清洗剂供给装置制造方法
【专利摘要】本实用新型公开一种清洗剂供给装置，涉及显示面板制造中的清洗技术，解决了现有技术中的清洗剂输送设备造成清洗剂原料的浪费，进而造成经济损失的问题。本实用新型实施例中，所述清洗剂供给装置，包括具有内腔的本体，所述内腔空间大小恒定；在所述本体外壁上，对应所述内腔设有入口及出口；所述本体内壁上设有推拉管，所述推拉管内壁固定连接有活动塞头，所述塞头密封所述内腔；所述塞头上连接有驱动单元，所述驱动单元能够驱动所述塞头带动所述推拉管沿所述本体内壁在第一位置和第二位置之间运动。本实用新型主要用于显示面板制造中。
【专利说明】清洗剂供给装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及显示面板制造中的清洗技术，尤其涉及一种清洗剂供给装置。
【背景技术】
[0002]目前,LCD(Liquid Crystal Display,液晶显示)显示器以其高显示效果、低功耗等优势倍受人们的青睐。
[0003]具体地，IXD显示器主要包括液晶面板，该液晶面板主要是由阵列基板和彩膜基板以及填充于两个基板之间的液晶构成；其主要工作原理是以电压控制液晶产生点、线、面并配合背部灯管构成画面。其中，在显示器的制造工艺中，第一步工序是用4升清洗剂混合200升纯净水(去离子水)的混合清洗液将阵列基板和彩膜基板冲洗干净并脱水甩干。现有技术中，如图1所示，当需要调配上述混合清洗液时，首先，排空清洗液箱a内剩余的混合清洗液(超过1440分钟的未用混合清洗液将含有杂质，影响后续使用)；其后，控制装置b向清洗剂输送设备的气泵c发送信号并使其开始工作；与此同时，清洗液箱a和清洗剂罐g之间的气动阀门d打开,气泵c向清洗液箱a内供给清洗剂；此时，流量计e开始计量,并把信息发送给流量表f ;最后，当流量表f显示为d升时，流量表f给控制装置b发送信号，设备运行程序b接收后反馈给气泵c使其停止工作，流量计e也停止计量；此时，清洗液箱a和清洗剂罐g之间的阀门d关闭，清洗剂供给完毕。之后,再向清洗液箱a内加入200升去离子水并对混合清洗液进行搅拌并加热处理，当清洗液箱a内的混合清洗液温度达到40度(优选适宜温度)时，便可以进行对基板的冲洗了。
[0004]在使用上述清洗剂输送设备进行清洗剂的供给过程中，在长期使用过程中，当流量表f或流量计e其中任何一个出现问题时，控制装置b便接收不到反馈信息，因此气泵c就会不停地往清洗液箱a内供给清洗剂，从而造成清洗剂原料的浪费，进而造成经济损失。
实用新型内容
[0005]本实用新型的实施例提供一种清洗剂供给装置，解决了现有技术中的清洗剂输送设备造成清洗剂原料的浪费，进而造成经济损失的问题。
[0006]为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案:
[0007]—种清洗剂供给装置，包括具有内腔的本体，所述内腔空间大小恒定；在所述本体外壁上，对应所述内腔设有入口及出口 ；所述本体内壁上设有推拉管，所述推拉管内壁固定连接有活动塞头，所述塞头密封所述内腔；所述塞头上连接有驱动单元，所述驱动单元能够驱动所述塞头带动所述推拉管沿所述本体内壁在第一位置和第二位置之间运动；所述推拉管上设有第一通孔和第二通孔；当所述推拉管位于第一位置时，所述第一通孔与所述入口导通、所述推拉管密封所述出口，且通过所述入口向所述内腔中注入清洗剂；当所述推拉管从所述第一位置向所述第二位置运动时，所述第二通孔与所述出口导通、所述推拉管密封所述入口，且通过所述出口将所述内腔中的所述清洗剂排出。
[0008]其中，所述本体为中空圆柱状结构；在同一竖直面内，所述入口位于底端、所述出口位于顶端，且所述入口临近所述第一位置设置，所述出口临近所述第二位置设置。
[0009]具体地，所述塞头为与所述本体横截面匹配的圆柱体结构，且所述塞头通过推拉杆与所述驱动单元连接，所述推拉杆穿设过所述塞头中心位置处；所述推拉杆一端位于所述内腔中、另一端穿设出所述本体并与所述驱动单元固定连接。
[0010]进一步地，所述驱动单元为气缸或伺服电机。
[0011]实际应用时，在所述第二位置处，所述本体上设有与所述推拉杆一端相匹配的凹槽，所述出口对应所述凹槽位置设置；所述凹槽内设有复位开关，当所述推拉管位于所述第二位置时，所述推拉杆一端能够触动所述复位开关；当所述推拉管从所述第二位置向所述第一位置运动时，所述复位开关复位。
[0012]其中，所述本体上还设有位置传感器，当所述推拉管位于所述第一位置时，所述推拉管端部能够触发所述位置传感器。
[0013]具体地，所述位置传感器为压力传感器。
[0014]实际应用时，所述凹槽的侧壁上设有镂空结构，所述镂空结构与所述内腔导通，且所述镂空结构内设有液位传感器。
[0015]其中，所述液位传感器包括设在镂空结构内壁上的感应线圈，以及始终位于所述镂空结构内的浮球；所述浮球能够随所述内腔中的清洗剂的液面升、降而运动，并与所述感应线圈相匹配。
[0016]具体地，所述 气缸、复位开关、位置传感器以及液位传感器均连接有控制单元。
[0017]本实用新型实施例提供的清洗剂供给装置中，包括具有空间大小恒定的内腔的本体，且在本体外壁上，对应内腔设有连通的入口及出口 ；本体内壁上还设有推拉管，且推拉管内壁固定连接有活动塞头，该塞头用于密封内腔；塞头上连接有驱动单元，该驱动单元能够驱动塞头带动推拉管沿本体内壁在第一位置和第二位置之间运动；推拉管上设有第一通孔和第二通孔；当推拉管位于第一位置时(初始位置)，第一通孔与入口导通、推拉管密封出口，且通过入口向内腔中注入清洗剂；当推拉管从第一位置(初始位置)向第二位置(末端位置)运动时，第二通孔与出口导通、推拉管密封入口，且通过出口将内腔中的清洗剂排出。由此分析可知，当需要调配混合清洗液时，推拉管处于初始位置，清洗剂供给装置的入口导通、出口封闭，清洗剂罐通过入口向内腔中注满清洗剂；其后，在驱动单元的驱动下塞头带动推拉管沿本体内壁从初始位置向末端位置运动，与此同时，清洗剂供给装置的出口导通、入口封闭，内腔中的清洗剂便通过出口向清洗液箱中进行供给。由于本实施例的清洗剂供给装置的内腔空间大小恒定，因此通过预先将清洗剂注入本实施例中的清洗剂供给装置中，再通过该供给装置向清洗液箱中注入清洗剂，因此能够保证清洗液箱中的清洗剂容量与供给装置的内腔空间容积一致，即供给装置中的清洗剂全部排出到清洗液箱中，由于本实施例中的供给装置内腔为密封结构且空间大小恒定，因此注入其内的清洗剂容量可控，避免了清洗剂原料的浪费，进而避免了经济损失。
【专利附图】
【附图说明】
[0018]图1为现有技术中的清洗剂输送设备示意图；
[0019]图2为本实用新型实施例提供的清洗剂供给装置结构示意图。
[0020]图中，a为清洗液箱；b为控制装置；c为气泵；d为气动阀门^为流量计；f为流量表；g为清洗剂罐；1为清洗剂供给装置本体、11为入口、12为出口、13为凹槽；2为推拉管、21为第一通孔、22为第二通孔；3为活动塞头；4为驱动单元；5为推拉杆；6为复位开关；7为位置传感器；8为液位传感器。
【具体实施方式】
[0021]下面结合附图对本实用新型实施例一种清洗剂供给装置，进行详细描述。
[0022]本实用新型实施例提供一种清洗剂供给装置，如图2所示，包括具有内腔的本体1，内腔空间大小恒定；在本体I外壁上，对应内腔设有入口 11及出口 12 ;本体I内壁上设有推拉管2，推拉管2内壁固定连接有活动塞头3，塞头3密封内腔；塞头3上连接有驱动单元4，驱动单元4能够驱动塞头3带动推拉管2沿本体I内壁在第一位置和第二位置之间运动；推拉管2上设有第一通孔21和第二通孔22 ;当推拉管2位于第一位置时，第一通孔21与入口 11导通、推拉管2密封出口 12，且通过入口 11向内腔中注入清洗剂；当推拉管2从第一位置向第二位置运动时，第二通孔22与出口 12导通、推拉管2密封入口 11，且通过出口 12将内腔中的清洗剂排出。
[0023]本实用新型实施例提供的清洗剂供给装置中，包括具有空间大小恒定的内腔的本体，且在本体外壁上，对应内腔设有连通的入口及出口 ；本体内壁上还设有推拉管，且推拉管内壁固定连接有活动塞头，该塞头用于密封内腔；塞头上连接有驱动单元，该驱动单元能够驱动塞头带动推拉管沿本体内壁在第一位置和第二位置之间运动；推拉管上设有第一通孔和第二通孔；当推拉管位于第一位置时(初始位置)，第一通孔与入口导通、推拉管密封出口，且通过入口向内腔中注入清洗剂；当推拉管从第一位置(初始位置)向第二位置(末端位置)运动时，第二通孔与出口导通、推拉管密封入口，且通过出口将内腔中的清洗剂排出。由此分析可知，当需要调配混合清洗液时，推拉管处于初始位置，清洗剂供给装置的入口导通、出口封闭，清洗剂罐通过入口向内腔中注满清洗剂；其后，在驱动单元的驱动下塞头带动推拉管沿本体内壁从初始位置向末端位置运动，与此同时，清洗剂供给装置的出口导通、入口封闭，内腔中的清洗剂便通过出口向清洗液箱中进行供给。由于本实施例的清洗剂供给装置的内腔空间大小恒定，因此通过预先将清洗剂注入本实施例中的清洗剂供给装置中，再通过该供给装置向清洗液箱中注入清洗剂，因此能够保证清洗液箱中的清洗剂容量与供给装置的内腔空间容积一致，即供给装置中的清洗剂全部排出到清洗液箱中，由于本实施例中的供给装置内腔为密封结构且空间大小恒定，因此注入其内的清洗剂容量可控，避免了清洗剂原料的浪费，进而避免了经济损失。
[0024]其中，通过清洗剂箱向供给装置注入清洗剂时，为了保证清洗剂供给量的可控性，即当供给装置的内腔中注满清洗剂时，停止注入操作，可以通过将供给装置的出口区域处设置观察窗，从而通过操作人员肉眼观察即可控制清洗剂的供入量；或将供给装置的本体设为透明结构等；也可以通过在本体的内腔中设置液位传感器，并通过与液位传感器相连接的控制装置来控制。
[0025]此处需要说明的是，上述本体上设有使推拉管从第一位置运动到第二位置的运动空间(图2中未示出)，且推拉管为外直径与内腔横截面直径相一致的圆环体，并设置在活动塞头与本体内壁之间；本体中内腔的恒定空间大小可以为4立方分米，以方便4升清洗剂混合200升去离子水搅拌形成混合清洗液；另外，本实施例提供的清洗剂供给装置的本体和推拉管可以选为钢制材料等，同时为了提高活动塞头的密封效果，赛头可以选为橡胶材料等，优选为防酸和/或防碱的橡胶材料，以防止长期使用时被清洗剂腐蚀。
[0026]其中，本体I的结构可以有多种，例如可以为中空长方体结构，也可以设置为中空圆柱状结构，本实施例中以后为例。在同一竖直面内，入口 11位于底端且临近第一位置处设置，出口 12位于顶端且临近第二位置处设置，当推拉管2位于初始位置时，通过入口 11向内腔中注入清洗剂，因此入口 11的位置可以具体不做限制，只要保证注入清洗剂时开启、排出清洗剂时关闭即可；当推拉管2位于末端位置时，通过出口 12将内腔中的清洗剂全部排到清洗液箱中，因此为了保证清洗剂顺利全部排出，出口的设置位置需要对应末端位置设置，因此本实施例中入口临近第一位置(初始位置)设置，是为了方便推拉管2的结构设计和制造，方便整体装配、控制。
[0027]具体地，如图2所示，起密封作用的塞头3为与本体I横截面相匹配的圆柱体结构，即塞头3的外壁与推拉管2的内壁紧密接触，从而通过塞头3、推拉管2以及本体I共同构成空间大小恒定的内腔。在实际应用时，塞头3通过推拉杆5与驱动单元4固定连接，即驱动单元4控制推拉杆5带动塞头3运动，这其中，推拉杆5穿设过塞头3，且与塞头3之间密封，优选为过盈配合连接，且为了供给装置的整体装配，推拉杆5穿设过塞头3中心位置处。另外，推拉杆5可以设置为一端位于内腔中，方便挤压清洗剂并将其排出，另一端可以穿设出本体I并与驱动单元4固定连接,将驱动单元4提供的动力传送给活动塞头3,使其带动推拉管2进行往返运动。图2中，本体I远离内腔的部分设有延伸部分，且延伸部分符合本体I整体的圆柱体结构，从而控制推拉杆5的另一端穿设出本体I延伸部分的底面中心处，即底面设有与推拉杆结构匹配的通孔，从而保证推拉杆5整体装配的稳定性。
[0028]进一步地，驱动单元4可以为工业常用的气缸或伺服电机等，且该驱动单元4可以连接有控制装置b，从而便于电动控制，节约人力等。
[0029]上述实施例已提到，推拉管2在第一位置和第二位置之间往复运动时，能够控制入口 11、出口 12的开启和关闭，即控制第一通孔21与入口 11、第二通孔22和出口 12之间的相对位置关系，具体地，推拉管2可以设为与本体I结构相符的中空圆柱体结构，其中，第一通孔21和第二通孔22可以均为沿推拉管2周向方向设置的长方形孔等。当推拉管2位于第一位置时，第一通孔21的边缘端与入口 11导通，从而当推拉管2从第一位置开始运动时，能够使推拉管2未设置通孔的实体区域将入口 11关闭；当推拉管2位于第一位置时，推拉管2未设置通孔的实体区域将出口 12关闭，且推拉管2上的第二通孔22的边缘端临近出口 12设置，从而当推拉管2从第一位置开始运动时，能够使推拉管2的第二通孔22与出口 21导通，便于清洗剂的及时排出。
[0030]实际应用时，如图2所示，在内腔末端位置处，本体I上设有与推拉杆5内腔处的一端相匹配的凹槽13，即凹槽13的内径与推拉杆5位于内腔中的一端的外径相匹配，两者之间可以为间隙配合，以保证推拉杆5运动的平稳性。图2中，出口 12对应内腔末端凹槽13位置处设置，即推拉杆5位于内腔中的一端运动至凹槽13内时，即为末端位置处。为了确定内腔中的清洗剂已全部供给清洗液箱a，凹槽13内可以设有复位开关6 (凹槽底端)，当推拉管2位于第二位置时，推拉杆5位于内腔中的一端端部能够触动复位开关6，结合图1所示，即推拉管2可以触压到复位开关6的压力传感器，使其将信号输送给控制装置b，控制装置b控制气动阀门d关闭；当推拉管2从第二位置向第一位置运动时，复位开关6复位，以便进行下一次的清洗剂供给操作。
[0031]其中，本体I上还可以设有位置传感器7，位置传感器7可以设置在初始位置时的推拉管2临近驱动单元4的一侧端点区域位置处，如图2所示，当推拉管2位于第一位置时，推拉管2端部能够触发所述位置传感器7。具体地，位置传感器7可以为压力传感器；当推拉管2从第二位置运动至第一位置时，其临近驱动单元4的一侧刚好完全触压到压力传感器时的位置，从而能够通过推拉管2触发该压力传感器，使其发送电信号至控制装置b中。
[0032]实际应用时，凹槽13的临近出口 12处的侧壁上还可以设有镂空结构，该镂空结构与内腔导通，且其内可以设有液位传感器8，用于确定清洗剂罐g向本清洗剂供给装置输送了 4L清洗剂时，及时反馈电信号给控制装置b，从而控制气泵c等停止工作，即停止向供给装置的内腔中继续注入清洗剂。
[0033]具体地,如图2所示,液位传感器8可以包括设在镂空结构内壁上的感应线圈，以及始终位于镂空结构内的(磁性)浮球；浮球能够随内腔中的清洗剂的液面升、降而运动，并与感应线圈相匹配。结合图1所示，即当磁性浮球运动到感应线圈位置处时，说明供给装置已装满4L清洗剂，液位传感器8将感应信号输送给控制装置b，控制装置b控制气泵c停止继续从清洗剂罐g中向本供给装置中输送清洗剂。
[0034]本实施例中，具体可以为上述驱动单元4 (气缸)、复位开关6、位置传感器7以及液位传感器8均连接有控制单元，即控制装置b。该控制装置b控制清洗剂供给装置及整个清洗剂输送设备的协调工作。
[0035]下面借助图1和图2对上述实施例描述的清洗剂供给装置的输送过程进行详细的说明。
[0036]当清洗液箱a中的混合清洗液满足如下条件中的任意一个时(使用时间超过了1440分钟；共清洗了 140张基板；液位低于60升)，清洗剂输送设备都会重新调配混合清洗液。首先，排空清洗液箱a内剩余的混合清洗液；其后，控制装置b向清洗剂输送设备的气泵c发送信号，并使其开始从清洗剂罐g中向清洗剂供给装置的本体I内腔中输送清洗剂，此时推拉管2的第一通孔21与入口 11导通、推拉管2的实体区域将出口 12密封，此时推拉管2处于第一位置处，如图2所示；之后，当清洗剂向供给装置的输送量为4升时，液位传感器8发生感应，并向控制装置b发送信号，控制装置b控制气泵c停止继续从清洗剂罐g中向本供给装置中输送清洗剂；当设备运行程序b接收到需要向清洗液箱a中输送清洗剂的信号时，其控制清洗液箱a和清洗剂罐g之间的气动阀门d打开，驱动单元4开始驱动活动塞头3带动推拉管2沿本体I内壁从第一位置向第二位置运动，即从初始位置向末端位置运动，与此同时，推拉管2的第二通孔22与出口 12导通、推拉管2的实体区域将入口 11密封；供给装置本体I内腔中的清洗剂受到塞头3和推拉杆5的推力，将慢慢从出口 12处流出并向清洗液箱a中供给，此时液位传感器8中的浮球也随内腔中的清洗剂的液面下降而向下运动；当推拉管2处于第二位置处时，供给装置中的4升清洗剂全部输送给清洗液箱a，此时液位传感器8中的浮球已降到镂空结构内的最底端，并且推拉杆5可以触压到复位开关6的压力传感器，使其将信号输送给控制装置b，控制装置b控制气动阀门d关闭，供给装置将不再继续向清洗液箱a中输送清洗剂；最后，当驱动单元4开始驱动活动塞头3带动推拉管2沿本体I内壁从末端位置运动至初始位置时，推拉管2临近驱动单元4的一侧刚好完全触压到位置传感器7，且同时复位开关6复位，以便进行下一次的清洗剂供给操作。之后,再向清洗液箱a内加入200升去离子水并对混合清洗液进行搅拌并加热处理，当清洗液箱a内的混合清洗液温度达到40度时，便可以进行对基板的冲洗使用了。
[0037]以上所述，仅为本实用新型的【具体实施方式】，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本【技术领域】的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
【权利要求】
1.一种清洗剂供给装置，其特征在于，包括具有内腔的本体，所述内腔空间大小恒定；在所述本体外壁上，对应所述内腔设有入口及出口 ； 所述本体内壁上设有推拉管，所述推拉管内壁固定连接有活动塞头，所述塞头密封所述内腔；所述塞头上连接有驱动单元，所述驱动单元能够驱动所述塞头带动所述推拉管沿所述本体内壁在第一位置和第二位置之间运动； 所述推拉管上设有第一通孔和第二通孔；当所述推拉管位于第一位置时，所述第一通孔与所述入口导通、所述推拉管密封所述出口，且通过所述入口向所述内腔中注入清洗剂；当所述推拉管从所述第一位置向所述第二位置运动时，所述第二通孔与所述出口导通、所述推拉管密封所述入口，且通过所述出口将所述内腔中的所述清洗剂排出。
2.根据权利要求1所述的清洗剂供给装置，其特征在于，所述本体为中空圆柱状结构；在同一竖直面内，所述入口位于底端、所述出口位于顶端，且所述入口临近所述第一位置设置，所述出口临近所述第二位置设置。
3.根据权利要求2所述的清洗剂供给装置，其特征在于，所述塞头为与所述本体横截面匹配的圆柱体结构，且所述塞头通过推拉杆与所述驱动单元连接，所述推拉杆穿设过所述塞头中心位置处； 所述推拉杆一端位于所述内腔中、另一端穿设出所述本体并与所述驱动单元固定连接。
4.根据权利要求3所述的清洗剂供给装置，其特征在于，所述驱动单元为气缸或伺服电机。
5.根据权利要求3或4所述的清洗剂供给装置，其特征在于，在所述第二位置处，所述本体上设有与所述推拉杆一端相匹配的凹槽，所述出口对应所述凹槽位置设置； 所述凹槽内设有复位开关，当所述推拉管位于所述第二位置时，所述推拉杆一端能够触动所述复位开关；当所述推拉管从所述第二位置向所述第一位置运动时，所述复位开关复位。
6.根据权利要求5所述的清洗剂供给装置，其特征在于，所述本体上还设有位置传感器，当所述推拉管位于所述第一位置时，所述推拉管端部能够触发所述位置传感器。
7.根据权利要求6所述的清洗剂供给装置，其特征在于，所述位置传感器为压力传感器。
8.根据权利要求6或7所述的清洗剂供给装置，其特征在于，所述凹槽的侧壁上设有镂空结构，所述镂空结构与所述内腔导通，且所述镂空结构内设有液位传感器。
9.根据权利要求8所述的清洗剂供给装置，其特征在于，所述液位传感器包括设在镂空结构内壁上的感应线圈，以及始终位于所述镂空结构内的浮球； 所述浮球能够随所述内腔中的清洗剂的液面升、降而运动，并与所述感应线圈相匹配。
10.根据权利要求9所述的清洗剂供给装置，其特征在于，所述气缸、复位开关、位置传感器以及液位传感器均连接有控制单元。
【文档编号】B67C3/28GK203781816SQ201420216567
【公开日】2014年8月20日 申请日期:2014年4月29日 优先权日:2014年4月29日
【发明者】孙文昌 申请人:北京京东方光电科技有限公司, 京东方科技集团股份有限公司