抛光速率快。
【IPC分类】C09G1/02
【公开号】CN105482716
【申请号】CN201510991866
【发明人】张中明
【申请人】佛山市纳铭精工科技有限公司
【公开日】2016年4月13日
【申请日】2015年12月23日