一种硅片红外烘烤装置的制作方法

文档序号:25744298发布日期:2021-07-06 19:04阅读:187来源:国知局
一种硅片红外烘烤装置的制作方法

1.本实用新型属于硅片生产设备领域,尤其是涉及一种硅片红外烘烤装置。


背景技术:

2.硅片生产过程中,清洗好的硅片表面吸附着一层水膜,着水膜除不净,表面干燥度差,会对硅片的质量造成一定影响。硅片在清洗完后需要对其表面进行烘干作业,由于硅片厚度较薄,采用常规烤箱进行烘干极易因受热不均而造成裂片,同时在烘烤过程中也会出现各种脏污,如果不对烤箱结构进行专门设计脏污就会聚集在烤箱内,随着时间的积累烤箱变得越来越脏,烘烤后的硅片表面也不干净。因此急需一种烘烤效果好、能耗低的硅片烘干装置。


技术实现要素:

3.有鉴于此,本实用新型旨在克服上述现有技术中存在的缺陷,提出一种硅片红外烘烤装置。
4.为达到上述目的,本实用新型的技术方案是这样实现的:
5.一种硅片红外烘烤装置,包括工作台、转盘、ffu风机过滤机组、片篮;
6.所述工作台为三层结构,中间层设有与转盘对应的安装位,底层设有用于驱动转盘转动的驱动组件,上层用于安装ffu风机过滤机组;
7.所述中间层还设有柱形外壳,转盘置于柱形外壳内;所述转盘上设有若干用于放置片篮的工作位;
8.所述柱形外壳顶部中心向上延伸设有锥形结构,锥形结构顶部为排风口;所述柱形外壳顶部锥形结构四周设有若干送风口,所述送风口通过风管连接 ffu风机过滤机组。
9.进一步的,所述工作台的中间层,与转盘工作位对应的位置设有l型灯架;所述l型灯架上设有用于加热的红外灯。
10.进一步的,位于所述柱形外壳进出口位置的l型灯架上设有双红外灯。
11.进一步的,所述工作位共八个,每个所述工作位上设有两个片篮;所述片篮位于红外灯下方。
12.进一步的,所述柱形外壳内还设有温度控制模块,相邻的两个所述红外灯连接同一个温度控制模块;所述温度控制模块的型号为chb401

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13.进一步的,所述排风口通过风管连接排风设备。
14.进一步的,所述送风口的数量为四个,分别通过风管连接ffu风机过滤机组的四个出风口。
15.相对于现有技术,本实用新型具有以下优势:
16.采用ffu风机过滤机组送风,烘烤过程更洁净;多工位工作,可以放置更多的硅片片篮,烘烤效率更高;采用红外灯与转盘的组合,使烘烤效果更好。
附图说明
17.构成本实用新型的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
18.图1为本实用新型实施例所述的烘烤装置示意图;
19.图2为本实用新型实施例所述的烘烤装置内部结构示意图。
20.附图标记说明:
21.1、工作台;2、保温外壳;3、ffu风机过滤机组;4、排风口;5、送风口;6、风管;7、红外灯;701、双红外灯;8、片篮。
具体实施方式
22.需要说明的是,在不冲突的情况下,本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
23.在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
24.在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以通过具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
25.下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。
26.如附图1和2所示,一种硅片红外烘烤装置,包括工作台1、转盘、ffu 风机过滤机组3、片篮8;
27.所述工作台1为三层结构,中间层设有与转盘对应的安装位,底层设有用于驱动转盘转动的驱动组件,上层用于安装ffu风机过滤机组3;
28.所述中间层还设有柱形外壳,转盘置于柱形外壳内;所述转盘上设有若干用于放置片篮8的工作位;
29.所述柱形外壳顶部中心向上延伸设有锥形结构,锥形结构顶部为排风口 4;所述柱形外壳顶部锥形结构四周设有若干送风口5,所述送风口5通过风管6连接ffu风机过滤机组3。
30.所述工作台1的中间层,与转盘工作位对应的位置设有l型灯架;所述 l型灯架上设有用于加热的红外灯7,采用红外线加热配合ffu风机过滤机组3更加清洁高效。
31.位于所述柱形外壳进出口位置的l型灯架上设有双红外灯7,使加热更均匀。
32.所述工作位共八个,每个所述工作位上设有两个片篮8;所述片篮8位于红外灯7下方。所述柱形外壳内还设有温度控制模块,相邻的两个所述红外灯7连接同一个温度控制模块;所述温度控制模块的型号为chb401

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33.所述排风口4通过风管6连接排风设备,更便于气体的排出。
34.所述送风口5的数量为四个,分别通过风管6连接ffu风机过滤机组3 的四个出风口,环向吹风,使烘烤受热更加均匀,效果更好。
35.①
本设备适用五寸聚四氟花篮摆放方式如图所示,共八个工位,每个工位放两篮;
36.②
烘烤出入口:气动门保温、上部ffu送风、出口料盒检测装置;
37.③
红外烘烤:外部sus304板有保温层,中部红外加热管控温,使用温度150℃左右,红外烘烤范围六个工位。其中进出口为双双红外灯7 (2*700w)单独温度控制,中间四个工位单灯(700w),相邻两灯公用一个温度控制,备注:本方案中红外灯7采用u型管,直接出线方式,与设备电源连接方式为中间陶瓷块方式。控温,型号chb401

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38.④
ffu送风:主ffu风机分出四个出风口,分别供给进出口各一个、烘烤部分一个;出料、待料区域上部为透明pc板,中间加强支撑,上部 ffu送风口5。ffu,型号bh2*2l

1;ffu通过风管6连接送风口5。
39.⑤
排风装置:如上图所示,排风采用上排方式,可将烘烤部分产生的气味通过转盘与烘烤内侧缝隙排出。
40.⑥
控制系统:采用4.3寸彩色触摸屏,plc控制可自由设定转盘每个工位停留时间。转盘速度可调。温度控制分4个温区,pid运算,ssr过零触发控温。触摸屏一体机,型号mm_20mr_6mt_430a_fx_a。
41.3、操作流程
42.此设备一人操作,如上图所示,将待烘干的产品放置在入口对应工位上,经六个工位间歇运动,烘烤最后到出料口,操作人员将产品取出。
43.本设备共八个工位,其中两个工位在外,另外六个工位在红外箱内,转盘速度可以通过调速盒无级调整。转盘间歇运行,每次转过一个工位。
44.设备启动后,转盘动作是:
45.开门

转(速度可调)

停(时间可触摸屏设定)

关门

开门





关门

开门





关门

以此往复。
46.通过调整转盘速度和工位等待时间两个因素,最终可调整每一个硅片要求的烘烤时间。所述转盘的旋转组件为现有技术,非本方案的保护内容。
47.以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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