1.一种微波加热照射装置，其特征在于，包括：
反应炉，该反应炉通过照射微波来对内部所收纳的试料进行加热；
盖，该盖设置于所述反应炉，且具有一个孔；
一个微波辐射源，该一个微波辐射源配置在所述反应炉的外侧，照射微波；以及
旋转二次曲面镜，该旋转二次曲面镜配置在所述反应炉的上方，将所述微波辐射源照射来的微波经由所述盖的孔反射到所述反应炉。
2.一种微波加热照射装置，其特征在于，包括：
反应炉，该反应炉通过照射微波来对内部所收纳的试料进行加热；
盖，该盖设置于所述反应炉，且具有一个孔；
多个微波辐射源，该多个微波辐射源配置在所述反应炉的外侧，照射微波；以及
旋转二次曲面镜，与所述多个微波辐射源相对应地在所述反应炉的上方配置多个该旋转二次曲面镜，将从相对应的该微波辐射源照射来的微波经由所述盖的孔反射到所述反应炉。
3.一种微波加热照射装置，其特征在于，包括：
反应炉，该反应炉通过照射微波来对内部所收纳的试料进行加热；
盖，该盖设置于所述反应炉，且具有多个孔；
多个微波辐射源，该多个微波辐射源配置在所述反应炉的外侧，照射微波；以及
旋转二次曲面镜，与所述多个微波辐射源相对应地在所述反应炉的上方配置多个该旋转二次曲面镜，将从相对应的该微波辐射源照射来的微波经由互不相同的所述盖的孔反射到所述反应炉。
4.如权利要求1所述的微波加热照射装置，其特征在于，
具备凹凸部，该凹凸部设置在所述盖的与所述反应炉的内侧相对的面，使微波进行漫反射。
5.如权利要求2所述的微波加热照射装置，其特征在于，
具备凹凸部，该凹凸部设置在所述盖的与所述反应炉的内侧相对的面，使微波进行漫反射。
6.如权利要求3所述的微波加热照射装置，其特征在于，
具备凹凸部，该凹凸部设置在所述盖的与所述反应炉的内侧相对的面，使微波进行漫反射。
7.如权利要求1所述的微波加热照射装置，其特征在于，
具备凹凸部，该凹凸部设置在所述反应炉的内侧的侧壁，使微波进行漫反射。
8.如权利要求2所述的微波加热照射装置，其特征在于，
具备凹凸部，该凹凸部设置在所述反应炉的内侧的侧壁，使微波进行漫反射。
9.如权利要求3所述的微波加热照射装置，其特征在于，
具备凹凸部，该凹凸部设置在所述反应炉的内侧的侧壁，使微波进行漫反射。
10.如权利要求1所述的微波加热照射装置，其特征在于，
具备盖板，该盖板设置在所述盖的孔，使微波通过。
11.如权利要求2所述的微波加热照射装置，其特征在于，
具备盖板，该盖板设置在所述盖的孔，使微波通过。
12.如权利要求3所述的微波加热照射装置，其特征在于，
具备盖板，该盖板设置在所述盖的孔，使微波通过。
13.如权利要求1所述的微波加热照射装置，其特征在于，
具备加热部，该加热部设置在所述反应炉的外部，对该反应炉进行加热。
14.如权利要求2所述的微波加热照射装置，其特征在于，
具备加热部，该加热部设置在所述反应炉的外部，对该反应炉进行加热。
15.如权利要求3所述的微波加热照射装置，其特征在于，
具备加热部，该加热部设置在所述反应炉的外部，对该反应炉进行加热。
16.如权利要求1所述的微波加热照射装置，其特征在于，
所述微波辐射源是可自由调整辐射的微波的振幅和相位的有源相控阵天线。
17.如权利要求2所述的微波加热照射装置，其特征在于，
所述微波辐射源是可自由调整辐射的微波的振幅和相位的有源相控阵天线。
18.如权利要求3所述的微波加热照射装置，其特征在于，
所述微波辐射源是可自由调整辐射的微波的振幅和相位的有源相控阵天线。