补药工作台的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及补药装置，尤其是涉及一种补药工作台。
【背景技术】
[0002]补药台用于给发药机补药，现有的补药台虽然能够补药，但是药盒通过滑道滑入发药机时，往往会由于摩擦力太大而在滑道上卡住，影响后续的补药，因此需要安排人手专门补药，以便于在卡住的时候能够及时调整药盒，确保补药顺畅。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型为了解决目前药盒容易卡在滑道上的问题，为此提供了一种补药工作台，包括电脑平台1，在电脑平台I下方设有至少一个倾斜的升降滑道2，每个升降滑道2的下方均设有一升降装置，升降滑道2的侧壁和底面之间的夹角a大于90°。
[0004]本实用新型补药工作台，所述升降滑道2上还涂有一层特氟龙涂料。
[0005]本实用新型补药工作台，所述升降滑道2的下方设有一底板6，升降装置包括安装板7、电机3、齿轮4和齿条5，电机3固定在安装板7上，齿轮4与电机3连接，齿轮3与齿条4配合使齿条4能够升降，在齿条4的一侧固定有检测挡片8，在安装板7上设有上检测光耦9和下检测光耦10，当齿条带动检测挡片升至上检测光耦的位置时，齿条的顶部将升降滑道2的下端顶起；当齿条带动检测挡板降至下检测光耦的位置时，升降滑道的下端下落，药盒落下。
[0006]本实用新型的有益效果是:
[0007]由于药盒都是四方体，本实用新型将滑道的侧壁和底面之间的角度设为钝角，将原本药盒与滑道的面接触改成了线接触，减小了摩擦力，有效的避免了药盒卡在滑道上，保证补药顺畅。
【附图说明】
[0008]本实用新型将通过例子并参照附图的方式说明，其中:
[0009]图1是本实用新型的立体示意图；
[0010]图2是本实用新型的前视图；
[0011]图3是本实用新型的后视图；
[0012]图4是图2中局部B的示意图；
[0013]图5是图3中局部A的示意图。
【具体实施方式】
[0014]本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。
[0015]本说明书中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。
[0016]如图1-5所示的补药工作台，包括电脑平台1，在电脑平台I下方设有至少一个倾斜的升降滑道2，所述升降滑道2上涂有一层特氟龙涂料，且升降滑道2的侧壁和底面之间的夹角a大于90°，优选为93°。每个升降滑道2的下方均设有一升降装置，所述升降滑道2的下方设有一底板6，升降装置包括安装板7、电机3、齿轮4和齿条5，电机3固定在安装板7上，齿轮4与电机3连接，齿轮3与齿条4配合使齿条4能够升降，在齿条4的一侧固定有检测挡片8，在安装板7上设有上检测光耦9和下检测光耦10，当齿条带动检测挡片升至上检测光耦的位置时，齿条的顶部将升降滑道2的下端顶起；当齿条带动检测挡板降至下检测光耦的位置时，升降滑道的下端下落，药盒落下进入发药机。由于药盒都是四方体，本实用新型将滑道的侧壁和底面之间的角度设为钝角，将原本药盒与滑道的面接触改成了线接触，减小了摩擦力，有效的避免了药盒卡在滑道上，保证补药顺畅。
[0017]本实用新型并不局限于前述的【具体实施方式】。本实用新型扩展到任何在本说明书中披露的新特征或任何新的组合，以及披露的任一新的方法或过程的步骤或任何新的组入口 ο
【主权项】
1.一种补药工作台，包括电脑平台(1)，其特征是:在电脑平台(I)下方设有至少一个倾斜的升降滑道(2)，每个升降滑道(2)的下方均设有一升降装置，升降滑道(2)的侧壁和底面之间的夹角a大于90°。2.根据权利要求1所述的补药工作台，其特征是:所述升降滑道(2)上还涂有一层特氟龙涂料。3.根据权利要求1所述的补药工作台，其特征是:所述升降滑道(2)的下方设有一底板(6)，升降装置包括安装板(7)、电机(3)、齿轮(4)和齿条(5)，电机(3)固定在安装板(7)上，齿轮(4)与电机(3)连接，齿轮(3)与齿条(4)配合使齿条(4)能够升降，在齿条(4)的一侧固定有检测挡片(8)，在安装板(7)上设有上检测光耦(9)和下检测光耦(10)。
【专利摘要】本实用新型公开了一种补药工作台，包括电脑平台（1），在电脑平台（1）下方设有至少一个倾斜的升降滑道（2），每个升降滑道（2）的下方均设有一升降装置，升降滑道（2）的侧壁和底面之间的夹角a大于90°。由于药盒都是四方体，本实用新型将滑道的侧壁和底面之间的角度设为钝角，将原本药盒与滑道的面接触改成了线接触，减小了摩擦力，有效的避免了药盒卡在滑道上，保证补药顺畅。
【IPC分类】B65G1/04
【公开号】CN204916837
【申请号】CN201520617819
【发明人】顾林军, 徐鹏飞
【申请人】江苏达瑞医疗科技有限公司
【公开日】2015年12月30日
【申请日】2015年8月17日