专利名称：一种用于还原气体气氛平衡的坩埚的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种用于还原气体气氛平衡的坩埚。
背景技术：
目前荧光粉生产大都需要经过高温烧结，陶瓷坩埚可作为其烧结时用的容器。对 于钇铝石榴石(YAG)等需要还原的荧光粉来说，烧结步骤可在高温管式炉中通入还原气体 还原，也可在密闭的坩埚内利用碳粉等生成CO作为还原剂。以上两种方法各有优势，其中， 后一种方法可在简单、廉价的高温箱式炉中使用。但传统的双层坩埚成倒“凸”字形，烧结 YAG时，碳粉放置在底层，而待烧结的YAG粉放置在第二层上，因第二层空间有限，无法满足 工业生产的需求。CN1308503C中公开了一种用于锂气氛气相传输平衡方法的坩埚，该坩埚是A1203 陶瓷坩埚，由坩埚、架角、中间隔板和坩埚盖构成，在该坩埚内安置该架角，在该架角上放置 该中间隔板，该中间隔板上开设有若干通气孔和供样品放置的细槽，坩埚盖的边沿设有与 坩埚的周边相配合的环行凹槽。这样的坩埚对于晶体生长的气相传输平衡方法有用，但是 对于YAG这种粉体物料的气相传输并不适合，不能使物料的气氛保持一致。
实用新型内容本实用新型要解决的技术问题是现有可用于还原气体气氛平衡的坩埚无法满足 生产对于物料承载空间的问题。本实用新型提供一种用于还原气体气氛平衡的坩埚，该坩埚包括坩埚本体、坩埚 盖，所述坩埚还含有位于坩埚壁上、可用于承托物料烧结容器的数个卡槽或突起，所述卡槽 的个数为大于等于2的整数，突起的个数为大于等于4的双数。当承托物料烧结容器的为卡槽时，物料烧结容器(如烧舟)可以直接卡入卡槽内， 从而得以固定。当承托物料烧结容器的为突起时，物料烧结容器(如烧舟)可架设于两个突起之 间。本实用新型提供的坩埚能在整个盖实的密闭环境中分层放置不同原料进行烧结， 且有利于扩大烧结原料与还原气体的接触面积从而有利于烧结反应的发生。能应用在普通 的箱式电炉中，且使用方便，适合工业化生产。
图1为本实用新型的一种设有突起的坩埚的正面剖视示意图；图2为与实用新型坩埚配合使用的烧舟的俯视图；图3为图2中A-A向剖视示意图；图4为本实用新型的一种设有突起的坩埚配合烧舟使用状态的侧面剖视示意图；图5为图1中配合烧舟使用状态的正面剖视示意图；[0014]图6为本实用新型的一种设有卡槽的坩埚配合烧舟使用状态的正面剖视示意图；图7为本实用新型的另一种设有卡槽的坩埚配合烧舟使用状态的正面剖视示意 图；其中，附图标记11、坩埚本体；12、突起；13、坩埚盖；14、卡槽；2、放置还原碳粉的空间。
具体实施方式
为了使本实用新型所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下 结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施 例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。一种用于还原气体气氛平衡的坩埚，该坩埚包括坩埚本体11、坩埚盖13，所述坩 埚还含有位于坩埚壁上、可用于承托物料烧结容器的数个卡槽14或突起12，所述卡槽的个 数为大于等于2的整数，突起的个数为大于等于4的双数。所述物料烧结容器为本领域的技术人员公知的各种耐烧结温度同时又不与物料 发生反应的容器，比如烧舟。所述烧舟3的俯视图如图2所示，为中间设有凹槽的陶瓷体； 所述图3为图2中A-A向剖视示意图。烧舟3中间的凹槽可用于盛放烧结物料，如待烧结 的YAG粉。坩埚本体11的形状为本领域的技术人员公知的各种形状，本实用新型中的坩埚 本体的形状可以为圆筒型、方盒型、梯形、倒“凸”字形、碗形中的一种。优选地，所述坩埚本体11的形状为方盒型，坩埚本体的形状为方盒型可以比较方 便设置卡槽或者突起的空间位置，方便物料烧结容器的取出和放置，同时，较大程度地合理 分化了坩埚内的空间，有利于需要还原气体气氛平衡的情况，如烧结YAG时。所述坩埚本体的形状为方盒型，所述数对突起分别对称分布在坩埚的两个相对的 壁上，突起所在的两个壁均垂直于坩埚底面，坩埚盖所在的平面与坩埚底面相平行。优选 地，与突起所在的壁相邻接的两个平面分别为第一平面、第二平面，靠近第一平面设有相互 平行的数个第一排突起，靠近第二平面设有相互平行的数个第二排突起，与第一排突起相 对的壁上对称设有第三排突起，与第二排突起相对的壁上对称设有第四排突起，所述沿第 一排突起的突起轨迹形成的直线为第一直线，沿第二排突起的突起轨迹形成的直线为第二 直线，第一直线与第二直线不相同且相互平行。突起成对分别对称分布在坩埚的两个相对 的壁上，如图4或图5所示，承托烧舟时，只要将烧舟架设在两个对称分布的突起之间即可， 烧舟的两端被突起承托住，烧舟的中间架设于坩埚的空间中，烧舟比较稳定，而且烧舟非常 容易放置。所述图1为本实用新型的突起对称分布在坩埚的两个相对的壁上的一种坩埚的 正面剖视示意图；作为本实用新型公开的坩埚的一种实施方式，如图1所示，该坩埚中的突 起个数为8个；图5为上述坩埚配合烧舟使用状态的正面剖视示意图，从图5中可以看出 烧舟架设在两个对称分布的突起之间，各烧舟在空间上相互平行。与突起所在的某个壁相 邻接的两个平面分别为第一平面、第二平面，如图4所示，靠近第一平面(即图4中的左边 2个突起，)设有相互平行的2个第一排突起(即图4中的左边2个相互平行的突起，也即 图1中左边2个未被剖开的突起)，靠近第二平面设有相互平行的2个第二排突起(即图4中的右边2个相互平行的突起，也即图1中左边2个被剖开的突起)，与第一排突起相对 的壁上对称设有第三排突起，与第二排突起相对的壁上对称设有第四排突起，所述沿第一 排突起的突起轨迹形成的直线为第一直线，沿第二排突起的突起轨迹形成的直线为第二直 线，第一直线与第二直线不相同且相互平行。即第一排突起与第二排突起在空间上相互交 错，如图4所示为上述坩埚配合烧舟使用状态的侧面剖视示意图；从图4中可以清楚地看出 第一排突起与第二排突起在空间上相互交错。所述坩埚本体的形状为方盒型，所述数个卡槽均设在坩埚的一个壁上(如图6所 示)或均勻分布在两个相对的壁上(如图7所示)，卡槽所在的壁垂直于坩埚底面，坩埚盖 所在的平面与坩埚底面相平行。优选地，与卡槽所在的壁相邻接的两个平面分别为第一平 面、第二平面，靠近第一平面设有相互平行的数个第一排卡槽，靠近第二平面设有相互平行 的数个第二排卡槽，所述沿第一排卡槽的卡槽轨迹形成的直线为第一直线，沿第二排卡槽 的卡槽轨迹形成的直线为第二直线，第一直线与第二直线不相同且相互平行。所述的卡槽 14如图6所示，烧结容器烧舟被卡在卡槽内得以固定，图6中的卡槽14的个数为3个，其 中，第一排卡槽的个数为1个，第二排卡槽的个数为2个。所述的卡槽14如图7所示，烧结 容器烧舟被卡在卡槽内得以固定，图7中的卡槽14均勻分布在两个相对的壁上，卡槽的个 数为4个，其中，第一排卡槽的个数为2个，第二排卡槽的个数为2个。所述卡槽或突起在所在的壁上延伸的长度占所在壁长度的1/4-2/5 ；优选为2/5， 如图4所示，此时，烧舟比较容易放置；卡槽或突起在所在的壁上延伸的长度占所在壁长度 最好不超过1/2，超过1/2，那么就不能设置成两排突起或凹槽了，那么烧结空间的设置就 不能更大限度地排布物料烧结容器。所述卡槽的个数优选为大于等于3的整数，突起的个数优选为大于等于8的双数； 卡槽或者突起的个数越多，那么坩埚的空间被划分地越多，越有利于放置更多的物料，但是 因物料烧结容器有一定的高度，所以可以根据坩埚的空间而适当地设置突起或卡槽的个 数。具体的来说，烧结容器的高度比垂直方向上两相邻的突起高度差要小一些，烧结容器的 的宽度要小于坩埚内部的长度才能方便烧结容器的自由取出，放入的顺序是自下而上，先 放置最靠近坩埚底部的突起或者卡槽上的烧结容器，再逐渐放置高放置的烧结容器，放置 过程始终保持烧结容器的水平，取出顺序则相反。下面就本实用新型的如图1所示的一种设有突起的坩埚使用过程进行描述。如图 1所示，在一个带密封盖的底部为方型的坩埚中的上半部分设置四对宽度大约为正方形边 长的2/5的突起。在荧光粉YAG烧结实验，坩埚底部位置即图4或图5中标注2的空间位 置中填充活性碳，并压实；将烧舟按上述方法从最靠近坩埚底部的那一对突起处开始放置， 并在每一个放置稳定后的烧舟中平铺YAG烧结前驱体；平铺完成后再放置上一层烧舟，直 至完全完成放置，盖好坩埚盖13，平稳放置在普通高温箱式炉中进行烧结，得到YAG。以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本 实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型 的保护范围之内。
权利要求1.一种用于还原气体气氛平衡的坩埚，该坩埚包括坩埚本体(11)、坩埚盖(13)，其特 征在于，所述坩埚还含有位于坩埚壁上、可用于承托物料烧结容器的数个卡槽(14)或突起 (12)，所述卡槽的个数为大于等于2的整数，突起的个数为大于等于4的双数。
2.根据权利要求1所述的用于还原气体气氛平衡的坩埚，所述物料烧结容器为烧舟⑶。
3.根据权利要求1所述的用于还原气体气氛平衡的坩埚，坩埚本体(11)的形状为圆筒 型、方盒型、梯形、倒“凸”字形、碗形中的一种。
4.根据权利要求1所述的用于还原气体气氛平衡的坩埚，所述坩埚本体的形状为方盒 型，所述数对突起分别对称分布在坩埚的两个相对的壁上，突起所在的两个壁均垂直于坩 埚底面，坩埚盖所在的平面与坩埚底面相平行。
5.根据权利要求4所述的用于还原气体气氛平衡的坩埚，与突起所在的壁相邻接的两 个平面分别为第一平面、第二平面，靠近第一平面设有相互平行的数个第一排突起，靠近第 二平面设有相互平行的数个第二排突起，与第一排突起相对的壁上对称设有第三排突起， 与第二排突起相对的壁上对称设有第四排突起，所述沿第一排突起的突起轨迹形成的直线 为第一直线，沿第二排突起的突起轨迹形成的直线为第二直线，第一直线与第二直线不相 同且相互平行。
6.根据权利要求1所述的用于还原气体气氛平衡的坩埚，所述坩埚本体的形状为方盒 型，所述数个卡槽均设在坩埚的一个壁上，卡槽所在的壁垂直于坩埚底面，坩埚盖所在的平 面与坩埚底面相平行。
7.根据权利要求1所述的用于还原气体气氛平衡的坩埚，所述坩埚本体的形状为方盒 型，所述数个卡槽均勻分布在坩埚的两个相对的壁上，卡槽所在的壁垂直于坩埚底面，坩埚 盖所在的平面与坩埚底面相平行。
8.根据权利要求6所述的用于还原气体气氛平衡的坩埚，与卡槽所在的壁相邻接的两 个平面分别为第一平面、第二平面，靠近第一平面设有相互平行的数个第一排卡槽，靠近第 二平面设有相互平行的数个第二排卡槽，所述沿第一排卡槽的卡槽轨迹形成的直线为第一 直线，沿第二排卡槽的卡槽轨迹形成的直线为第二直线，第一直线与第二直线不相同且相 互平行。
9.根据权利要求4-8任意一项所述的用于还原气体气氛平衡的坩埚，所述卡槽或突起 在所在的壁上延伸的长度占所在壁长度的1/4-2/5。
10.根据权利要求1-8任意一项所述的用于还原气体气氛平衡的坩埚，所述卡槽的个 数为大于等于3的整数，突起的个数为大于等于8的双数。
专利摘要本实用新型提供了一种用于还原气体气氛平衡的坩埚，该坩埚包括坩埚本体(11)、坩埚盖(13)，其特征在于，所述坩埚还含有位于坩埚壁上、可用于承托物料烧结容器的数个卡槽(14)或突起(12)，所述卡槽的个数为大于等于2的整数，突起的个数为大于等于4的双数。本实用新型提供的坩埚能在整个盖实的密闭环境中分层放置不同原料进行烧结，且有利于扩大烧结原料与还原气体的接触面积从而有利于烧结反应的发生。能应用在普通的箱式电炉中，且使用方便，适合工业化生产。
文档编号F27D5/00GK201779995SQ20102021337
公开日2011年3月30日 申请日期2010年5月31日 优先权日2010年5月31日
发明者周芳享, 陈秋绘 申请人:比亚迪股份有限公司