技术总结
本实用新型公开一种二次预浸式半固化片含浸装置，包括依工件传送顺序依次设置的溶剂预浸槽、稀胶预浸槽、含浸槽；所述溶剂预浸槽内设置有溶剂预浸滚轮,溶剂预浸滚轮的转动方向与工件前进方向一致；稀胶预浸槽内设置有稀胶预浸滚轮,稀胶预浸滚轮的转动方向与工件前进方向相反；含浸槽内设置有含浸滚轮组,含浸滚轮组包括有第一下沉含浸滚轮、外露含浸滚轮及第二下沉含浸滚轮；外露含浸滚轮所在高度均高于第一下沉含浸滚轮、第二下沉含浸滚轮所在高度。藉此，玻璃布经过了溶剂预浸槽的第一次预浸处理后再经过稀胶预浸槽的第二次预浸处理，最后进入含浸槽，从而使含浸效果达到最佳，本实用新型具有可实现性难度低，成本低的特点。
技术研发人员：冯吉成;罗家宝;蒋勇新;杨庆飞;罗孝普;胡俊青
受保护的技术使用者：东莞联茂电子科技有限公司
技术研发日：2017.12.28
技术公布日：2018.09.11