2与实施例1的区别在于：16%重量的硫酸；7%重量的硝酸；0. 1%重量的醋酸； 1%的添加剂；余量的水。
[0019] 实施例3 实施例3与实施例1的区别在于：9%重量的硫酸；15%重量的硝酸；5%重量的醋酸； 0. 5%的添加剂；余量的水。
[0020] 实施例4 实施例4W实施例3为基础，实施例4与实施例3的区别在于其中含有醋盐型双子表面 活性剂，相应的减少余量水的含量。占ITO蚀刻液0. 5%重量百分比的阴离子双子表面活性 剂包含双十二烷氧基双憐酸钢盐、对苯二甲基双十二烷基憐酸醋钟盐和对苯二甲基双十六 烷基憐酸醋钟盐，其中对苯二甲基双十二烷基憐酸醋钟盐和对苯二甲基双十六烷基憐酸醋 钟盐的重量之和与双十二烷氧基双憐酸钢盐的重量比为2:1。 阳OW实施例5 实施例5与实施例4的区别在于，占ITO蚀刻液0. 5%重量百分比的阴离子双子表面活 性剂包含双十二烷氧基双憐酸钟盐和钢盐、对苯二甲基双辛烷基憐酸醋钢盐，双十二烧氧 基双憐酸钟盐和钢盐的重量之和与对苯二甲基双辛烷基憐酸醋钢盐的重量比为1:10。 阳0巧 实施例6 实施例6与实施例4的区别在于，占ITO蚀刻液0. 5%重量百分比的阴离子双子表面活 性剂包含双十二烷氧基双憐酸钟盐和对苯二甲基双辛烷基憐酸醋钢盐，两种物质的重量之 比为3:10。 阳〇2引实施例7 实施例7与实施例6的区别在于，ITO蚀刻液中还含有烷基酪聚氧乙締酸，相应的减 少余量水的含量。烷基酪聚氧乙締酸的重量占高世代平板用ITO蚀刻液的重量百分比为 0. 2%。烷基酪聚氧乙締酸具体为壬基酪聚氧乙締酸。
[0024] 实施例8 实施例8与实施例7的区别在于，烷基酪聚氧乙締酸的重量占高世代平板用ITO蚀刻 液的重量百分比为0. 6%。烷基酪聚氧乙締酸具体为二壬基酪聚氧乙締酸。 阳〇2引 实施例9 实施例9与实施例7的区别在于：烷基酪聚氧乙締酸的重量占高世代平板用ITO蚀刻 液的重量百分比为0.4%。烷基酪聚氧乙締酸具体为壬基酪聚氧乙締酸二壬基酪聚氧乙締酸 重量比1:1混合而成。 阳0%] 实施例10 实施例10与实施例9的区别在于，ITO蚀刻液中还含有抑雾剂，具体为油酸咪挫嘟，相 应的减少余量水的含量。油酸咪挫嘟占高世代平板用ITO蚀刻液的重量百分比为1%。 [0027] 实施例11 实施例11与实施例10的不同在于，ITO蚀刻液中的抑雾剂为油酸咪挫嘟和环烧酸咪 挫嘟2:1混合而成，抑雾剂占高世代平板用ITO蚀刻液的重量百分比为3%。 阳0測对比例（简称D) 对比例1不加入双子表面活性剂，其他组分含量与实施例4相同。
[0029] 将实施例1-11和对比例1所得ITO蚀刻液配置完成后，分别对试样进行蚀刻处 理，测量计算各试样的蚀刻速率，并且通过视觉观察蚀刻过程中酸雾和液面二氧化氮浓度 (酸雾和液面二氧化氮浓度及酸挥发量I-III级分级表示，I-III级酸雾和液面二氧化氮浓 度逐渐增多）
实施例3与实施例4、7、10之间对比发现，双子表面活性剂的加入可W优化蚀刻液的润 湿渗透能力和抑雾能力，采用多种表面活性剂进行复配还可对蚀刻液的润湿渗透能力和抑 雾能力起到一定的增效作用。
[0030] 抑雾剂还可W采用现有技术中常用的抑雾剂产品代替。
[0031] 对苯二甲基双辛烷基憐酸醋、对苯二甲基双十二烷基憐酸醋和对苯二甲基双十六 烷基憐酸醋对应的钟盐和钢盐具体指的憐酸醋盐选择范围为：对苯二甲基双辛烷基憐酸醋 钟盐、对苯二甲基双辛烷基憐酸醋钢盐、对苯二甲基双十二烷基憐酸醋钟盐、对苯二甲基双 十二烷基憐酸醋钢盐、对苯二甲基双十六烷基憐酸醋钟盐、对苯二甲基双十六烷基憐酸醋 钢盐。
[0032] W上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人 员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可W做出若干改进和润饰，运些改进和润饰 也应视为本发明的保护范围。
【主权项】
1. 一种高世代平板用ITO蚀刻液，其特征在于，其组分按重量百分比计包括： (1) 4~16%重量的硫酸； (2) 7~22%重量的硝酸； (3) 0. 1~10%重量的醋酸； (4) 0· 01~5%的添加剂； (5) 余量的水； 其中，所述添加剂中包含阴离子双子表面活性剂，所述阴离子双子表面活性剂为磷酸 盐型双子表面活性剂和/或磷酸酯盐型双子表面活性剂。2. 根据权利要求1所述的高世代平板用ΙΤ0蚀刻液，其特征在于，其组分按重量百分比 计包括： (1) 7~12%重量的硫酸； (2) 11~18%重量的硝酸； (3) 3~7%重量的醋酸； (4) 0· 5~2%的添加剂； (5) 余量的水； 所述添加剂中双子表面活性剂的重量占高世代平板用ΙΤ0蚀刻液的重量百分比为 0· 01 ~1%〇3. 根据权利要求1所述的高世代平板用ΙΤ0蚀刻液，其特征在于，所述磷酸盐型双子表 面活性剂为选自双十二烷氧基双磷酸钠盐和钾盐中的至少一种，所述磷酸酯盐型双子表面 活性剂为选自对苯二甲基双辛烷基磷酸酯、对苯二甲基双十二烷基磷酸酯和对苯二甲基双 十六烷基磷酸酯对应的钾盐和钠盐中的至少一种。4. 根据权利要求1所述的高世代平板用ΙΤ0蚀刻液，其特征在于，所述添加剂还包括 烷基酚聚氧乙烯醚，烷基酚聚氧乙烯醚的重量占高世代平板用ΙΤ0蚀刻液的重量百分比为 0. 2 ~0. 6%。5. 根据权利要求4所述的高世代平板用ΙΤ0蚀刻液，其特征在于，所述烷基酚聚氧乙烯 醚为选自壬基酚聚氧乙烯醚和二壬基酚聚氧乙烯醚中的至少一种。6. 根据权利要求3所述的高世代平板用ΙΤ0蚀刻液，其特征在于，所述添加剂中包含磷 酸盐型双子表面活性剂和磷酸酯盐型双子表面活性剂，磷酸盐型双子表面活性剂和磷酸酯 盐型双子表面活性剂的重量之比为（1~5) : 10。7. 根据权利要求1所述的高世代平板用ΙΤ0蚀刻液，其特征在于，所述添加剂中还含有 抑雾剂。8. 根据权利要求7所述的高世代平板用ΙΤ0蚀刻液，其特征在于，所述酸洗抑雾剂为咪 唑啉型缓蚀剂。9. 根据权利要求8所述的高世代平板用ΙΤ0蚀刻液，其特征在于，所述酸洗抑雾剂为选 自油酸咪唑啉和环烷酸咪唑啉中的至少一种。
【专利摘要】本发明公开了一种高世代平板用ITO蚀刻液，其组分按重量百分比计包括：4～16%重量的硫酸、7～22%重量的硝酸、0.1～10%重量的醋酸、0.01～5%的添加剂、余量的水；其中，所述添加剂中包含阴离子双子表面活性剂，所述阴离子双子表面活性剂为磷酸盐型双子表面活性剂和/或磷酸酯盐型双子表面活性剂。采用硫酸/硝酸/醋酸三酸系的ITO蚀刻体系，通过添加双子表面活性剂，解决了蚀刻ITO过程中的酸雾挥发、蚀刻表面温度局部升高硝酸分解的问题，提高了蚀刻液的工作稳定性，蚀刻所得线路边缘清晰无侧蚀，无针孔和缺口产生。
【IPC分类】C09K13/06
【公开号】CN105295923
【申请号】CN201510832036
【发明人】邵勇, 殷福华, 栾成, 赵文虎, 李英, 朱龙, 顾玲燕
【申请人】江阴江化微电子材料股份有限公司
【公开日】2016年2月3日
【申请日】2015年11月25日