1.一种二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：包括有依工件传送顺序依次设置的溶剂预浸槽、稀胶预浸槽、含浸槽；
所述溶剂预浸槽内设置有溶剂预浸滚轮, 所述溶剂预浸滚轮的转动方向与工件前进方向一致；
所述稀胶预浸槽内设置有稀胶预浸滚轮, 所述稀胶预浸滚轮的转动方向与工件前进方向相反；
所述含浸槽内设置有含浸滚轮组, 所述含浸滚轮组包括有第一下沉含浸滚轮、外露含浸滚轮及第二下沉含浸滚轮；所述外露含浸滚轮所在高度均高于第一下沉含浸滚轮、第二下沉含浸滚轮所在高度。
2.根据权利要求1所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述第一下沉含浸滚轮设置有一个；所述外露含浸滚轮和第二下沉含浸滚轮的设置数量相等,两者均为一个以上。
3.根据权利要求1所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述含浸槽的输出侧设置有并排设置的两个挤胶轮。
4.根据权利要求1所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述溶剂预浸槽与稀胶预浸槽之间设置有第一导向定位滚轮,所述稀胶预浸槽与含浸槽之间设置有第二导向定位滚轮。
5.根据权利要求4所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述溶剂预浸滚轮所在高度高于稀胶预浸滚轮所在高度。
6.根据权利要求5所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述第一导向定位滚轮所在高度低于溶剂预浸滚轮所在高度且高于稀胶预浸滚轮所在高度。
7.根据权利要求6所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述第二导向定位滚轮至少设置有两个；该两个第二导向定位滚轮中,其一第二导向定位滚轮衔接于稀胶预浸滚轮的输出侧,另一第二导向定位滚轮衔接于第一下沉含浸滚轮的输入侧,前述其一第二导向定位滚轮所在高度低于另一第二导向定位滚轮所在高度。