1.一种低渗透注水井用降压增注防垢剂，其中，所述防垢剂由包括下列组分的原料制备而成：非离子表面活性剂10-12份，三乙烯四胺六乙酸六钠盐18-20份，阴离子表面活性剂5-8份，有机膦酸羧酸阻垢剂6-8份，分散剂2-5份，稀释剂15-18份，有机胺盐8-10份，和水30-36份。
2.根据权利要求1所述的防垢剂，其中，所述防垢剂由包括下列组分的原料制备而成：非离子表面活性剂11份，三乙烯四胺六乙酸六钠盐18份，阴离子表面活性剂6份，有机膦酸羧酸阻垢剂6份，分散剂3份，稀释剂16份，有机胺盐8份，和水35份。
3.根据权利要求1或2所述的防垢剂，其中，所述非离子表面活性剂为聚氧乙烯型非离子表面活性剂；其中优选所述非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚或辛基酚聚氧乙烯醚或壬基酚聚氧乙烯醚。
4.根据权利要求1或2所述的防垢剂，其中，所述阴离子表面活性剂为水溶性磷酸盐类阴离子型氟碳表面活性剂，优选所述水溶性磷酸盐类阴离子型氟碳表面活性剂结构式为(RfCH2CH2O)nPO(ONH4)m Rf＝F(CF2CF2)xn+m＝3x＝1～7分子量在500～600。
5.根据权利要求1或2所述的防垢剂，其中，所述有机膦酸羧酸阻垢剂为2-磷酸基-1，2，4-三羧酸丁烷或乙二胺四甲叉膦酸钠。
6.根据权利要求1或2所述的防垢剂，其中，所述分散剂为乙二醇丁醚或乙二醇二丁醚。
7.根据权利要求1或2所述的防垢剂，其中，所述稀释剂为甲醇、乙醇或乙二醇。
8.根据权利要求1或2所述的防垢剂，其中，所述有机胺盐为单乙醇胺、三乙醇胺或二乙烯二胺。
9.权利要求1～8任意一项所述低渗透注水井用降压增注防垢剂的制备方法，其中，所述方法包括如下步骤：称取各成分，将有机膦酸羧酸阻垢剂、阴离子表面活性剂、和非离子表面活性剂加入水中，然后在搅拌下(优选搅拌速率为40～60R/min)加入有机胺盐和三乙烯四胺六乙酸六钠盐，然后进行反应，反应结束后加入稀释剂和分散剂，出料即得所述防垢剂；其中优选是在80-90℃下进行反应；更优选反应2-5h。
10.根据权利要求9所述的制备方法，其中，所述方法还包括在反应结束后降温至室温，然后加入稀释剂和分散剂。