一种用于真空自耗电弧炉稳弧搅拌的多总线模式电源的制作方法

本实用新型属于冶金领域，涉及一种用于真空自耗电弧炉稳弧搅拌的多总线模式电源。

背景技术：

随着现代工业发展,对真空自耗熔炼冶金铸锭质量有了更高的要求, 稳弧搅拌是真空自耗电弧炉的重要工艺环节,稳弧控制器的控制精度及其自动化程度直接影响铸锭产品品质。现有真空自耗电弧炉多采用直流调速器的方式对稳弧线圈进行控制，由于调速器的设计原理并不是基于电弧炉，造成在控制系统设计及响应时间上造成很多的问题，而高品质的熔炼铸锭对于稳弧控制有苛刻的要求，改善这些问题对于提高产品质量有着重要的意义。

技术实现要素：

为克服上述现有技术的不足，本发明的目的是提供一种用于真空自耗电弧炉稳弧搅拌的多总线模式电源，由自耗电弧炉稳弧电源控制分站3上的三种接口形式组成多总线的控制系统，解决了现有电弧炉中采用普通直流调速器来进行搅拌线圈电流控制而带来的接口模式不合适,带来的响应速度过慢,主控系统连接组网困难的问题,其接口模式灵活,响应速度快可靠性高,可以更好的满足特种合金真空自耗电弧炉生产工艺的要求。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：一种用于真空自耗电弧炉稳弧搅拌的多总线模式电源，包括有设在电源控制分站上的分站CPU模块，分站CPU模块上的RJ-45 接口和Miodbus接口及跟分站CPU模块连接在一起的分站DP模块上的DP接口；上位监控系统通过RJ-45 接口、Profinet总线与分站CPU模块相连,实现与电源控制站的数据直接读取；DP Master主站通过DP接口、Profibus总线与分站DP模块相连，实现主从控制功能；分站CPU模块通过Modbus接口连接电源控制器，实现对功率元器件的实时控制；电源控制器与铸锭坩埚的搅拌线圈相连。

所述的搅拌线圈缠绕在铸锭坩埚上，通过电源控制器的电流控制实现真空自耗电弧炉稳弧搅拌的控制。

所述上位监控系统为真空自耗电弧炉监控软件，安装在带数据接口的工控计算机上。

所述主站DP Master为西门子S7-400PLC。

所述控制CPU模块为S7-200Smart，DP模块为SmartDP01模块。

所述控制CPU通过DP模块与DP Master实现主从通信。

所述电源控制器为专用的真空自耗电弧炉稳弧线圈用电源。

所述控制CPU模块通过Modbus接口与电源控制器连接。

本实用新型与现有技术相比具有以下优点：

本实用新型采用多总线模式电源设备通过集成多个总线接口,控制系统响应速度快,解决了与多个系统连接组网困难的问题,可以更好的满足特种合金真空熔炼的需要。

附图说明

图1本实用新型结构原理框图结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的结构原理和工作原理作进一步详细说明。

参见图1，一种用于真空自耗电弧炉稳弧搅拌的多总线模式电源，包括有设在电源控制分站3上的分站CPU模块7，分站CPU模块7上的RJ-45 接口4和Miodbus接口6及跟分站CPU模块7连接在一起的分站DP模块8上的DP接口5；上位监控系统1通过RJ-45 接口4 、Profinet总线与分站CPU模块7相连,实现与电源控制站的数据直接读取；DP Master主站2通过DP接口5 、Profibus总线与分站DP模块8相连，实现主从控制功能；分站CPU模块7通过Modbus接口6连接电源控制器9，实现对功率元器件的实时控制；电源控制器9与铸锭坩埚11的搅拌线圈10相连。

所述的搅拌线圈10缠绕在铸锭坩埚11上，通过电源控制器9的电流控制实现真空自耗电弧炉稳弧搅拌的控制。

所述上位监控系统为真空自耗电弧炉监控软件，安装在带数据接口的工控计算机上。

所述主站DP Master为西门子S7-400PLC。

所述控制CPU模块为S7-200Smart，DP模块为SmartDP01模块。

所述控制CPU通过DP模块与DP Master实现主从通信。

所述电源控制器为专用的真空自耗电弧炉稳弧线圈用电源。

所述控制CPU模块通过Modbus接口与电源控制器连接。

本实用新型由自耗电弧炉稳弧电源控制分站3上的三种接口形式组成多总线的控制系统，自耗电弧炉稳弧电源控制分站3上设有分站CPU模块7，分站CPU模块7上的RJ-45 接口4和Miodbus接口6，以及跟分站CPU模块7连接在一起的分站DP模块8上的DP接口5；上位监控系统1通过RJ-45 接口4 Profinet总线实现与电源CPU上的连接,实现与电源控制站的数据直接读取； DP Master主站2通过DP接口5 Profibus总线实现主从控制功能；分站CPU模块7通过Modbus接口6连接稳弧搅拌电源设备9，实现对功率元器件的实时控制；搅拌线圈10缠绕在铸锭坩埚11上，通过对稳弧搅拌电源设备9的电流控制实现真空自耗电弧炉稳弧搅拌的控制。