专利名称：一种新的多模式A<sup>2</sup>／0氧化沟的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种废水处理装置。
背景技术：
多模式A2 / O氧化沟工艺是将A2 / O工艺与氧化沟工艺相结合的污水处理工艺，由于这种工艺有效地发挥了 A2 / O脱氮除磷与氧化沟工艺高效去除有机污染物的优点，日前得到越来越广泛的应用。申请人分析了某污水厂的多模式A2 / O氧化沟工艺在应用过程中遇到的问题，并且申请人对该污水厂运行稳定后的数据进行了分析，并根据各污染物的达标天数考察多模式A2 / O氧化沟工艺对污染物的处理效果。发现，在多模式A2 / O氧化沟工艺运行中，对C0D&、BOD5, NH3-N, TN的处理效果较好，对TP的处理效果不太理想，在442 d的监测过程中只有364 d达标，达标天数只占82.3%，没有充分发挥A2 / O工艺的脱氮除磷优势。
发明内容本实用新型旨在提供一 种能降低出水中TP含量的新的多模式A2 / O氧化沟。本实用新型所述的一种新的多模式A2 / O氧化沟，包括依次相连的粗格栅，配水井，细格栅及曝气沉砂池，A2 / O氧化沟，二沉池，接触消毒池和高位井，其特征在于接触消毒池和高位井之间还设有高效沉淀池。本实用新型有效地降低了污水厂出水中TP含量，使污水厂实现了出水TP的稳定达标。
图1为实施例一的结构示意图。
具体实施方式
实施例一。一种新的多模式A2 / O氧化沟，包括依次相连的粗格栅，配水井，细格栅及曝气沉砂池，A2 / O氧化沟，二沉池，接触消毒池、高效沉淀池和高位井。将其进行试运行，情况见下表。表I
权利要求1.一种新的多模式A2 / O氧化沟，包括依次相连的粗格栅，配水井，细格栅及曝气沉砂池，A2 / O氧化沟，二沉池，接触消毒池和高位井，其特征在于接触消毒池和高位井之间还设有1 效沉淀 池。
专利摘要本实用新型涉及一种废水处理装置。本实用新型所述的一种新的多模式A2／0氧化沟，包括依次相连的粗格栅，配水井，细格栅及曝气沉砂池，A2／0氧化沟，二沉池，接触消毒池和高位井，其特征在于接触消毒池和高位井之间还设有高效沉淀池。本实用新型有效地降低了污水厂出水中TP含量，使污水厂实现了出水TP的稳定达标。
文档编号C02F9/14GK203048736SQ20122070131
公开日2013年7月10日 申请日期2012年12月18日 优先权日2012年12月18日
发明者周莉英 申请人:陕西宣和通科技发展有限责任公司