一种化学机械抛光液的制作方法

技术特征：

技术总结
本发明提供了一种化学机械抛光液，所述化学机械抛光液包含氧化铈磨料、低聚糖及pH调节剂。本发明还提供了一种采用上述配方的化学机械抛光液在二氧化硅介质表面抛光中的应用。采用上述配方的化学机械抛光液，能够保持低的缺陷度的同时显著提高氧化铈磨料对二氧化硅介质材料的抛光速率。

技术研发人员：李守田;尹先升;贾长征;王雨春
受保护的技术使用者：安集微电子科技（上海）股份有限公司
技术研发日：2017.07.13
技术公布日：2019.01.22